專利名稱：一種濺射靶材的冷卻裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及濺鍍等行業(yè)的濺射靶材的冷卻技術(shù)，特別涉及用某些高硬度、高
熔點(diǎn)材料制作的靶環(huán)的循環(huán)水冷卻裝置。
背景技術(shù)：
目前國(guó)內(nèi)外的磁控濺射設(shè)備，其濺射源-靶，無論是平面磁控濺射靶還是同軸磁 控濺射靶，其共同特征是都以循環(huán)水作為冷媒對(duì)濺射靶管內(nèi)壁進(jìn)行冷卻，以提高其工效及 使用壽命，此種結(jié)構(gòu)如附圖l所示。而對(duì)某些熔點(diǎn)、硬度很高的材料，如碳化鎢等合金，由于 采用粉末冶金等方法成型，一般成型為長(zhǎng)度約300mm左右靶環(huán)3，使用時(shí)由多個(gè)靶環(huán)套裝在 骨架4'上，冷卻水從進(jìn)水管1進(jìn)入，沿進(jìn)水管穿過磁芯，在靶環(huán)骨架的內(nèi)壁進(jìn)行熱交換后， 從出口8流出。進(jìn)出水管都在靶頭2上，而靶座7與靶頭通過骨架連接。這種結(jié)構(gòu)的弊端 就是被冷卻水直接冷卻的是骨架，耙環(huán)是通過骨架間接被冷卻的，所以冷卻的效率不高。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種改進(jìn)的濺射靶材的冷卻裝置，使冷卻 效率更高，濺射靶的使用壽命更長(zhǎng)。 為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型采用如下的技術(shù)方案 —種濺射靶材的冷卻裝置，包括一支撐骨架、多個(gè)套設(shè)在支撐骨架上的靶環(huán)，支撐 骨架內(nèi)設(shè)有一穿過磁芯的進(jìn)水管及一排水管，在所述靶環(huán)與所述支撐骨架之間設(shè)有一套 環(huán)，所述套環(huán)套設(shè)在所述支撐骨架上，所述套環(huán)與所述支撐骨架之間設(shè)有沖孔網(wǎng)。 進(jìn)一步地，所述套環(huán)兩端各設(shè)有一用于固定套環(huán)的壓環(huán)。 本專利裝置由于結(jié)構(gòu)上在靶環(huán)內(nèi)壁采用沖孔網(wǎng)加薄金屬套結(jié)構(gòu)代替常規(guī)鋼管骨 架，使熱交換的間隔層厚度大大的降低，從而提高了冷卻效率，延長(zhǎng)了靶環(huán)的的使用壽命。
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)說明


圖1為現(xiàn)有技術(shù)中濺射靶冷卻裝置的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2為本實(shí)用新型冷卻裝置的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖3為本實(shí)用新型冷卻裝置的局部剖視具體實(shí)施方式如圖2為本實(shí)用新型冷卻裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；一種濺射靶材的冷卻裝置，包括一 支撐骨架4、多個(gè)套設(shè)在支撐骨架4上的靶環(huán)3，支撐骨架4內(nèi)設(shè)有一穿過磁芯6的進(jìn)水管 1及一排水管8，在靶環(huán)3與支撐骨架4之間設(shè)有一套環(huán)5，套環(huán)5套設(shè)在支撐骨架4上，套 環(huán)5與支撐骨架4之間設(shè)有沖孔網(wǎng)8。套環(huán)5被兩端的壓環(huán)9固定，冷卻水從進(jìn)水口 l進(jìn) 入，流過置于磁芯6中的進(jìn)水管，充滿整個(gè)磁芯6外圍，同時(shí)穿過沖孔網(wǎng)4壓迫不銹鋼薄套環(huán)5，套環(huán)5在冷卻水的靜壓力及工作腔體內(nèi)負(fù)壓的雙重作用下向外突起，因?yàn)槭艿綖R射靶
環(huán)3內(nèi)壁的約束而使二者充分接觸，進(jìn)行熱交換，使靶環(huán)3得到充分冷卻。 本實(shí)用新型涉及的靶環(huán)冷卻裝置包括但不限于上述的平面或同軸磁控濺射耙。本
領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該認(rèn)識(shí)到，上述的具體實(shí)施方式
只是示例性的，是為了更好的使本領(lǐng)域技
術(shù)人員能夠理解本專利，不能理解為是對(duì)本專利包括范圍的限制，只要是根據(jù)本專利所揭
示精神的所作的任何等同變更或修飾，均落入本專利包括的范圍。
權(quán)利要求一種濺射靶材的冷卻裝置，包括一支撐骨架、多個(gè)套設(shè)在支撐骨架上的靶環(huán)，支撐骨架內(nèi)設(shè)有一穿過磁芯的進(jìn)水管及一排水管，其特征在于在所述靶環(huán)與所述支撐骨架之間設(shè)有一套環(huán)，所述套環(huán)套設(shè)在所述支撐骨架上，所述套環(huán)與所述支撐骨架之間設(shè)有沖孔網(wǎng)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種濺射靶材的冷卻裝置，其特征在于所述套環(huán)兩端各設(shè)有一用于固定套環(huán)的壓環(huán)。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種濺射靶材的冷卻裝置，包括一支撐骨架、多個(gè)套設(shè)在支撐骨架上的靶環(huán)，支撐骨架內(nèi)設(shè)有一穿過磁芯的進(jìn)水管及一排水管，在所述靶環(huán)與所述支撐骨架之間設(shè)有一套環(huán)，所述套環(huán)套設(shè)在所述支撐骨架上，所述套環(huán)與所述支撐骨架之間設(shè)有沖孔網(wǎng)。這種改進(jìn)的濺射靶材的冷卻裝置，使冷卻效率更高，濺射靶的使用壽命更長(zhǎng)。
文檔編號(hào)C23C14/35GK201459233SQ20092007432
公開日2010年5月12日 申請(qǐng)日期2009年7月27日 優(yōu)先權(quán)日2009年7月27日
發(fā)明者李水波 申請(qǐng)人:昆山新萊潔凈應(yīng)用材料股份有限公司