一種透明導(dǎo)電電極加工裝置的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種透明導(dǎo)電電極加工裝置，包括模板體，所述模板體上設(shè)置有密封環(huán)、接觸件和通氣孔，所述密封環(huán)和接觸件固定在模板體靠近透明導(dǎo)電材料的一側(cè)，所述接觸件位于密封環(huán)內(nèi)，所述密封環(huán)和接觸件之間形成非接觸腔，所述通氣孔設(shè)置在模板體非接觸腔處，所述通氣孔為兩個(gè)以上。本實(shí)用新型中模板體可以與透明導(dǎo)電材料充分接觸，非接觸腔在透明導(dǎo)電材料表面形成反應(yīng)區(qū)域，為反應(yīng)氣體與導(dǎo)電層反應(yīng)提供空間，通過反應(yīng)使導(dǎo)電層中部分導(dǎo)電材料轉(zhuǎn)化為不導(dǎo)電材料，從而得到圖案化的電極，并且導(dǎo)電區(qū)域和非導(dǎo)電區(qū)域光學(xué)性能差異極低，能夠?qū)崿F(xiàn)完全消影蝕刻，在實(shí)際應(yīng)用中效果顯著，且采用本實(shí)用新型制備透明導(dǎo)電電極流程簡(jiǎn)單，制備成本低。
【專利說(shuō)明】
一種透明導(dǎo)電電極加工裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及透明導(dǎo)電電極領(lǐng)域，特別是，涉及一種透明導(dǎo)電電極加工裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，透明電極的材料主要包括透明導(dǎo)電氧化物薄膜、碳納米管、石墨烯、導(dǎo)電聚合物、金屬網(wǎng)格、金屬納米線等。ITO透明電極憑借其高透明度和高導(dǎo)電性占有了大部分的市場(chǎng)份額。但I(xiàn)TO電極需要使用真空氣相沉積的方法制備，且含有稀有元素銦，因而成本較高，且ITO具有脆性，無(wú)法在柔性器件中使用。因而人們開始尋找其他透明電極材料，金屬納米線由于其較低的成本、較高的性能、對(duì)柔性器件的良好適應(yīng)性而倍受青睞。較厚的金屬膜雖然不透明，但若將其進(jìn)行網(wǎng)格狀圖案化使之成為金屬網(wǎng)格，則將成為能與金屬納米線想媲美的透明導(dǎo)電電極。并且金屬導(dǎo)電材料配合石墨烯、碳納米管、導(dǎo)電高分子、金屬氧化物半導(dǎo)體材料都可以得到更好的適用性。
[0003]在液晶顯示、0LED(有機(jī)電致發(fā)光)、觸摸屏、太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域的實(shí)際應(yīng)用中，常常需要圖案化的透明導(dǎo)電電極來(lái)完成各種功能。對(duì)于現(xiàn)有的透明導(dǎo)電材料，現(xiàn)有技術(shù)已有多種圖案化方法，包括激光燒蝕，黃光工藝的化學(xué)刻蝕方法，絲印蝕刻膏的化學(xué)蝕刻，噴墨印刷蝕刻液等方法。但現(xiàn)有方法都會(huì)導(dǎo)致蝕刻區(qū)和非蝕刻區(qū)存在較大光學(xué)性能差異，而且有對(duì)環(huán)境有較大污染，制備流程復(fù)雜，制備成本較高的缺點(diǎn)。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型的目的在于提供一種透明導(dǎo)電電極加工裝置，本實(shí)用新型中模板體可以與透明導(dǎo)電材料充分接觸，非接觸腔在透明導(dǎo)電材料表面形成反應(yīng)區(qū)域，為反應(yīng)氣體與導(dǎo)電層反應(yīng)提供空間，通過反應(yīng)使導(dǎo)電層中部分導(dǎo)電材料轉(zhuǎn)化為不導(dǎo)電材料，從而得到圖案化的電極，并且導(dǎo)電區(qū)域和非導(dǎo)電區(qū)域光學(xué)性能差異極低，能夠?qū)崿F(xiàn)完全消影蝕刻，在實(shí)際應(yīng)用中效果顯著，且采用本實(shí)用新型制備透明導(dǎo)電電極流程簡(jiǎn)單，制備成本低。
[0005]為解決上述問題，本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案如下:
[0006]—種透明導(dǎo)電電極加工裝置，包括模板體，所述模板體上設(shè)置有密封環(huán)、接觸件和通氣孔，所述密封環(huán)和接觸件固定在模板體靠近透明導(dǎo)電材料的一側(cè)，所述接觸件位于密封環(huán)內(nèi)，所述密封環(huán)和接觸件之間形成非接觸腔，所述通氣孔設(shè)置在模板體非接觸腔處，所述通氣孔為兩個(gè)以上。
[0007]所述模板體為輥型。
[0008]還包括吸附平臺(tái)，所述模板體為平板型，所述模板體設(shè)置在吸附平臺(tái)上。
[0009]還包括用于將模板體壓緊在吸附平臺(tái)上的壓緊件。
[0010]所述吸附平臺(tái)內(nèi)部設(shè)置有加熱模塊。
[0011]所述吸附平臺(tái)對(duì)應(yīng)模板體的非接觸腔處設(shè)置有導(dǎo)氣孔。
[0012]還包括柔性保護(hù)膜，所述柔性保護(hù)膜設(shè)置在吸附平臺(tái)和模板體之間。
[0013]所述密封環(huán)和接觸件為硅橡膠、天然橡膠、丁腈橡膠、氟橡膠、丙烯酸酯橡膠或聚氨酯材質(zhì)。
[0014]所述接觸件與透明導(dǎo)電材料接觸處內(nèi)凹有壓力腔。
[0015]相比現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型的有益效果在于:本實(shí)用新型中模板體可以與透明導(dǎo)電材料充分接觸，非接觸腔在透明導(dǎo)電材料表面形成反應(yīng)區(qū)域，為反應(yīng)氣體與導(dǎo)電層反應(yīng)提供空間，通過反應(yīng)使導(dǎo)電層中部分導(dǎo)電材料轉(zhuǎn)化為不導(dǎo)電材料，從而得到圖案化的電極，并且導(dǎo)電區(qū)域和非導(dǎo)電區(qū)域光學(xué)性能差異極低，能夠?qū)崿F(xiàn)完全消影蝕刻，在實(shí)際應(yīng)用中效果顯著，且采用本實(shí)用新型制備透明導(dǎo)電電極流程簡(jiǎn)單，制備成本低。
【附圖說(shuō)明】
[0016]圖1為實(shí)施例1中透明導(dǎo)電電極加工裝置使用狀態(tài)圖；
[0017]圖2為本實(shí)用新型中透明導(dǎo)電電極加工裝置結(jié)構(gòu)示意圖；
[0018]圖3為圖2中A-A剖面圖；
[0019]圖4為實(shí)施例2中透明導(dǎo)電電極加工裝置使用狀態(tài)圖；
[0020]圖5為實(shí)施例3中透明導(dǎo)電電極加工裝置使用狀態(tài)圖；
[0021]圖6為實(shí)施例4中透明導(dǎo)電電極加工裝置使用狀態(tài)圖；
[0022]其中，I為模板體、11為密封環(huán)、12為接觸件、121為壓力腔、13為通氣孔、2為吸附平臺(tái)、21為導(dǎo)氣孔、3為壓緊件、4為柔性保護(hù)膜、5為透明導(dǎo)電材料。
【具體實(shí)施方式】
[0023]下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。
[0024]實(shí)施例1
[0025]如圖1-3所示，透明導(dǎo)電電極加工裝置包括模板體1、吸附平臺(tái)2和用于將模板體I壓緊在吸附平臺(tái)2上的壓緊件3，模板體I為平板型，模板體I設(shè)置在吸附平臺(tái)2上，模板體I上設(shè)置有密封環(huán)11、接觸件12和通氣孔13，密封環(huán)11和接觸件12固定在模板體I靠近透明導(dǎo)電材料的一側(cè)，接觸件12位于密封環(huán)11內(nèi)，密封環(huán)11和接觸件12之間形成非接觸腔，通氣孔13設(shè)置在模板體I非接觸腔處，通氣孔13為兩個(gè)以上。
[0026]使用時(shí)，透明導(dǎo)電材料5吸附在吸附平臺(tái)2上，模板體I在壓緊件3作用下與透明導(dǎo)電材料5充分接觸，密封環(huán)11和接觸件12充分抵持在透明導(dǎo)電材料5上，非接觸腔在透明導(dǎo)電材料5表面形成反應(yīng)區(qū)域，通過通氣孔13向反應(yīng)區(qū)域?qū)敕磻?yīng)氣體，反應(yīng)結(jié)束后獲得透明導(dǎo)電電極。
[0027]吸附平臺(tái)2可以實(shí)現(xiàn)透明導(dǎo)電材料5的充分固定，壓緊件3作用于模板體I，實(shí)現(xiàn)模板體I在透明導(dǎo)電材料5上的壓緊，保證模板體I與透明導(dǎo)電材料5的充分接觸，非接觸腔在透明導(dǎo)電材料5表面形成反應(yīng)區(qū)域，為反應(yīng)氣體與導(dǎo)電層反應(yīng)提供空間，保證了反應(yīng)正常進(jìn)行的同時(shí)，有效保護(hù)了導(dǎo)電層的非反應(yīng)區(qū)域。
[0028]實(shí)施例2
[0029]如圖4所示，透明導(dǎo)電電極加工裝置包括模板體1、吸附平臺(tái)2和用于將模板體I壓緊在吸附平臺(tái)2上的壓緊件3，模板體I為平板型，模板體I設(shè)置在吸附平臺(tái)2上，模板體I上設(shè)置有密封環(huán)11、接觸件12和通氣孔13，密封環(huán)11和接觸件12固定在模板體I靠近透明導(dǎo)電材料的一側(cè)，接觸件12與透明導(dǎo)電材料5接觸處內(nèi)凹有壓力腔121，接觸件12位于密封環(huán)11內(nèi)，密封環(huán)11和接觸件12之間形成非接觸腔，通氣孔13設(shè)置在模板體I非接觸腔處，通氣孔13為兩個(gè)以上。
[0030]使用時(shí)，透明導(dǎo)電材料5吸附在吸附平臺(tái)2上，模板體I在壓緊件3作用下與透明導(dǎo)電材料5充分接觸，密封環(huán)11和接觸件12充分抵持在透明導(dǎo)電材料5上，非接觸腔在透明導(dǎo)電材料5表面形成反應(yīng)區(qū)域，通過通氣孔13向反應(yīng)區(qū)域?qū)敕磻?yīng)氣體，反應(yīng)結(jié)束后獲得透明導(dǎo)電電極。
[0031]吸附平臺(tái)2可以實(shí)現(xiàn)透明導(dǎo)電材料5的充分固定，壓緊件3作用于模板體I，實(shí)現(xiàn)模板體I在透明導(dǎo)電材料5上的壓緊，保證模板體I與透明導(dǎo)電材料5的充分接觸，非接觸腔在透明導(dǎo)電材料5表面形成反應(yīng)區(qū)域，為反應(yīng)氣體與導(dǎo)電層反應(yīng)提供空間，保證了反應(yīng)正常進(jìn)行;壓力腔121可以保證導(dǎo)電層的非反應(yīng)區(qū)域內(nèi)壓力恒定，從而有效保護(hù)了導(dǎo)電層的非反應(yīng)區(qū)域不受反應(yīng)氣體影響。
[0032]實(shí)施例3
[0033]如圖5所示，透明導(dǎo)電電極加工裝置包括模板體1、吸附平臺(tái)2、用于將模板體I壓緊在吸附平臺(tái)2上的壓緊件3和柔性保護(hù)膜4，模板體I為平板型，模板體I設(shè)置在吸附平臺(tái)2上，模板體I上設(shè)置有密封環(huán)11、接觸件12和通氣孔13，密封環(huán)11和接觸件12固定在模板體I靠近透明導(dǎo)電材料的一側(cè)，接觸件12與透明導(dǎo)電材料5接觸處內(nèi)凹有壓力腔121，接觸件12位于密封環(huán)11內(nèi)，密封環(huán)11和接觸件12之間形成非接觸腔，通氣孔13設(shè)置在模板體I非接觸腔處，通氣孔13為兩個(gè)以上;吸附平臺(tái)2對(duì)應(yīng)模板體I的非接觸腔處設(shè)置有導(dǎo)氣孔21，柔性保護(hù)膜4設(shè)置在吸附平臺(tái)2和模板體I之間。
[0034]使用時(shí)，透明導(dǎo)電材料5吸附在吸附平臺(tái)2上，透明導(dǎo)電材料5對(duì)應(yīng)導(dǎo)氣孔21處設(shè)置有通孔，柔性保護(hù)膜4覆蓋在透明導(dǎo)電材料5上，模板體I在壓緊件3作用下與柔性保護(hù)膜4充分接觸，密封環(huán)11和接觸件12充分抵持在柔性保護(hù)膜4上，柔性保護(hù)膜4與透明導(dǎo)電材料5在非接觸腔處形成反應(yīng)區(qū)域，通過導(dǎo)氣孔21向反應(yīng)區(qū)域?qū)敕磻?yīng)氣體，柔性保護(hù)膜4在反應(yīng)區(qū)域形成鼓泡，反應(yīng)結(jié)束后獲得透明導(dǎo)電電極。
[0035]吸附平臺(tái)2可以實(shí)現(xiàn)透明導(dǎo)電材料5的充分固定，壓緊件3作用于模板體I，實(shí)現(xiàn)模板體I在柔性保護(hù)膜4上的壓緊，保證模板體I與柔性保護(hù)膜4的充分接觸，柔性保護(hù)膜4與透明導(dǎo)電材料5在非接觸腔處形成反應(yīng)區(qū)域，通氣后，鼓泡內(nèi)為反應(yīng)氣體與導(dǎo)電層反應(yīng)提供空間，保證了反應(yīng)正常進(jìn)行;密封環(huán)11和接觸件12抵持在柔性保護(hù)膜4處由于壓緊無(wú)法進(jìn)入反應(yīng)氣體，從而有效保護(hù)了導(dǎo)電層的非反應(yīng)區(qū)域的導(dǎo)電性。
[0036]實(shí)施例4
[0037]如圖6所示，本實(shí)用新型中透明導(dǎo)電電極加工裝置包括模板體I，模板體I為輥型，模板體I上設(shè)置有密封環(huán)11、接觸件12和通氣孔13，密封環(huán)11和接觸件12固定在模板體I靠近透明導(dǎo)電材料的一側(cè)，接觸件12位于密封環(huán)11內(nèi)，密封環(huán)11和接觸件12之間形成非接觸腔，通氣孔13設(shè)置在模板體I非接觸腔處，通氣孔13為兩個(gè)以上。
[0038]使用時(shí)，通過外力牽引，模板體I可以與透明導(dǎo)電材料5充分接觸，密封環(huán)11和接觸件12充分抵持在透明導(dǎo)電材料5上，非接觸腔在透明導(dǎo)電材料5表面形成反應(yīng)區(qū)域，通過通氣孔13向反應(yīng)區(qū)域?qū)敕磻?yīng)氣體，反應(yīng)結(jié)束后獲得透明導(dǎo)電電極。反應(yīng)區(qū)域?yàn)榉磻?yīng)氣體與導(dǎo)電層反應(yīng)提供空間，保證了反應(yīng)正常進(jìn)行的同時(shí)，密封環(huán)11和接觸件12充分抵持在透明導(dǎo)電材料5上，有效保護(hù)了導(dǎo)電層非反應(yīng)區(qū)域的導(dǎo)電性。
[0039]上述實(shí)施例1-3中，吸附平臺(tái)2內(nèi)部可以設(shè)置有加熱模塊，實(shí)現(xiàn)反應(yīng)時(shí)溫度的有效控制。
[0040]上述實(shí)施例4中，模板體I內(nèi)部可以設(shè)置有加熱模塊，也可以在導(dǎo)電材料背面處設(shè)置輔助加熱裝置，實(shí)現(xiàn)反應(yīng)時(shí)溫度的有效控制。
[0041]上述實(shí)施例1-4中，密封環(huán)11和接觸件12可以為硅橡膠、天然橡膠、丁腈橡膠、氟橡膠、丙烯酸酯橡膠或聚氨酯材質(zhì)，均能實(shí)現(xiàn)相應(yīng)的保護(hù)導(dǎo)電層的效果。
[0042]本實(shí)用新型中模板體可以與透明導(dǎo)電材料充分接觸，非接觸腔在透明導(dǎo)電材料表面形成反應(yīng)區(qū)域，為反應(yīng)氣體與導(dǎo)電層反應(yīng)提供空間，通過反應(yīng)使導(dǎo)電層中部分導(dǎo)電材料轉(zhuǎn)化為不導(dǎo)電材料，從而得到圖案化的電極，并且導(dǎo)電區(qū)域和非導(dǎo)電區(qū)域光學(xué)性能差異極低，能夠?qū)崿F(xiàn)完全消影蝕刻，在實(shí)際應(yīng)用中效果顯著，且采用本實(shí)用新型制備透明導(dǎo)電電極流程簡(jiǎn)單，制備成本低。
[0043]對(duì)本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，可根據(jù)以上描述的技術(shù)方案以及構(gòu)思，做出其它各種相應(yīng)的改變以及形變，而所有的這些改變以及形變都應(yīng)該屬于本實(shí)用新型權(quán)利要求的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種透明導(dǎo)電電極加工裝置，其特征在于，包括模板體，所述模板體上設(shè)置有密封環(huán)、接觸件和通氣孔，所述密封環(huán)和接觸件固定在模板體靠近透明導(dǎo)電材料的一側(cè)，所述接觸件位于密封環(huán)內(nèi)，所述密封環(huán)和接觸件之間形成非接觸腔，所述通氣孔設(shè)置在模板體非接觸腔處，所述通氣孔為兩個(gè)以上。2.如權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電電極加工裝置，其特征在于，所述模板體為輥型。3.如權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電電極加工裝置，其特征在于，還包括吸附平臺(tái)，所述模板體為平板型，所述模板體設(shè)置在吸附平臺(tái)上。4.如權(quán)利要求3所述的透明導(dǎo)電電極加工裝置，其特征在于，還包括用于將模板體壓緊在吸附平臺(tái)上的壓緊件。5.如權(quán)利要求3所述的透明導(dǎo)電電極加工裝置，其特征在于，所述吸附平臺(tái)內(nèi)部設(shè)置有加熱模塊。6.如權(quán)利要求5所述的透明導(dǎo)電電極加工裝置，其特征在于，所述吸附平臺(tái)對(duì)應(yīng)模板體的非接觸腔處設(shè)置有導(dǎo)氣孔。7.如權(quán)利要求6所述的透明導(dǎo)電電極加工裝置，其特征在于，還包括柔性保護(hù)膜，所述柔性保護(hù)膜設(shè)置在吸附平臺(tái)和模板體之間。8.如權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電電極加工裝置，其特征在于，所述密封環(huán)和接觸件為硅橡膠、天然橡膠、丁腈橡膠、氟橡膠、丙烯酸酯橡膠或聚氨酯材質(zhì)。9.如權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電電極加工裝置，其特征在于，所述接觸件與透明導(dǎo)電材料接觸處內(nèi)凹有壓力腔。
【文檔編號(hào)】H01B13/00GK205621518SQ201620348645
【公開日】2016年10月5日
【申請(qǐng)日】2016年4月22日
【發(fā)明人】陳初群
【申請(qǐng)人】陳初群