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涂布方法及固定治具的制作方法

文檔序號:3351019閱讀:118來源:國知局
專利名稱:涂布方法及固定治具的制作方法
技術領域
本發(fā)明涉及一種固定治具及涂布方法。并且特別地,本發(fā)明涉及可保護 涂布物件免于損傷的一種固定治具及一種涂布方法。
背景技術
涂布技術已發(fā)展得相當成熟并已廣泛運用于各項電子產(chǎn)品上。涂布的材 料不限于導電材質,而運用于電子產(chǎn)品上,多以涂布金屬材質最為常見。以 塑件防電磁干擾濺鍍工藝為例,并非整個塑件表面均需涂布,通常的情形是 僅需在塑件內部表面涂布,其它表面,如外部表面、塑件間的銜接面等,則 無需涂布。因此,需以治具固定、遮蔽塑件以確保所需的表面被涂布,而無 需涂布的表面仍可保持潔凈。
請參閱圖1。圖1是現(xiàn)有技術的一塑件濺鍍示意圖,其是一局部剖面圖。
固定塑件12的固定治具14包含上模142以及與上模142配合的下模144。 濺鍍系統(tǒng)的靶材16位于塑件12的正上方,其沉積方向以帶箭頭的細實線于 圖1中示出。于該現(xiàn)有技術中,下模144主要承載塑件12,上模142則由上 向下與下模144銜接以固定塑件12,并對塑件12做必要的遮蔽,使得僅需 被涂布的涂布表面暴露出來。塑件12包含一尖角122(圖1中虛線區(qū)域中的 部分),與其接觸的則是上模142的一轉角1422(亦指圖1中虛線區(qū)域中的部 分)。圖1所示為轉角1422緊密地接觸尖角122,雖在圖1中看不出有什么 問題,但在實際濺鍍工藝中,上模142與下模144合模時,上模142卻時常 會碰傷尖角122,造成塑件12出現(xiàn)瑕疵,嚴重的話,將造成塑件12成廢品。 此外,在合模時已有上述嚴重瑕疵時,因未及時察覺而仍繼續(xù)進行后續(xù)工藝 過程,會進一步造成工藝的浪費及產(chǎn)能下降。并且,于連續(xù)濺鍍工藝中,輸 送帶的運行亦可能造成尖角122不斷地與轉角1422碰撞或擠壓,同樣會造 成尖角122的損傷。

發(fā)明內容
本發(fā)明的目的在于,提供一種可保護一待涂布物件免于損傷的一種涂布 方法及其所使用的固定治具,該固定治具包含一凹陷部以避免與該物件的尖 角接觸,可大幅改善現(xiàn)有技術中,在固定該物件的過程中或是在固定后、運 送中(例如輸送帶運送)碰傷該物件的情形。
本發(fā)明的固定治具包含一上模以及一下模。該上模包含一第一側壁、一 第二側壁以及一凹陷部形成于該第一側壁與該第二側壁之間。該下模與該上 模銜接以承載一物件。該物件包含一尖角以及一涂布表面。該第一側壁與該 第二側壁接觸該物件的該尖角的兩側面,使得該尖角懸空置于該凹陷部內。
于另一結構配置,本發(fā)明的固定治具包含一上模以及一下模。該上模包 含一第一側壁。該下模包含一第二側壁,并與該上模銜接以承載該物件,一 凹陷部形成于該第一側壁與該第二側壁之間,其中該第一側壁與該第二側壁 接觸該物件的該尖角的兩側面,使得該尖角懸空置于該凹陷部內。
本發(fā)明的涂布方法包含下列步驟。首先,提供一固定治具以及一物件。 該固定治具包含一上模以及一下模。該上模包含一第一側壁、 一第二側壁以
及一凹陷部形成于該第一側壁與該第二側壁之間;該下模用以與該上模銜 接。此即前述前者的固定治具。該物件包含一尖角以及一涂布表面。接著, 將該物件置于該固定治具中,使得該第一側壁與該第二側壁接觸該物件的該 尖角的兩側面且該尖角懸空置于該凹陷部內。隨后,涂布一層物質于該涂布 表面上,例如利用濺鍍技術涂布。最后,自該固定治具取出該物件。因此, 本發(fā)明的涂布方法通過將該物件的該尖角懸空置于該凹陷部,使得于涂布工 藝中,該物件的該尖角不致被碰傷。
因此,本發(fā)明的有益技術效果在于,本發(fā)明提供一種可保護一待涂布物 件免于損傷的一種涂布方法及其所使用的固定治具。該固定治具包含一凹陷 部以避免與該物件的尖角接觸,可大幅改善于固定該物件的過程中或是于固 定后、運送中(例如輸送帶運送)碰傷該物件的情形。本發(fā)明的固定治具及使 用該固定治具的涂布方法可適用于大部分涂布技術中,包含物理沉積涂布技 術、化學沉積涂布技術或其它涂布技術,涂布的材料亦不僅限于導電材料。
關于本發(fā)明的優(yōu)點與精神可以通過以下的發(fā)明詳述及附圖得到進一步 的了解。


圖1示出根據(jù)現(xiàn)有技術的具體實施例的固定治具局部剖面圖。
圖2示出根據(jù)一較佳具體實施例的固定治具帶有其固定的物件的俯視圖。
圖3示出沿圖2中線X-X的剖面圖。 圖4示出根據(jù)一較佳具體實施例的固定治具的剖面圖。 圖5示出根據(jù)一具體實施例的固定治具的剖面圖。 圖6示出根據(jù)本發(fā)明的涂布方法的主要步驟流程圖。 圖7示出根據(jù)一具體實施例的涂布方法的流程圖。
具體實施例方式
本發(fā)明提供一種可保護待涂布物件免于損傷的一種涂布方法及其所使 用的固定治具。請參閱圖2及圖3,其中圖2是根據(jù)一較佳具體實施例的固 定治具3帶有其固定的物件5的俯視圖,圖3為沿圖2中線X-X的剖面圖。 本發(fā)明的固定治具3包含上模32以及下模34。將物件5(例如一盆狀射出塑 件)設置于下模34上,然后上模32再由上方蓋下來以與下模34銜接,以容 置物件5并作為必要的遮蔽,例如遮蔽物件5的側壁邊緣52。并且,上模 32包含一鏤空結構328,上模32與下模34合模后,物件5的涂布表面56 即可透過鏤空結構328暴露出來。補充說明的是,該較佳具體實施例的物件 5雖為簡單的盆狀結構,但于實際較為復雜的涂布區(qū)域結構中,上模32可對 應地包含其它的遮蔽結構,但前述說明仍可適用。
于該較佳具體實施例中,上模32包含第一側壁322以及與第二側壁324, 第一側壁322與第二側壁324之間形成凹陷部326。如圖中明顯示出,第一 側壁322與第二側壁324分別接觸物件5的兩側,且兩側間的尖角54則懸 空置于凹陷部326內。通過利用凹陷部326讓出的一空間,使得設置于該空 間中的物件5的尖角54得以保全其輪廓完整,不致被上模32碰傷??v使其 在輸送帶上運送,固定治具3的晃動亦不會碰傷物件5的尖角54。
請參閱圖4,圖4是根據(jù)另一較佳具體實施例的固定治具3'的剖面圖。 與圖3的固定治具3主要不同之處在于上模32'包含第一側壁322',下模34'則包含第二側壁342,凹陷部326'則同時形成于上模32'與下模34'上。相較 于固定治具3,物件5置于下模34'上時,物件5的尖角54實際上已懸空置 于部分的凹陷部326'中,并于上模32'合模后,即凹陷部326'完整形成,物件 5的尖角54則完全地懸空置于凹陷部326'中。補充說明的是,圖4雖示出物 件5整個容置于下模34'所形成的空間中,似乎不利于沉積涂布后取出物件5 的操作,但是固定治具3'的下模34'不必完全緊貼物件5外部表面,即可于下 模34'的部分側壁上設計鏤空結構、缺口等,以利于物件5的取出,或是直 接在下模34'底部設置頂出的機構以取出物件5。
此外,在上模32'合模的過程中,上模32'原則上不會碰傷物件5的尖角 54。并非僅因為圖4中的上模32'的底部為一平面,更主要的原因是,在合 模的過程中,凹陷部326'的大小容許一定的合模誤差,并且在固定治具3'上 設置合模定位裝置(例如定位柱與定位孔的配合),可更進一步確保在合模時 合模誤差可控制于一定的范圍內,因此物件5的尖角54不會被碰傷?;?上述說明的精神,上模32'的底部不一定必須為平面,亦可容許一定的斷差。 如圖5所示,于一具體實施例,上模32"包含與物件5接觸的表面330以及 與下模34"接觸的表面332,所述兩個表面330、 332間有一斷差。雖然在上 模32"未合模之前,物件5的尖角54突出于下模34",但尖角54仍在凹陷部 326"所形成的空間內,因此在后續(xù)合模過程中,上模32"仍可保持在不碰傷 尖角54的情形下合模。
請參閱圖6,其所示為本發(fā)明的涂布方法的主要步驟的流程圖。首先, 提供一固定治具,包含一上模和一下模,且于其上包含一第一側壁、 一第二 側壁以及一形成于該第一側壁與該第二側壁之間的凹陷部,即前述各實施例 的固定治具,如步驟S102a所述;并且提供一物件,包含一尖角以及一涂布 表面,即前述各實施例的物件5,如步驟S102b所述。其中,步驟S102a與 S102b的執(zhí)行并無先后順序,但均需于下列步驟實施前執(zhí)行完畢。
接著,該涂布方法將該物件置于該固定治具中,使得該第一側壁與該第 二側壁接觸該物件的該尖角的兩個側面且該尖角懸空置于該凹陷部內,如步 驟S104所述;隨后,在該涂布表面上涂布一層物質,如步驟S106所述;最 后,自該固定治具取出該物件,如步驟S108所述。
請參閱圖7,其所示為一具體實施例的涂布方法的流程圖。于該具體實施例中,該固定治具的該上模還包含一鏤空結構,該固定治具的結構可參考
圖4。步驟S104包含將該物件置于該下模上,使得該第二側壁接觸該物件, 如步驟S1042所述;以及將該上模與該下模銜接,使得該第一側壁接觸該物
件、該物件的該尖角懸空置于該凹陷部內并且該涂布表面透過該鏤空結構暴
露出來,如步驟S1044所述。步驟S106的涂布是利用一濺鍍技術將該物質 沉積于該物件的該涂布表面上來實現(xiàn),其靶材與該固定治具間的配置可參考 圖1。
補充說明的是,參考圖3中固定治具3的結構,圖7中步驟S104則對 應地為先將該物件置于該下模上,再將該上模與該下模銜接,使得該第一側 壁與該第二側壁接觸該物件的該尖角的兩個側面,且該尖角懸空置于該凹陷 部內。另外,因工藝設計不同,步驟S106的涂布亦可通過其它涂布技術來 實現(xiàn),例如蒸鍍、噴覆、氣體反應沉積等。另外,涂布的該物質取決于產(chǎn)品 需求,例如用于防電磁干擾的涂布,則使用導電的物質。
因此,本發(fā)明提供一種可保護一待涂布物件免于損傷的一種涂布方法及 其所使用的固定治具,可大幅改善在固定該物件的過程中或是在固定后、運 送中(例如輸送帶運送)碰傷該物件的情形。本發(fā)明的固定治具及使用該固定 治具的涂布方法可適用于大部分涂布技術中,包含物理沉積涂布技術、化學 沉積涂布技術或其它涂布技術,涂布的材料亦不僅限于導電材料。
通過以上較佳具體實施例的詳述,希望能更加清楚描述本發(fā)明的特征與 精神,而并非以上述所披露的較佳具體實施例來對本發(fā)明的范圍加以限制。 相反地,其目的是希望能涵蓋各種改變及具等同性的安排于本發(fā)明的保護范 圍內。因此,本發(fā)明的保護范圍應該根據(jù)上述的說明作最寬廣的解釋,以致 使其涵蓋所有可能的改變以及具有等同性的安排。
權利要求
1、一種固定治具,用于承載一物件,上述物件包含尖角以及涂布表面,其特征是,上述固定治具包含上模,包含第一側壁、第二側壁以及形成于上述第一側壁與上述第二側壁之間的凹陷部;以及下模,與上述上模銜接以承載上述物件,其中上述第一側壁與上述第二側壁接觸上述物件的上述尖角的兩個側面,使得上述尖角懸空置于上述凹陷部內。
2、 根據(jù)權利要求1所述的固定治具,其特征是,上述上模包含鏤空結構,當上述第一側壁及上述第二側壁接觸上述物件時,上述涂布表面透過上 述鏤空結構暴露出來。
3、 一種固定治具,用于承載一物件,上述物件包含尖角以及涂布表面, 其特征是,上述固定治具包含上模,包含第一側壁;以及下模,包含第二側壁,并與上述上模銜接以承載上述物件,凹陷部形成 于上述第一側壁與上述第二側壁之間,其中上述第一側壁與上述第二側壁接 觸上述物件的上述尖角的兩個側面,使得上述尖角懸空置于上述凹陷部內。
4、 根據(jù)權利要求3所述的固定治具,其特征是,上述上模包含第一平 面,并經(jīng)由上述第一平面與上述下模銜接,上述第一側壁包含第二平面,上 述第二平面接觸上述物件,上述第一平面與上述第二平面間有斷差。
5、 根據(jù)權利要求3所述的固定治具,其特征是,上述上模包含鏤空結 構,當上述第一側壁及上述第二側壁接觸上述物件時,上述涂布表面透過上 述鏤空結構暴露出來。
6、 一種涂布方法,其特征是,包含下列步驟(a) 提供固定治具,上述固定治具包含上模,包含第一側壁、第二側壁以及形成于上述第一側壁與上述第二側壁之間的凹陷部;以及下模,用以與上述上模銜接;(b) 提供物件,包含尖角以及涂布表面;(C)將上述物件置于上述固定治具中,使得上述第一側壁與上述第二側 壁接觸上述物件的上述尖角的兩個側面,且上述尖角懸空置于上述凹陷部 內;(d) 在上述涂布表面上涂布一層物質;以及(e) 自上述固定治具取出上述物件。
7、 根據(jù)權利要求6所述的涂布方法,其特征是,步驟(c)包含 (c-l)將上述物件置于上述下模上;以及(c-2)再將上述上模與上述下模銜接。
8、 根據(jù)權利要求7所述的涂布方法,其特征是,上述上模包含鏤空結 構,步驟(c-2)包含將上述上模與上述下模銜接后,使得上述涂布表面透過上 述鏤空結構暴露出來。
9、 根據(jù)權利要求6所述的涂布方法,其特征是,步驟(d)是利用濺鍍技 術將上述物質沉積于上述物件的上述涂布表面上。
10、 一種涂布方法,其特征是,包含下列步驟(a) 提供固定治具,上述固定治具包含 上模,包含第一側壁;以及下模,用以與上述上模銜接,并包含第二側壁,凹陷部,形成于上述第 一側壁與上述第二側壁之間;(b) 提供物件,包含尖角以及涂布表面;(c) 將上述物件置于上述固定治具中,使得上述第一側壁與上述第二側 壁接觸上述物件的上述尖角的兩個側面,且上述尖角懸空置于上述凹陷部 內;(d) 在上述涂布表面上涂布一層物質;以及(e) 自上述固定治具取出上述物件。
11、 根據(jù)權利要求10所述的涂布方法,其特征是,步驟(c)包含 (c-l)將上述物件置于上述下模上,使得上述第二側壁接觸上述物件;以及(c-2)再將上述上模與上述下模銜接,使得上述第一側壁接觸上述物件。
12、 根據(jù)權利要求11所述的涂布方法,其特征是,上述上模包含鏤空 結構,步驟(c-2)包含將上述上模與上述下模銜接后,使得上述涂布表面透過上述鏤空結構暴露出來。
13、根據(jù)權利要求10所述的涂布方法,其特征是,步驟(d)是利用濺鍍技術將上述物質沉積于上述物件的上述涂布表面上。
全文摘要
本發(fā)明提供一種固定治具及涂布方法。該固定治具用于承載一物件。該物件包含一尖角以及一涂布表面。該固定治具包含一上模以及一下模,并且于其上包含一第一側壁、一第二側壁以及一凹陷形成于該第一側壁與該第二側壁之間。將該物件置于該下模上,并與該上模銜接以容置該物件,其中該第一側壁及該第二側壁接觸該物件的該尖角的兩側面,使得該尖角懸空置于該凹陷部內。以此,該尖角于該涂布表面涂布時,不致?lián)p傷。
文檔編號C23C14/04GK101555582SQ200810092419
公開日2009年10月14日 申請日期2008年4月9日 優(yōu)先權日2008年4月9日
發(fā)明者張木財, 陳富明 申請人:華碩電腦股份有限公司
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