一種導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置制造方法
【專利摘要】一種導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置。本發(fā)明為了解決現(xiàn)有技術(shù)的生產(chǎn)工序較長、成本高、占用場地多和導(dǎo)電薄膜熱處理過程存在傳送張力，會導(dǎo)致薄膜被拉伸變形和使用上產(chǎn)生熱收縮的缺陷。技術(shù)方案要點(diǎn)：是一個真空封閉室，其內(nèi)設(shè)有特定的放卷室、濺鍍室和收卷室，特征是濺鍍室和收卷室之間設(shè)有熱處理室，熱處理室與濺鍍室之間由帶有縫口的濺鍍室隔板隔開，熱處理室與收卷室之間由帶有縫口的收卷室隔板隔開，導(dǎo)電薄膜先從濺鍍室隔板的縫口進(jìn)入熱處理室進(jìn)行熱處理后才從收卷室隔板的縫口進(jìn)入收卷室，導(dǎo)電薄膜在熱處理室內(nèi)是以自然懸垂?fàn)顟B(tài)進(jìn)行傳送，熱處理室內(nèi)在導(dǎo)電薄膜的自然懸垂傳送路徑的上下兩側(cè)處設(shè)有加熱器。放卷室和濺鍍室之間還可以設(shè)有濺鍍預(yù)加熱室。
【專利說明】一種導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及導(dǎo)電薄膜的成型設(shè)備，具體是一種導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]導(dǎo)電薄膜是一種目前已經(jīng)廣泛應(yīng)用于平板顯示、屏式觸控技術(shù)、太陽能電池板、太陽能控制膜、防止起霧除霜玻璃、冰玻璃、防靜電涂層等諸多領(lǐng)域的材料。結(jié)構(gòu)是在薄膜基材的一面附著有透明導(dǎo)電層，附著導(dǎo)電層可以采用濺鍍、脈沖激光沉積、真空蒸鍍、化學(xué)氣相沉積、溶膠凝膠法等技術(shù)手段來實現(xiàn)。
[0003]導(dǎo)電薄膜的濺鍍工藝，就是在真空狀態(tài)充入惰性氣體的環(huán)境下，在塑膠薄膜基材(陽極)和金屬靶材(陰極)之間加上高壓直流電，通過輝光放電產(chǎn)生的電子激發(fā)惰性氣體，產(chǎn)生等離子體將金屬靶材的原子轟出，沉積在薄膜基材上。金屬靶材(陰極)可以采用ITO(氧化銦錫)、IGZO (氧化銦鎵鋅)、ITiO (氧化銦鈦)、AZO (氧化鋁鋅)、ZnO (氧化鋅)中的一種。
[0004]導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型設(shè)備，有如臺灣專利申請第TW201250027A1號中的設(shè)備部分，是一個真空封閉室內(nèi)依次設(shè)置有放卷室、濺鍍預(yù)加熱室、第一濺鍍室、第二濺鍍室、收卷室，第一濺鍍室和第二濺鍍室內(nèi)各設(shè)有膜薄傳送輥筒，在薄膜傳送輥筒的外側(cè)各分布有若干個金屬靶材陰極，濺鍍預(yù)加熱過程的膜薄傳送是由若干導(dǎo)向輥進(jìn)行有張力傳送。
[0005]導(dǎo)電薄膜濺鍍成型后一般需要進(jìn)行熱處理(或稱退火)，一是為了促使導(dǎo)電薄膜的透明導(dǎo)電層形成結(jié)晶，以提高導(dǎo)電薄膜的使用壽命；二是讓導(dǎo)電薄膜進(jìn)行預(yù)先熱收縮，避免日后使用上會出現(xiàn)熱收縮。當(dāng)將整卷傳送的導(dǎo)電薄膜進(jìn)行熱處理時，如果導(dǎo)電薄膜的加熱過程存在傳送張力，導(dǎo)電薄膜就會被拉伸變形，日后使用也會容易產(chǎn)生熱收縮現(xiàn)象，傳送張力過大時還會造成透明導(dǎo)電層破裂。
`[0006]導(dǎo)電薄膜濺鍍成型后的熱處理設(shè)備，有如臺灣專利申請第TW201221363A1號中的設(shè)備部分，是一個可以減少導(dǎo)電薄膜加熱過程的傳送張力的技術(shù)方案。其加熱裝置采用熱風(fēng)加熱方式，加熱裝置內(nèi)設(shè)有多個上下交叉對吹的熱風(fēng)嘴，導(dǎo)電薄膜作水平傳送經(jīng)過加熱爐時由于熱風(fēng)嘴上下交叉鼓風(fēng)而形成懸浮狀態(tài)，從而減少了加熱過程的傳送張力。但是加熱過程對導(dǎo)電薄膜鼓風(fēng)也會形成對導(dǎo)電薄膜的一定張力且張力不很均勻，所以這種消除張力的加熱效果不佳。
[0007]使用上述已有技術(shù)存在的缺點(diǎn):一是濺鍍成型設(shè)備和濺鍍成型后的熱處理設(shè)備各為獨(dú)立設(shè)備，造成整個導(dǎo)電薄膜生產(chǎn)工序較長，生產(chǎn)成本較高，設(shè)備占用場地較多；二是導(dǎo)電薄膜熱處理過程仍然存在一定的傳送張力，會導(dǎo)致導(dǎo)電薄膜被拉伸變形和日后使用容易產(chǎn)生熱收縮；三是濺鍍預(yù)加熱的膜薄傳送是有張力傳送，會導(dǎo)致導(dǎo)電薄膜被拉伸變形而影響導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型質(zhì)量；四是分布在薄膜傳送輥筒外側(cè)的若干個金屬靶材陰極沒有分隔開，會造成濺鍍均勻性較差。

【發(fā)明內(nèi)容】
[0008]本發(fā)明的主要目的是提供一種改進(jìn)的導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置，以克服現(xiàn)有技術(shù)的整個導(dǎo)電薄膜生產(chǎn)工序較長、生產(chǎn)成本較高、設(shè)備占用場地較多和導(dǎo)電薄膜熱處理過程仍然存在一定的傳送張力，會導(dǎo)致導(dǎo)電薄膜被拉伸變形和日后使用容易產(chǎn)生熱收縮的缺陷。本發(fā)明的另外目的是進(jìn)一步改進(jìn)，以克服現(xiàn)有技術(shù)的濺鍍預(yù)加熱的膜薄傳送是有張力傳送，導(dǎo)致導(dǎo)電薄膜被拉伸變形而影響導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型質(zhì)量和濺鍍均勻性的缺陷。
[0009]本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:一種導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置，是一個真空封閉室，其內(nèi)設(shè)置有放卷室、濺鍍室和收卷室，濺鍍室內(nèi)設(shè)有膜薄傳送輥筒，薄膜傳送輥筒外側(cè)分布有若干個金屬靶材陰極，薄膜基材從放卷室的放卷機(jī)構(gòu)輸出、進(jìn)入濺鍍室繞薄膜傳送輥筒傳送、由金屬靶材陰極釋放的粒子濺鍍在薄膜基材上而成為導(dǎo)電薄膜、然后進(jìn)入收卷室為收卷機(jī)構(gòu)所收卷，其特征是:所述濺鍍室和收卷室之間設(shè)有熱處理室，熱處理室與濺鍍室之間由帶有縫口的濺鍍室隔板隔開，熱處理室與收卷室之間由帶有縫口的收卷室隔板隔開，導(dǎo)電薄膜是先從濺鍍室隔板的縫口進(jìn)入熱處理室進(jìn)行熱處理后才從收卷室隔板的縫口進(jìn)入收卷室，導(dǎo)電薄膜在熱處理室內(nèi)是以自然懸垂?fàn)顟B(tài)進(jìn)行傳送，熱處理室內(nèi)在導(dǎo)電薄膜的自然懸垂傳送路徑的上下兩側(cè)處設(shè)有加熱器。
[0010]上述技術(shù)方案所述的真空封閉室內(nèi)可以由若干傳送輥與放卷機(jī)構(gòu)、薄膜傳送輥筒和收卷機(jī)構(gòu)等配合構(gòu)成薄膜基材及其導(dǎo)電薄膜的傳送路徑。
[0011]上述技術(shù)方案所述的濺鍍室內(nèi)在濺鍍室隔板的縫口處可以設(shè)有一對傳送速度限定輥、熱處理室內(nèi)在濺鍍室隔板的縫口處可以設(shè)有懸垂限位輥，所述收卷室內(nèi)在收卷室隔板的縫口處可以設(shè)有一對傳送速度限定輥、加熱室內(nèi)在收卷室隔板的縫口處可以設(shè)有懸垂限位輥，傳送速度限定輥可以是由一對有動力驅(qū)動的壓滾組成。
[0012]上述技術(shù)方案所述的熱處理室內(nèi)在導(dǎo)電薄膜的自然懸垂傳送路徑上的上下兩側(cè)加熱器的后面可以設(shè)有冷卻器，使得加熱后的導(dǎo)電薄膜在接觸到懸垂限位輥之前，先得到冷卻，以避免導(dǎo)電薄膜溫度過高接觸懸垂限位輥時對膜表面產(chǎn)生不良影響。
[0013]上述技術(shù)方案所述的熱處理室內(nèi)在與導(dǎo)電薄膜的懸垂底部相對應(yīng)處可以設(shè)有測量懸垂底部位置的光電傳感器。
[0014]上述技術(shù)方案所述的放卷室和濺鍍室之間可以設(shè)有濺鍍預(yù)加熱室，濺鍍預(yù)加熱室與放卷室之間由帶有縫口的放卷室隔板隔開，濺鍍預(yù)加熱室與濺鍍室之間由帶有縫口的濺鍍預(yù)加熱室隔板隔開，薄膜基材是先從放卷室隔板的縫口進(jìn)入濺鍍預(yù)加熱室進(jìn)行預(yù)加熱后才從濺鍍預(yù)加熱室隔板的縫口進(jìn)入濺鍍室，薄膜基材在濺鍍預(yù)加熱室內(nèi)是以自然懸垂?fàn)顟B(tài)進(jìn)行傳送，濺鍍預(yù)加熱室內(nèi)在薄膜基材的自然懸垂傳送路徑的上下兩側(cè)處設(shè)有加熱器。
[0015]上述技術(shù)方案所述的放卷室內(nèi)在放卷室隔板的縫口處可以設(shè)有一對傳送速度限定輥、濺鍍預(yù)加熱室內(nèi)在放卷室隔板的縫口處可以設(shè)有懸垂限位輥，所述濺鍍室內(nèi)在濺鍍預(yù)加熱室隔板的縫口處可以設(shè)有一對傳送速度限定輥、濺鍍預(yù)加熱室內(nèi)在濺鍍預(yù)加熱室隔板的縫口處可以設(shè)有懸垂限位輥，傳送速度限定輥可以是由一對有動力驅(qū)動的壓滾組成。
[0016]上述技術(shù)方案所述的濺鍍預(yù)加熱室內(nèi)在與薄膜基材的懸垂底部相對應(yīng)處可以設(shè)有測量懸垂底部位置的光電傳感器。
[0017]上述技術(shù)方案所述的濺鍍室內(nèi)可以在薄膜傳送輥筒上的薄膜基材切入處的待濺鍍表面一側(cè)設(shè)有電漿處理器。電漿處理器是用來提高薄膜基材待濺鍍表面的反應(yīng)活性、浸潤性和粘著性。[0018]上述技術(shù)方案所述的濺鍍室內(nèi)可以在每二個相鄰金屬靶材陰極之間設(shè)有隔板。
[0019]上述技術(shù)方案所述的金屬靶材陰極可以是平板電極或柱形電極，還可以采用雙電極。
[0020]本發(fā)明的有益效果:一是由于濺鍍室和收卷室之間設(shè)有熱處理室，熱處理室與濺鍍室之間由帶有縫口的濺鍍室隔板隔開，熱處理室與收卷室之間由帶有縫口的收卷室隔板隔開，導(dǎo)電薄膜是先從濺鍍室隔板的縫口進(jìn)入熱處理室進(jìn)行熱處理后才從收卷室隔板的縫口進(jìn)入收卷室，所以導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型工藝和濺鍍成型后的熱處理工藝可以在同一臺設(shè)備上完成，整個導(dǎo)電薄膜生產(chǎn)工序短，降低了生產(chǎn)成本，減少設(shè)備使用場地；二是由于導(dǎo)電薄膜在熱處理室內(nèi)是以自然懸垂?fàn)顟B(tài)進(jìn)行傳送，所以導(dǎo)電薄膜在熱處理室內(nèi)加熱的過程是處于無張力狀態(tài)，這樣導(dǎo)電薄膜不會在加熱時被拉伸變形，也能夠達(dá)到預(yù)先熱收縮的較佳效果，解決了日后使用上容易產(chǎn)生熱收縮的問題；三是由于熱處理室也是處于真空狀態(tài)，同時熱處理室內(nèi)設(shè)有熱輻射加熱的加熱器，加熱過程導(dǎo)電薄膜不會抖動和被吹脹，所以薄膜基材不會碰觸到上下兩側(cè)的加熱器，這樣就可以在薄膜基材的自然懸垂傳送路徑的上下兩側(cè)處都設(shè)有加熱器，從而提高了導(dǎo)電薄膜的熱收縮均勻度和加熱效率；四是由于放卷室和濺鍍室之間可以設(shè)有濺鍍預(yù)加熱室，薄膜基材在濺鍍預(yù)加熱室內(nèi)是以自然懸垂?fàn)顟B(tài)進(jìn)行傳送，濺鍍預(yù)加熱室內(nèi)在薄膜基材的自然懸垂傳送路徑的上下兩側(cè)處設(shè)有加熱器，所以濺鍍預(yù)加熱的膜薄傳送也是無張力傳送，避免了導(dǎo)電薄膜在濺鍍預(yù)加熱過程被拉伸變形而在濺鍍時受熱收縮產(chǎn)生皺褶，影響濺鍍成型質(zhì)量；五是濺鍍室內(nèi)可以在每二個相鄰金屬靶材陰極之間設(shè)有隔板，可以有效提高濺鍍成型的均勻性。
[0021]以下結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明作進(jìn)一步說明。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0022]圖1是本發(fā)明一種實施例的示意圖。
[0023]圖2是本發(fā)明另一種實施例的示意圖。
[0024]圖中:1、真空封閉室；2、放卷室；3、濺鍍室；4、收卷室；5、膜薄傳送輥筒；6、金屬革巴材陰極；7、薄膜基材；8、放卷機(jī)構(gòu)；9、導(dǎo)電薄膜；10、收卷機(jī)構(gòu)；11、熱處理室；12、縫口 ；13、濺鍍室隔板；14、縫口 ；15、收卷室隔板；16、17和18、加熱器；19、傳送輥；20、傳送速度限定棍；21、懸垂限位棍；22、傳送速度限定棍；23、懸垂限位棍；24、冷卻器；25、懸垂底部；26和27、光電傳感器；28、電衆(zhòng)處理器；29、傳送速度光電檢測器；30、金屬祀材陰極；31、隔板；32、放卷室；33、濺鍍室；34、濺鍍預(yù)加熱室；35、縫口 ；36、放卷室隔板；37、縫口 ；38、濺鍍預(yù)加熱室隔板；39、薄膜基材；40和41、加熱器；42、傳送速度限定輥；43、懸垂限位輥；44、傳送速度限定棍；45、懸垂限位棍；46、懸垂底部；47和48、光電傳感器。
【具體實施方式】
[0025]參照圖1，本導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置，是一個真空封閉室1，其內(nèi)設(shè)置有放卷室
2、濺鍍室3和收卷室4，濺鍍室3內(nèi)設(shè)有膜薄傳送輥筒5，薄膜傳送輥筒5外側(cè)分布有若干個金屬靶材陰極6等，薄膜基材7從放卷室2的放卷機(jī)構(gòu)8輸出、進(jìn)入濺鍍室3繞薄膜傳送輥筒5傳送、由金屬靶材陰極6等釋放的粒子濺鍍在薄膜基材上而成為導(dǎo)電薄膜9、然后進(jìn)入收卷室4為收卷機(jī)構(gòu)10所收卷，其特征是:所述濺鍍室3和收卷室4之間設(shè)有熱處理室11，熱處理室11與濺鍍室3之間由帶有縫口 12的濺鍍室隔板13隔開，熱處理室11與收卷室4之間由帶有縫口 14的收卷室隔板15隔開，導(dǎo)電薄膜9是先從濺鍍室隔板13的縫口 12進(jìn)入熱處理室11進(jìn)行熱處理后才從收卷室隔板15的縫口 14進(jìn)入收卷室4，導(dǎo)電薄膜9在熱處理室11內(nèi)是以自然懸垂?fàn)顟B(tài)進(jìn)行傳送，熱處理室11內(nèi)在導(dǎo)電薄膜9的自然懸垂傳送路徑的上下兩側(cè)處設(shè)有加熱器16、17、18。[0026]另外，真空封閉室I內(nèi)由若干傳送輥19等與放卷機(jī)構(gòu)8、薄膜傳送輥筒5和收卷機(jī)構(gòu)10等配合構(gòu)成薄膜基材7及其導(dǎo)電薄膜9的傳送路徑；濺鍍室3內(nèi)在濺鍍室隔板13的縫口 12處設(shè)有一對傳送速度限定輥20、熱處理室11內(nèi)在濺鍍室隔板13的縫口 12處設(shè)有懸垂限位輥21 ;收卷室4內(nèi)在收卷室隔板15的縫口 14處設(shè)有一對傳送速度限定輥22、熱處理室11內(nèi)在收卷室隔板15的縫口 14處設(shè)有懸垂限位輥23，傳送速度限定輥20和22均是由一對有動力驅(qū)動的壓滾組成；熱處理室11內(nèi)在導(dǎo)電薄膜9的自然懸垂傳送路徑上的上下兩側(cè)加熱器16、17、18的后面設(shè)有冷卻器24 ;熱處理室11內(nèi)在與導(dǎo)電薄膜9的懸垂底部25相對應(yīng)處設(shè)有測量懸垂底部25位置的光電傳感器26、27等；濺鍍室3內(nèi)在薄膜傳送輥筒5上的薄膜基材7切入處的待濺鍍表面一側(cè)還設(shè)有電漿處理器28 ;收卷室4內(nèi)在導(dǎo)電薄膜9的傳送路徑上設(shè)有傳送速度光電檢測器29 ;濺鍍室3內(nèi)在每二個相鄰金屬靶材陰極
6、30等之間均設(shè)有隔板31等。
[0027]使用上，薄膜基材7從放卷室2的放卷機(jī)構(gòu)8輸出、進(jìn)入濺鍍室3繞薄膜傳送輥筒5傳送、由金屬靶材陰極6等釋放的粒子濺鍍在薄膜基材7上而成為導(dǎo)電薄膜9，然后由傳送速度限定輥20進(jìn)行限速傳送，經(jīng)濺鍍室隔板13的縫口 12進(jìn)入熱處理室11、并分別掛在懸垂限位輥21和23上作向下自然懸垂傳送，自然懸垂傳送過程由上下兩側(cè)的加熱器16、17、18進(jìn)行熱處理，再經(jīng)冷卻器24進(jìn)行冷卻，然后經(jīng)收卷室隔板15的縫口 14進(jìn)入收卷室
4、為收卷機(jī)構(gòu)10所收卷，光電傳感器26、27等將導(dǎo)電薄膜9的懸垂底部25位置隨時反饋給控制電路、傳送速度光電檢測器29將導(dǎo)電薄膜9的傳送線速度隨時反饋給控制電路，作為整機(jī)運(yùn)行控制依據(jù)。
[0028]參照圖2，本導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置，與圖1的導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置比較，其不同點(diǎn)在于:放卷室32和濺鍍室33之間設(shè)有濺鍍預(yù)加熱室34，濺鍍預(yù)加熱室34與放卷室32之間由帶有縫口 35的放卷室隔板36隔開，濺鍍預(yù)加熱室34與濺鍍室33之間由帶有縫口 37的濺鍍預(yù)加熱室隔板38隔開，薄膜基材39是先從放卷室隔板36的縫口 35進(jìn)入濺鍍預(yù)加熱室34進(jìn)行預(yù)加熱后才從濺鍍預(yù)加熱室隔板38的縫口 37進(jìn)入濺鍍室33，薄膜基材39在濺鍍預(yù)加熱室34內(nèi)是以自然懸垂?fàn)顟B(tài)進(jìn)行傳送，濺鍍預(yù)加熱室34內(nèi)在薄膜基材39的自然懸垂傳送路徑的上下兩側(cè)處設(shè)有加熱器40、41等。
[0029]另外，放卷室32內(nèi)在放卷室隔板36的縫口 35處設(shè)有一對傳送速度限定輥42、濺鍍預(yù)加熱室34內(nèi)在放卷室隔板36的縫口 35處設(shè)有懸垂限位輥43 ;濺鍍室33內(nèi)在濺鍍預(yù)加熱室隔板38的縫口 37處設(shè)有一對傳送速度限定輥44、濺鍍預(yù)加熱室34內(nèi)在濺鍍預(yù)加熱室隔板38的縫口 37處設(shè)有懸垂限位輥45 ;傳送速度限定輥42和44均是由一對有動力驅(qū)動的壓滾組成；濺鍍預(yù)加熱室34內(nèi)在與薄膜基材39的懸垂底部46相對應(yīng)處設(shè)有測量懸垂底部46位置的光電傳感器47、48等。
[0030]其他結(jié)構(gòu)與圖1所示的導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置相同。
[0031]使用上，薄膜基材39從放卷室32的放卷機(jī)構(gòu)輸出、由傳送速度限定輥42作限速傳送，經(jīng)放卷室隔板36的縫口 35進(jìn)入濺鍍預(yù)加熱室34、并分別掛在懸垂限位輥43和45上作向下自然懸垂傳送，自然懸垂傳送過程由上下兩側(cè)的加熱器40、41等進(jìn)行濺鍍前的預(yù)加熱，然后濺鍍經(jīng)預(yù)加熱室隔板38的縫口 37進(jìn)入濺鍍室33、并由傳送速度限定輥44作限速傳送后、繞在薄膜傳送輥筒上傳送、進(jìn)行濺鍍成型，光電傳感器47、48等將薄膜基材39的懸垂底部46位置隨時反饋給控制電路，作為整機(jī)運(yùn)行控制依據(jù)。其他使用方法與圖1所示的導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置相同。`
【權(quán)利要求】
1.一種導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置，是一個真空封閉室，其內(nèi)設(shè)置有放卷室、濺鍍室和收卷室，濺鍍室內(nèi)設(shè)有膜薄傳送輥筒，薄膜傳送輥筒外側(cè)分布有若干個金屬靶材陰極，薄膜基材從放卷室的放卷機(jī)構(gòu)輸出、進(jìn)入濺鍍室繞薄膜傳送輥筒傳送、由金屬靶材陰極釋放的粒子濺鍍在薄膜基材上而成為導(dǎo)電薄膜、然后進(jìn)入收卷室為收卷機(jī)構(gòu)所收卷，其特征是:所述濺鍍室和收卷室之間設(shè)有熱處理室，熱處理室與濺鍍室之間由帶有縫口的濺鍍室隔板隔開，熱處理室與收卷室之間由帶有縫口的收卷室隔板隔開，導(dǎo)電薄膜是先從濺鍍室隔板的縫口進(jìn)入熱處理室進(jìn)行熱處理后才從收卷室隔板的縫口進(jìn)入收卷室，導(dǎo)電薄膜在熱處理室內(nèi)是以自然懸垂?fàn)顟B(tài)進(jìn)行傳送，熱處理室內(nèi)在導(dǎo)電薄膜的自然懸垂傳送路徑的上下兩側(cè)處設(shè)有加熱器。
2.按權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置，其特征是所述濺鍍室內(nèi)在濺鍍室隔板的縫口處設(shè)有一對傳送速度限定輥、熱處理室內(nèi)在濺鍍室隔板的縫口處設(shè)有懸垂限位輥，所述收卷室內(nèi)在收卷室隔板的縫口處設(shè)有一對傳送速度限定輥、加熱室內(nèi)在收卷室隔板的縫口處設(shè)有懸垂限位輥。
3.按權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置，其特征是所述熱處理室內(nèi)在導(dǎo)電薄膜的自然懸垂傳送路徑上的上下兩側(cè)加熱器的后面設(shè)有冷卻器。
4.按權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置，其特征是所述濺鍍室內(nèi)可以在薄膜傳送棍筒上的薄膜基材切入處的待派鍍表面一側(cè)設(shè)有電衆(zhòng)處理器。
5.按權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置，其特征是所述濺鍍室內(nèi)在每二個相鄰金屬靶材陰極之間設(shè)有隔板。
6.按權(quán)利要求1、2、3、4或5所述的導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置，其特征是所述熱處理室內(nèi)在與導(dǎo)電薄膜的懸垂底部相對應(yīng)處設(shè)有測量懸垂底部位置的光電傳感器。
7.按權(quán)利要求1、2、3、4或5所述的導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置，其特征是所述放卷室和濺鍍室之間設(shè)有濺鍍預(yù)加熱室，濺鍍`預(yù)加熱室與放卷室之間由帶有縫口的放卷室隔板隔開，濺鍍預(yù)加熱室與濺鍍室之間由帶有縫口的濺鍍預(yù)加熱室隔板隔開，薄膜基材是先從放卷室隔板的縫口進(jìn)入濺鍍預(yù)加熱室進(jìn)行預(yù)加熱后才從濺鍍預(yù)加熱室隔板的縫口進(jìn)入濺鍍室，薄膜基材在濺鍍預(yù)加熱室內(nèi)是以自然懸垂?fàn)顟B(tài)進(jìn)行傳送，濺鍍預(yù)加熱室內(nèi)在薄膜基材的自然懸垂傳送路徑的上下兩側(cè)處設(shè)有加熱器。
8.按權(quán)利要求7所述的導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置，其特征是所述放卷室內(nèi)在放卷室隔板的縫口處設(shè)有一對傳送速度限定輥、濺鍍預(yù)加熱室內(nèi)在放卷室隔板的縫口處設(shè)有懸垂限位輥，所述濺鍍室內(nèi)在濺鍍預(yù)加熱室隔板的縫口處設(shè)有一對傳送速度限定輥、濺鍍預(yù)加熱室內(nèi)在濺鍍預(yù)加熱室隔板的縫口處設(shè)有懸垂限位輥。
9.按權(quán)利要求7所述的導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置，其特征是所述濺鍍預(yù)加熱室內(nèi)在與薄膜基材的懸垂底部相對應(yīng)處設(shè)有測量懸垂底部位置的光電傳感器。
【文檔編號】C23C14/34GK103484825SQ201310480314
【公開日】2014年1月1日 申請日期:2013年10月15日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月15日
【發(fā)明者】杜成城, 劉比爾 申請人:汕頭萬順包裝材料股份有限公司光電薄膜分公司