專利名稱：一種傳動加熱系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種傳動加熱系統(tǒng)，具體地講是涉及一種化學(xué)氣相淀積工藝反應(yīng)腔室中的傳動加熱系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
光伏應(yīng)用的未來市場發(fā)展，特別是用于與電網(wǎng)相連的光伏電廠的應(yīng)用，關(guān)鍵取決于降低太陽能電池生產(chǎn)成本的潛力。薄膜太陽能電池生產(chǎn)過程能耗低，具備大幅度降低原材料和制造成本的潛力；同時，薄膜太陽能電池在弱光條件下仍可發(fā)電。因此，目前市場對薄膜太陽能電池的需求正逐漸增長，而制造薄膜太陽能電池的技術(shù)更成為近年來的研究熱點。ZnO是一種N型直接帶隙半導(dǎo)體材料，室溫下禁帶寬度Eg為3. 37eV。由于其原材料豐富且無毒，具有高電導(dǎo)和高透過率，并且在H等離子體環(huán)境中性能穩(wěn)定，因此，在太陽能電池領(lǐng)域，ZnO作為透明導(dǎo)電氧化物薄膜可進一步提高Si薄膜太陽能電池的效率和穩(wěn)定性，加快產(chǎn)業(yè)化進程。作為陷光結(jié)構(gòu)的絨面ZnO薄膜前電極和背反射電極顯得尤為重要。ZnO的生長方法有很多，包括脈沖激光沉積、低壓金屬有機物化學(xué)氣相沉積、射頻/中頻/直流濺射、電子束和熱反應(yīng)蒸發(fā)、等離子體化學(xué)氣相沉積、噴霧熱分解和溶膠-凝膠法等，其中低壓金屬有機物化學(xué)氣相沉積是目前普遍被采用和工業(yè)化的方法。在低壓金屬有機物化學(xué)氣相沉積中，玻璃基板靠傳動裝置輸送到金屬氣體反應(yīng)腔內(nèi)，由于該氣體在溫度200°C時反應(yīng)最強烈，所以在反應(yīng)過程中，玻璃基板是被放置在加熱板上進行沉積的。由滾輪輸送到玻璃基板被放置在加熱板上這一過程如下當(dāng)玻璃被滾輪輸送到預(yù)定位置后，由位于加熱板下方的頂針系統(tǒng)升起托住玻璃基板從而離開滾輪，這時滾輪系統(tǒng)向兩側(cè)收縮讓開玻璃下方所在區(qū)域，之后頂針系統(tǒng)下降將玻璃放置在加熱板表 面，再開始進行后續(xù)的工藝。由此可以看出，整個工藝腔室的傳輸系統(tǒng)主要由可升降的頂針系統(tǒng)、可伸縮的玻璃傳送裝置系統(tǒng)等組成?？缮档捻斸樝到y(tǒng)主要由升降氣缸、頂針托盤、頂針等組成?？缮炜s玻璃傳送裝置系統(tǒng)又是主要由傳送滾輪裝置、金屬波紋管、伸縮滑臺、伸縮滑臺氣缸組件、伸縮滑臺滑動軌道等組成。如圖1、2所示，具體結(jié)構(gòu)包括玻璃基板的傳送裝置I、傳送裝置的伸縮驅(qū)動滑臺2、金屬波紋管3、工藝反應(yīng)腔室4、真空裝置抽口 5、加熱臺6、加熱板頂針孔7、金屬波紋管連接法蘭8、傳送裝置滑臺滑軌9、頂針10、頂針托盤11和升降氣缸12等。另外還包括傳送裝置伸縮滑臺的驅(qū)動系統(tǒng)等?？梢钥闯觯摲N傳動加熱的整體結(jié)構(gòu)非常復(fù)雜。同時，由于傳送物玻璃的性質(zhì)，所以頂針系統(tǒng)在升降的過程中運動的速度都是十分緩慢的，否則會導(dǎo)致玻璃的破碎。另外由于玻璃是和頂針系統(tǒng)托盤上的頂針接觸的，玻璃是面和點的接觸，在真空及高溫的條件下，由于玻璃基板材質(zhì)的特殊性，這同樣增加了玻璃在真空腔室內(nèi)破碎的風(fēng)險。對于玻璃滾動傳輸系統(tǒng)而言，由于滾動傳輸系統(tǒng)的滑臺部分與腔室側(cè)壁的連接時通過波紋管來連接的，波紋管是柔性的，這大大增加了滑臺上的滾動傳輸裝置在腔室內(nèi)部傳輸?shù)乃叫哉{(diào)整的難度。同時金屬波紋管是具有設(shè)計使用壽命的部件，其設(shè)計使用壽命遠遠低于玻璃傳送滾動裝置與氣體反應(yīng)腔室的設(shè)計使用壽命。所以整套傳輸系統(tǒng)既很復(fù)雜且可靠性得不到保證，同時玻璃基板破碎的風(fēng)險較大。從另外的角度講，由于頂針系統(tǒng)的存在及這樣的一種玻璃升降的方式，加大了加熱臺下部的空間的尺寸，從而加大了真空泵的功率及降低了氣體的使用效率。

實用新型內(nèi)容本實用新型提供了一種化學(xué)氣相淀積工藝反應(yīng)腔室中的傳動加熱系統(tǒng)，極大地簡化了傳輸和加熱結(jié)構(gòu)，降低了成本；加強了傳輸穩(wěn)定性，降低了玻璃基板破碎率，易于維護和調(diào)整。為解決上述技術(shù)問題，本實用新型技術(shù)方案如下一種傳動加熱系統(tǒng)，包括安裝在反應(yīng)腔室側(cè)壁上的滾輪傳動裝置和設(shè)于反應(yīng)腔室 底部的升降支撐裝置，加熱板直接設(shè)在升降支撐裝置上，加熱板靠近傳動滾輪的兩側(cè)邊緣設(shè)有使傳動滾輪通過的凹槽。所述滾輪傳動裝置包括滾輪、僅支持徑向運動而不支持軸向運動的傳動軸和帶動傳動軸轉(zhuǎn)動的電機。所述升降支撐裝置包括加熱板托架和帶動加熱板托架上下移動的升降氣缸。在反應(yīng)腔室以及加熱板等設(shè)計時，可以按照比預(yù)定尺寸或標(biāo)準(zhǔn)尺寸稍大一些的尺寸設(shè)計，至少保證玻璃基板鍍膜、磨邊完成后其尺寸能夠不小于該預(yù)定尺寸或標(biāo)準(zhǔn)尺寸?；谏鲜龅膫鲃蛹訜嵯到y(tǒng)的傳動加熱方法，當(dāng)反應(yīng)物進入到反應(yīng)腔室內(nèi)部，滾輪傳動裝置將反應(yīng)物傳送到工作位置，升降支撐裝置將加熱板升起，穿過滾輪，將反應(yīng)物托起并使其離開滾輪，開始加熱過程；加熱過程結(jié)束后，升降支撐裝置帶動加熱板及反應(yīng)物下降，加熱板穿過滾輪回到原位，反應(yīng)物重新落在滾輪上，滾輪傳動裝置將反應(yīng)物出送出反應(yīng)腔室。反應(yīng)物為玻璃基板。加熱板與玻璃基板為面-面接觸。玻璃基板被傳送出反應(yīng)腔室后，經(jīng)過磨邊工藝，將其磨至預(yù)定尺寸或標(biāo)準(zhǔn)尺寸。本實用新型提供的傳動加熱系統(tǒng)，改變了現(xiàn)有技術(shù)中的滾輪傳動裝置的結(jié)構(gòu)，省去了金屬波紋管，滾動裝置滑臺，滾動裝置滑臺滑軌，滾動裝置伸縮驅(qū)動氣缸等裝置；除保留升降氣缸外，將現(xiàn)有技術(shù)中的頂針系統(tǒng)去除，包括頂針托盤，頂針等；直接降低了設(shè)備成本，更重要的是有效降低了玻璃基板在傳送過程中破碎的風(fēng)險，間接降低了生產(chǎn)成本。同時將加熱板的外形結(jié)構(gòu)做相應(yīng)的改變，以使加熱板在升降的過程中與滾輪不發(fā)生干涉，極大的提高了傳輸系統(tǒng)的穩(wěn)定性，整個系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡單，易于調(diào)整和維護。

圖I是傳統(tǒng)傳動加熱系統(tǒng)俯視結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是傳統(tǒng)傳動加熱系統(tǒng)剖面結(jié)構(gòu)示意圖；圖3是本實用新型的傳動加熱系統(tǒng)俯視結(jié)構(gòu)示意圖；圖4是本實用新型的傳動加熱系統(tǒng)剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式

以下結(jié)合附圖和具體實施方式
對本實用新型作進一步詳細(xì)的說明。實施例I一種傳動加熱系統(tǒng)，如圖3、4所示，包括安裝在反應(yīng)腔室側(cè)壁上的滾輪傳動裝置和設(shè)于反應(yīng)腔室底部的升降支撐裝置，加熱板6直接設(shè)在升降支撐裝置上，加熱板6靠近滾輪13的兩側(cè)邊緣設(shè)有使?jié)L輪13通過的凹槽14。滾輪傳動裝置包括滾輪13、僅支持徑向運動而不支持軸向運動的傳動軸16和帶動傳動軸轉(zhuǎn)動的電機15。升降支撐裝置包括加熱板托架17和帶動加熱板托架17上下移動的升降氣缸12?；谏鲜龅膫鲃蛹訜嵯到y(tǒng)的傳動加熱方法，當(dāng)玻璃基板進入到反應(yīng)腔室內(nèi)部，滾輪傳動裝置將玻璃基板傳送到工作位置，升降支撐裝置將加熱板6升起，穿過滾輪13，將玻璃基板托起并使其離開滾輪13，加熱板6與玻璃基板為面-面接觸，然后開始加熱過程；力口熱過程結(jié)束后，升降支撐裝置帶動加熱板6及玻璃基板下降，加熱板6穿過滾輪13回到原位，玻璃基板重新落在滾輪13上，滾輪傳動裝置將玻璃基板出送出反應(yīng)腔室。玻璃基板被傳送出反應(yīng)腔室后，經(jīng)過磨邊工藝，將其磨至預(yù)定尺寸。
權(quán)利要求1.一種傳動加熱系統(tǒng)，包括安裝在反應(yīng)腔室側(cè)壁上的滾輪傳動裝置和設(shè)于反應(yīng)腔室底部的升降支撐裝置，其特征在于加熱板直接設(shè)在升降支撐裝置上，加熱板靠近傳動滾輪的兩側(cè)邊緣設(shè)有使傳動滾輪通過的凹槽。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的傳動加熱系統(tǒng)，其特征在于所述滾輪傳動裝置包括滾輪、僅支持徑向運動而不支持軸向運動的傳動軸和帶動傳動軸轉(zhuǎn)動的電機。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的傳動加熱系統(tǒng)，其特征在于所述升降支撐裝置包括加熱板托架和帶動加熱板托架上下移動的升降氣缸。
專利摘要本實用新型涉及一種傳動加熱系統(tǒng)，具體地講是涉及一種化學(xué)氣相淀積工藝反應(yīng)腔室中的傳動加熱系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括安裝在反應(yīng)腔室側(cè)壁上的滾輪傳動裝置和設(shè)于反應(yīng)腔室底部的升降支撐裝置，加熱板直接設(shè)在升降支撐裝置上，加熱板靠近傳動滾輪的兩側(cè)邊緣設(shè)有使傳動滾輪通過的凹槽。該系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡單，極大地簡化了傳輸和加熱結(jié)構(gòu)，降低了成本；加強了傳輸穩(wěn)定性，降低了玻璃基板破碎率，易于維護和調(diào)整。
文檔編號C23C16/46GK202380086SQ20112053422
公開日2012年8月15日 申請日期2011年12月19日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月19日
發(fā)明者吳國發(fā), 崔軍, 辛科 申請人:漢能科技有限公司