專利名稱：濾光片和具有濾光片的顯示設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及濾光片和具有濾光片的顯示設(shè)備，特別是，通過防止形成重 影和減少反光，具有極好明室對(duì)比，并且可以制作成體輕、精巧和便宜的濾 光片，以及具有該濾光片的顯示設(shè)備。
背景技術(shù)：
等離子顯示設(shè)備采用各種等離子顯示板的 一種等離子顯示板(PDP ), 是利用氣體放電顯示圖像的平板顯示設(shè)備，并且與傳統(tǒng)的陰極射線管(CRT) 相比，由于其極好的顯示特性例如高亮度和對(duì)比度、抵抗?jié)撚啊⒋笠暯?、?巧和大屏幕尺寸，預(yù)期成為下一代大平板顯示裝置之一。
然而，傳統(tǒng)的等離子顯示設(shè)備由于等離子顯示板的前基板和鋼化玻璃濾 光片之間的材料差異造成的折射而引起圖像的雙重反射。同樣，鋼化玻璃濾 光片必須具有約3mm或者更大的厚度以抵抗外部沖擊，由此增加了重量和 成本。此外，傳統(tǒng)鋼化玻璃濾光片具有非常復(fù)雜的結(jié)構(gòu)，包括具有不同功能 的各種濾光片。因此，制造鋼化玻璃濾光片的工藝既復(fù)雜又昂貴。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供可以防止形成重影、提高亮室對(duì)比度、比傳統(tǒng)技術(shù)更精巧且 重量更輕的濾光片，以及具有該濾光片的顯示設(shè)備。
本發(fā)明還提供低制造成本和易于制造的濾光片和具有該濾光片的顯示 設(shè)備。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供由一片形成的濾光片，包括防反射層， 設(shè)置在濾光片的最外面；電磁波屏蔽層，設(shè)置在防反射層的后表面上；以及 基膜，設(shè)置在電磁波屏蔽層的后表面上。
防反射層可以是表面硬度增強(qiáng)層，其包括硬質(zhì)涂敷材料且為單層。 防反射層可以是其中堆疊多個(gè)薄膜層的抗反射層，其中設(shè)置在多個(gè)薄膜 層最外表面上的第一層的折射系數(shù)可以小于接觸第一層的第二層的折射系數(shù)。
防反射層可以是具有預(yù)定曲線的防眩光層。
濾光片還可以包括設(shè)置在防眩光層上的硬質(zhì)涂敷層。
防反射層的厚度范圍可以是5.0至12.0 |im，防反射層的鉛筆硬度的范 圍可以是1H至3H,并且防反射層的霾度(haze)的范圍可以是1%至10%。 電磁波屏蔽層可以包括至少一層金屬層或者至少一層金屬氧化物層。 電磁波屏蔽層可以包括圖案化的銀印制層和涂敷在銀印制層上的銅涂膜。
纟艮印制層可以由AgCl或者AgN03形成。 銀印制層可以形成網(wǎng)狀。
《艮印制層和銅涂膜可以以厚度為2至6|_im的范圍形成。 銀印制層可以通過光刻蝕法形成在基膜上。
光敏樹脂層可以涂敷在基膜上，然后可以在樹脂層上執(zhí)行印制法以形成 銀印制層。
基膜可以包括選自由聚醚砜(polyethersulphone )、聚丙烯酸酯 (polyacrylate )、聚醚酰亞胺(polyetherimide )、聚萘二曱酸乙二酯 (polyethyelenen napthalate )、 聚笨 二 曱酸乙 二 醇酉旨 (polyethyeleneterepthalate )、 聚苯石克酉逸(polyphenylene sulfide )、 聚丙錄 (polyallylate )、聚酰亞胺(polyimide )、聚碳酸酯(polycarbonate )、三醋酸 纖維(cellulose triacetate )、醋酸丙酸纖維素(cellulose acetate propinonate ) 組成的群組中的一個(gè)。
濾光片還可以包括粘合層，其在基膜的后側(cè)上將濾光片固定到顯示設(shè)備 的前表面。
粘合層可以包括選自由丙烯酸樹脂(acrylic resin )、聚醚樹脂(polycster i-esin)、環(huán)氧樹脂(epoxy resin)、聚氨酯樹脂(urethane resin)和PSA (壓敏粘合 劑)組成的群組中的一個(gè)。
粘合層可以包括染料或顏料，以便進(jìn)行顏色糾正、氖輝光阻擋或近紅外 線阻擋。
根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，提供包括濾光片的顯示設(shè)備，該濾光片具有 至少一個(gè)上述特性，并且直接連接到顯示設(shè)備的前表面。


通過結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的示范性實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)描述，本發(fā)明的上述和 其它特性、優(yōu)點(diǎn)將變得更加清楚，附圖中
圖1為圖解本發(fā)明實(shí)施例的濾光片的構(gòu)造的示意性截面圖； 圖2為圖解本發(fā)明實(shí)施例的圖1所示濾光片的防反射層的構(gòu)造實(shí)例的示 意性截面圖3為圖解本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例的圖1所示防反射層的另一個(gè)構(gòu)造實(shí)例 的示意性截面圖4為圖解本發(fā)明另 一個(gè)實(shí)施例的圖1所示防反射層的另 一個(gè)構(gòu)造實(shí)例 的示意性截面圖5A至圖6圖解了采用傳統(tǒng)的刻蝕法制造圖1所示濾光片的電磁波屏 蔽層的方法；
圖7A至圖8圖解了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例采用曝光和涂敷法形成圖1所示 濾光片的電磁波屏蔽層的方法；
圖9A至圖IO圖解了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例采用印制法形成圖l所示電磁波 屏蔽層30的方法；
圖11為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例具有圖1所示濾光片的等離子顯示設(shè)備的分 解透視圖；和
圖12為沿著圖11的XII-XII線剖取的截面圖。
具體實(shí)施例方式
下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)行更加全面的描述，在附圖中展示了本發(fā)明的 示范性實(shí)施例。
圖1為圖解本發(fā)明實(shí)施例的濾光片50的構(gòu)造的示意性截面圖。 參照?qǐng)D1，本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的濾光片50形成為一片，包括防反射 層10，設(shè)置為濾光片50的最外層；電磁波屏蔽層30,設(shè)置在防反射層10 的后側(cè)上；基膜20,設(shè)置在電磁波屏蔽層30的后側(cè)上；以及粘合層40,設(shè) 置在基膜的后側(cè)上，以便將濾光片50連接到等離子顯示設(shè)備的前側(cè)上。
"多片型濾光片"具有兩個(gè)或更多個(gè)功能膜，該些功能膜由包括防反射 膜、防眩光膜和電磁波屏蔽膜(EMI)的一組功能膜中選擇。每個(gè)功能膜具 有基膜和形成在該基膜上的功能層，并且一個(gè)功能膜通過粘合層貼合在另一個(gè)功能膜上。然而，根據(jù)本發(fā)明的"一片型濾光片"包括僅一片基膜，并且 兩個(gè)或更多個(gè)功能層形成在該基膜上。
防反射層10防止由濾光片50的前側(cè)入射光的反射引起的濾光片50的 亮室對(duì)比度變壞。防反射層IO可以包括單面硬度增強(qiáng)層、抗反射層和/或防 眩光層。防反射層10可以以范圍為5.0至12.0 pm的厚度形成。防反射層 10的鉛筆硬度的范圍可以是1至3H,并且防反射層10的霾度范圍可以是 1%至10%。后面將結(jié)合圖2至4對(duì)防反射層10的構(gòu)造進(jìn)行更加全面地描述。
電磁波屏蔽層30屏蔽對(duì)人體有害并且由具有本發(fā)明實(shí)施例的濾光片50 的顯示設(shè)備產(chǎn)生的電磁波。電磁波屏蔽層30可以由導(dǎo)電層(未示出)組成。 就是說，電磁波屏蔽層30可以通過堆疊一個(gè)或者多個(gè)金屬層或者金屬氧化 物層形成，或者可以形成為三層至十一層的多層結(jié)構(gòu)。具體地講，當(dāng)金屬氣 化物層和金屬層堆疊在一起時(shí)，金屬氧化物層可以防止金屬層氧化或者退 化。同樣，如果電磁波屏蔽層30形成為多層結(jié)構(gòu)，則電磁波屏蔽層30的表 面電阻值可以修正，并且可以控制可見光的透射率。
金屬層可以由鈀(Pd )、銅(Cu )、金(Au )、柏(Pt )、銠(Rh )、鐵(Fe )、 鈷(Co)、鎳(Ni)、鋅(Zn)、釕(Ru)、錫(Sn)、鴒(W)、銥(Ii')、鉛 (Pb)、銀(Ag)或者其組合物形成。
同樣，金屬氧化物層可以由氧化錫、氧化銦、氧化銻、氧化鋅、氧化鋯、 二氧化鈦、氧化鎂、氧化硅、氧化鋁、金屬醇鹽(metal alkoxidc )、銦錫氧 化物(ITO)或銻錫氧化物(ATO)等形成。
電磁波屏蔽層30可以通過濺射法、真空蒸發(fā)法、離子鍍法、化學(xué)氣相 沉積(CVD)法或物理氣相沉積(PVD)法等形成在基膜20上。
金屬層或金屬氧化物層具有近紅外線阻擋功能以及電磁波阻擋功能。因 此，可以減少由近紅外線引起的周邊電子器件的故障。
電磁波屏蔽層30不限于上述形狀，而是可以采用導(dǎo)電金屬(例如銅) 形成網(wǎng)狀。稍后將詳細(xì)描述在基膜20上形成電磁波屏蔽層30的方法，使得 電箱"皮屏蔽層30成為網(wǎng)狀。
基膜20可以由能夠傳輸可見光的材料形成，并且可以由便于運(yùn)輸和粘 貼的柔性材料形成。
下面對(duì)基膜20的詳細(xì)情況進(jìn)行描述?；?0可以由從聚醚砜 (polyethersulphone(PES))、聚丙烯酸酯(polyacrylate(PAR))、聚醚酰亞胺(polyetherimide(PEI))、聚萘二曱酸乙二西旨(polyethyelenen napthalatc(Pr:N))、 聚笨二甲酸乙二醇酯(polyethye!eneterepthalate(PET))、 聚笨硫醚 (polyphenylene sulfide(PPS))、聚丙烯(polyallylate )、聚酰亞胺(polyimidc )、 聚碳酸酯(polycarbonate(PC))、三醋酸纖維素(cellulose triacetate(TAC))、 醋酸丙酸纖維素(cellulose acetate propinonate(CAP))或者其結(jié)合所組成的群 組中選擇的一個(gè)形成，并且優(yōu)選地，可以由從PC、 PET、 TAC或PEN組成 的群組中選擇的一個(gè)形成。
基膜20可以變色為預(yù)定的顏色，從而控制整個(gè)濾光片50的可見光的透 射率，例如，當(dāng)基膜20為深色時(shí)，減少了可見光的透射率。此外，可以控 制透射可見光的顏色。就是說，整個(gè)基膜20可以變色，以給使用者愉悅的 外觀，或者可以變色以增加采用本發(fā)明的實(shí)施例的濾光片50的顯示設(shè)備的 色度。同樣，基膜20的顏色可以圖案化，以對(duì)應(yīng)于采用本發(fā)明的實(shí)施例的 濾光片50的等離子顯示板的每個(gè)子像素。然而，本發(fā)明不限于此，并且基 膜20可以為了各種顏色糾正的目的以各種方式變色。
基膜20具有平板形狀，并且可以具有50至500|im的厚度。然而，隨 著基膜20的厚度的減少，等離子顯示板的防散射作用減弱，并且隨著基膜 20的厚度的增加，層疊工藝的效率降低。因此，基膜20優(yōu)選可以具有80 至400 (im范圍的厚度。
粘合層40將濾光片50連接到顯示設(shè)備的前表面。粘合層40與等離子 顯示板之間的折射系數(shù)差不能超過預(yù)定值，例如.0 %,以便減少重影(double image )。
粘合層40可以包括熱塑性塑料或者紫外線(UV)硬化樹脂，例如，可 以包括選自由丙烯酸樹脂、聚酯樹脂、環(huán)氧樹脂、聚氨酯樹脂(urethanc rcsin ) 和壓敏粘合劑(PSA)組成的群組中的一個(gè)。粘合層40可以通過浸涂、氣 刀涂、滾涂、線棒涂、凹板涂布(gravure coating )等形成。
粘合層40還可以包括吸收近紅外線的化合物。該化合物可以是包括銅 原子的樹脂、包括銅化合物或者磷化合物的樹脂、包括銅化合物或者硫脲衍 生物(THIO urea derivative)的樹脂、包括鶴化合物的樹脂，或者青色素化 合物。
粘合層40還可以包括染料或顏料，以通過阻擋氖輝光(neon glow )提 供顏色糾正。染料或顏料選擇性地吸收波長為400至700 nm的可見光。具體地講，在等離子顯示板中產(chǎn)生放電時(shí)，氖放電氣體產(chǎn)生波長約為585nm的
不希望的可見光。為了吸收這樣的光，可以采用青色素(cyaninc)、芳酸
(squaryl)、偶氮曱堿(azomethine )、黃嘌呤(xanthine )、 'Oxonol'染料或者
偶氮基的顏料化合物，使得顏料化合物以精細(xì)顆粒狀態(tài)分散遍及粘合層40。
圖2至4為本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例的防反射層IO的截面圖。
參照?qǐng)D2,防反射層IO可以由對(duì)可見光具有透射性的材料形成，并且可
以形成為具有不同折射系數(shù)的兩層或者更多層的多層結(jié)構(gòu)。這里，形成為最
外層的第一層的折射系數(shù)小于接觸第一層11的第二層12的折射系數(shù)。
同樣，控制第一層11的厚度使得從第一層的表面反射的光和從第二層12的
表面反射的光彼此抵消。
例如，下面的公式1通過計(jì)算兩個(gè)光之間的光程差獲得，該兩個(gè)光是入
射在顯示設(shè)備的前表面上并且從第一層11的表面反射的光和從第一層11的
表面折射且通過第二層12然后從設(shè)置在第三層13或者抗反射層10后側(cè)上
的電磁波屏蔽層30的前表面反射的光。 f公式1]
這里，S是弧度單位的程差值，X是入射光的波長，.n,是第一層11的折
射系數(shù)，d,是第一層ll的厚度，0是入射光的入射角，而y是反射相移因數(shù)
(consideration value of reflection phase shift )。
在公式1中，如果vj/假定為0，當(dāng)公式2和公式3都滿足時(shí)，逆向反射
性最小，并且產(chǎn)生破壞千擾。 [公式21
r = (n:-n0n:)2 (n;+n。n2)2
這里，R是反射性(reflexibility ), no是空氣的折射系數(shù)，而&是第二
層12的折射系數(shù)。 [公式31
丄入
4n,
因此，根據(jù)從公式2變形得到的公式4，設(shè)計(jì)者確定n,，使得R的值盡可能接近于0。
如上所述，在確定n,后，折射系數(shù)接近于n,值的材料選擇為形成第一 層U的材料。
然后，第一層11的厚度d,通過替換公式3中的 值和可見光的中心波 長值U=550 nm)來確定。
通過上述方法不僅可以確定反射性R變?yōu)樽钚〉牡谝粚?1的折射系數(shù) 和形成第一層11的材料，而且可以確定第一層11的厚度d"
在上面的計(jì)算中，采用可見光的中心波長值來確定第一層1的厚度d,。 然而，本發(fā)明不限于此。設(shè)計(jì)者可以根據(jù)需要替換所需光帶的可見光的波長 值，從而可以確定第一層11的厚度d,。
另一方面，圖2中的防反射層10的厚度可以實(shí)際上對(duì)應(yīng)于第三層13的 厚度。第一層11和第二層12的厚度可以是第三層13的厚度的十分之一。
參照?qǐng)D3,防反射層IO，可以在其頂表面上形成有具有預(yù)定曲線的防眩 光層15。這里，入射光被漫射、反射和散射，并且可以顯著減少入射到在顯 示設(shè)備前側(cè)凝視的使用者眼晴的反射光量。硬質(zhì)涂敷層(未示出)還可以形 成在防眩光層15的表面上。
參照?qǐng)D4,防反射層IO，，可以是圖2和3的防反射層10和IO，的組合層。 防反射層IO"可以形成這樣的形式，其中防眩光層15連接到第一層11、第 二層12和第三層13的后表面。當(dāng)防反射層IO，，形成為如圖4所示時(shí)，可以 獲得由圖2和3的防反射層10和IO，引起的減少反射效果。因此，可以顯著 提高顯示設(shè)備的防反射作用和亮室對(duì)比度。
除了圖2至圖4所示的防反射層10、 IO，和IO"的形式外，防反射層可以 僅由表面硬度增強(qiáng)層形成，該表面硬度增強(qiáng)層是包括硬質(zhì)涂敷材料的硬質(zhì)涂 敷層。同樣，防反射層可以是圖2至圖4的防反射層10、 IO，和IO"及表面硬 度增強(qiáng)層的復(fù)合層，或者可以是這樣的層，其中圖2的第一層11、第二層 12和第三層13是表面硬度增強(qiáng)層。
同樣，因?yàn)楸景l(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的濾光片由一片組成，簡(jiǎn)化了形成顯示 設(shè)備的工藝。
在具有上述結(jié)構(gòu)的濾光片50中，相對(duì)于可見光的透射率的范圍可以是20.0 %至90.0 %。濾光片50的霾度的范圍可以是1.0%至15.0%。
現(xiàn)在，將參照?qǐng)D5A至圖5H來描述采用傳統(tǒng)刻蝕方法制造網(wǎng)狀電磁波 屏蔽層30的方法。粘合層3涂敷到基膜20的表面(見圖5A )，并且薄銅膜 4層疊在其上(見圖513 )。然后，光致抗蝕劑層5形成在薄銅膜4上(見圖 5C)，并且采用設(shè)計(jì)有預(yù)定圖案的圖案化掩模，在光致抗蝕劑層5上輻射紫 外線(見圖51〕)，然后顯影光致抗蝕劑層5 (見圖5E)。在光致抗蝕劑是正 性類型的情況下，光致抗蝕劑層5的曝光部分被顯影。在光致抗蝕劑是負(fù)性 類型的情況下，光致抗蝕劑層5的未曝光部分被顯影。
接下來，用刻蝕劑刻蝕其上沒有形成光致抗蝕劑層5的薄銅膜4 (見圖 5F),并且去除光致抗蝕劑層5以形成由Cu形成的網(wǎng)狀圖案4a (見圖5())。 然而，由Cu形成的薄銅膜4通常形成為厚度為10至20iim的厚膜，并且因 此在刻蝕薄銅膜4時(shí)，由刻蝕劑引起的微小不平坦在基膜20的表面上形成。 因此，由于不平坦外部光被散射，從而，引起模糊現(xiàn)象(hazy phenomenon )。 因此，為了彌補(bǔ)模糊現(xiàn)象，能夠防止散射的試劑應(yīng)當(dāng)涂敷在基膜20的表面 上。然而，通過刻蝕薄銅膜4形成的網(wǎng)狀圖案4a形成矩形形狀。同樣，存 在這樣的問題，其中用于防止散射的試劑沒有有效地涂敷到網(wǎng)狀圖案4a和 基膜20所形成的拐角部分。
參照?qǐng)D6，通過執(zhí)行一次涂敷工藝形成的防反射層7形成的厚度范圍通 常在5.0至12.0|im。相反，網(wǎng)狀圖案4a形成的厚度范圍通常在10.0至 12.0iam,并且因此，難于控制網(wǎng)狀圖案4a的厚度為很薄。因此，即使通過 執(zhí)行一次涂敷工藝控制防反射層7的厚度為很厚，也不能完美地再造 (perfectly reclaimed)網(wǎng)狀圖案4a。為了完美地再造網(wǎng)狀圖案4a，防反射層7 應(yīng)當(dāng)涂敷兩次，或者應(yīng)當(dāng)刻蝕網(wǎng)狀圖案4a。當(dāng)采用上述方法制造電磁波屏蔽 層時(shí)，由于薄銅膜4的尺寸特性，電磁波屏蔽層可能形成為每一個(gè)具有獨(dú)有 的尺寸。因此，隨著濾光片50的尺寸的變化(例如，隨著濾光片50的尺寸 的增加)，用于調(diào)整合適產(chǎn)量的制造成本會(huì)增加。
為了彌補(bǔ)上述參照?qǐng)D5A至圖6所述的缺點(diǎn)，在本發(fā)明的一些實(shí)施例中， 通過采用曝光和涂敷法或者通過采用印制法，使電磁波屏蔽層形成網(wǎng)狀。
首先，將參照?qǐng)D7A至7D來描述通過曝光和涂敷法形成網(wǎng)狀的電磁波 屏蔽層30的方法。例如，由AgCl或AgN03形成的光敏銀印制層6涂敷在 基膜20上(見圖7A)。采用形成網(wǎng)狀的圖案化掩模在光敏銀印制層16上輻射紫外線(見圖7B)。然后，顯影光敏銀印制層16 (見圖7C)。在光敏材料 是正性類型的情況下，顯影曝光部分的光敏材料，而另一方面，在光敏材料 是負(fù)性類型的情況下，顯影未曝光部分的光敏材料。在本發(fā)明中，可以采用 兩個(gè)類型中的任何一個(gè)。形成網(wǎng)狀圖案的光敏銀印制層16a是不穩(wěn)定的，并 且因此易于被氧化。因此，在光敏銀印制層16a上進(jìn)行涂銅工藝。然后，涂 膜17僅形成在高導(dǎo)電率的光敏銀印制層16a上(見圖7D)。光敏銀印制層 ]6a和涂膜17形成范圍為2至6pm的厚度。如圖1所示，為了制造防反射 層10形成為濾光片50的前層的濾光片50,光敏銀印制層16a和涂膜17可 以由防反射層110覆蓋，如圖8所示。就是說，如圖8所示，光敏銀印制層 16a和涂膜17由防反射層110覆蓋，該防反射層UO通常通過執(zhí)行一次涂敷 工藝形成，厚度范圍為5至12pm。因此，如果防反射層110的厚度控制為 很薄，則僅通過執(zhí)行一次涂敷工藝可以完美地再造包括光敏銀印制層16a和 涂膜17的電磁波屏蔽層30。在當(dāng)前實(shí)施例中，因?yàn)镃u層，而不是薄銅膜， 用作導(dǎo)電層，其涂敷在光敏銀印制層16a上，所以具有電磁波阻擋功能的導(dǎo) 電層16a和17可以形成為很薄。因此，防反射層110可以僅一次涂敷，并 且可以減少制造工藝的數(shù)量。同樣，因?yàn)轱@影了薄的光敏銀印制層16，所以 在基膜20中不產(chǎn)生不平坦。同樣，用于涂敷彌補(bǔ)由于不平坦而造成的光散 射的試劑的附加工藝就沒有必要了，并且因此簡(jiǎn)化了工藝步驟。此外，隨著 濾光片50的尺寸的變化(例如，隨著濾光片50的尺寸的增加)，用于調(diào)整 合適產(chǎn)量的制造成本也可不增加。
現(xiàn)在，將參照?qǐng)D9A至9D來描述采用印制法形成電磁波屏蔽層30的方法。
首先，光敏樹脂層18形成在基膜20上(見圖9A)。例如，在光敏樹脂 層18上由AgCl或AgN03形成的光敏銀印制層19圖案化成網(wǎng)狀(見圖9B )。 如果在基膜20直接圖案化光敏銀印制層19,則光敏銀印制層19可易于與基 膜20分開。因此，首先形成光敏樹脂層18。
形成網(wǎng)狀的光敏銀印制層19是不穩(wěn)定的，并且因此易于被氣化。因此， 在光敏銀印制層19上執(zhí)行涂銅工藝。從而，涂膜21僅形成在高導(dǎo)電率的光 敏銀印制層19上(見圖9C)，并且執(zhí)行顯影工藝，以便去除多余的樹脂。 然后，去除在沒有形成線路圖案的部分上所形成的光敏樹脂層18(見圖91))。 光敏銀印制層19和涂膜21可以形成范圍為2至6pm的厚度。如圖1所示，為了制造防反射層IO形成為濾光片50的前層的濾光片50, 形成在基膜20上的光敏銀印制層19和涂膜21可以由防反射層IO覆蓋。就 是說，如圖IO所示，光敏銀印制層19和涂膜2由防反射層110覆蓋。防 反射層IIO通常通過執(zhí)行一次涂敷工藝形成范圍為5至12i!m的厚度。因此， 僅通過執(zhí)行一次涂敷工藝，起電磁波屏蔽層作用的光敏銀印制層19和涂膜 21可以完美地再造。在當(dāng)前實(shí)施例中，因?yàn)椴捎勉~涂膜21作為導(dǎo)電層，其 涂敷在光敏銀印制層19上，而不是薄銅膜，所以導(dǎo)電層可以形成很薄。因 此，防反射層IIO可以僅一次涂敷，并且可以減少制造工藝的數(shù)量。同樣， 因?yàn)轱@影薄的光敏銀印制層19，在基膜20中不產(chǎn)生不平坦。同樣，由于不 平坦而涂敷彌補(bǔ)光散射的試劑的附加工藝就不必要了 ，并且因此簡(jiǎn)化了制造 工藝。此外，隨著濾光片的尺寸的變化(例如，隨著濾光片尺寸的增加)， 調(diào)整適當(dāng)產(chǎn)量的制造成本也不增加。
粘合層沒有在圖5A至10中單獨(dú)地圖解。然而，當(dāng)以粘合層粘貼到顯示 設(shè)備的表面時(shí)，必要時(shí)粘合層可以形成在濾光片面對(duì)顯示設(shè)備的前表面的后 表面中。
圖11是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例具有濾光片50的等離子顯示設(shè)備100的分解 透^L圖，而圖12是沿著圖11的XII-XII線剖取的截面圖。
等離子顯示設(shè)備100包括等離子顯示板150、底座130和電路單元140。 本發(fā)明實(shí)施例的濾光片50連接到等離子顯示板150的前表面。粘合元件例 如雙面膠帶154可以用于連接等離子顯示板150到底座130。導(dǎo)熱構(gòu)件153 可以設(shè)置在底座130和等離子顯示板150之間，以通過底座130散發(fā)等離子 顯示板150產(chǎn)生的熱。
等離子顯示板150采用氣體放電來顯示圖像，并且包括彼此連接的前面 板151和后面板152。
濾光片50采用粘合層(未示出)通過表面接觸直接連接到等離子顯示 板150的整個(gè)前表面。該描述是指圖1的濾光片50,但是本發(fā)明的實(shí)施例的 濾光片不限于圖1的濾光片50，并且可以是應(yīng)用本發(fā)明這一方面的各種類型 的濾光片，例如圖2的濾光片50。例如，本發(fā)明所描述的具有各種特有構(gòu)造 的濾光片可以是由一片組成，包括防反射層、電磁波屏蔽層和基膜的濾光片， 參照?qǐng)D2至4描述的包括三個(gè)不同類型防反射層的濾光片，或者包括由銀印 制層和導(dǎo)電膜形成的電磁波屏蔽層的濾光片等。濾光片50屏蔽由等離子顯示板150產(chǎn)生的電磁波，并且減少眩光。同 樣，可以阻擋紅外線或者氖輝光。此外，因?yàn)闉V光片50基本上直接連接到 等離子顯示板150的前表面，所以消除重影問題。
同樣，因?yàn)闉V光片50由一片組成，所以濾光片50比傳統(tǒng)的鋼化玻璃濾 光片輕，并且因此成本更低。
底座130設(shè)置在等離子顯示板150的后表面上，以在結(jié)構(gòu)上支撐等離子 顯示板150,并且可以由高強(qiáng)度的金屬例如鋁或鋼形成，或者由塑料形成。
導(dǎo)熱構(gòu)件153設(shè)置在等離子顯示板150和底座130之間。多個(gè)雙面膠帶 件154沿著導(dǎo)熱構(gòu)件153的邊緣設(shè)置，并且因此雙面膠帶件154將等離子顯 示板150連4妄到底座130。
同樣，電路單元140設(shè)置在底座130的后面上，并且包括驅(qū)動(dòng)等離子顯 示板150的電路。電路單元140通過信號(hào)傳輸元件傳輸電信號(hào)到等離子顯示 板150。信號(hào)傳輸元件可以是柔性印制電纜(FPCs) 161、帶載封裝(TCPs) 160或者膜上芯片(COP)。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，用作信號(hào)傳輸元件的 FPCs 161設(shè)置在底座130的左右兩側(cè)上，并且用作信號(hào)傳輸元件的TCPs60 設(shè)置在底座130的上下側(cè)上。
至此，僅參照等離子顯示設(shè)備說明了本發(fā)明的多個(gè)實(shí)施例的濾光片的應(yīng) 用，但是本發(fā)明不限于等離子顯示設(shè)備。就是說，本發(fā)明的多個(gè)實(shí)施例的濾 光片可以應(yīng)用到各種顯示設(shè)備的前表面。
根據(jù)本發(fā)明的各個(gè)實(shí)施例的濾光片和具有該濾光片的等離子顯示設(shè)備， 因?yàn)闉V光片直接連接到顯示面板的前表面，所以可以減少重影。同樣，因?yàn)?濾光片分別采用薄基膜形成，所以可以減輕重量，并且可以提高透射率。特 別是，可以顯著地提高外部光的防反射效果和亮室對(duì)比度。同樣，因?yàn)楹?jiǎn)化 了制造工藝，所以可以降低制造成本。
盡管參照本發(fā)明的示范性實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了具體的展示和描述，但 是本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解的是，在不脫離由所附權(quán)利要求所限定的本發(fā) 明的精神和范圍的情況下，可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種形式和細(xì)節(jié)上的修改。
本申請(qǐng)要求2007年5月0日提交韓國知識(shí)產(chǎn)權(quán)局的韓國專利申請(qǐng) No.I0-2007-0045367和2008年3月27日提交韓國知識(shí)產(chǎn)權(quán)局的韓國專利申 請(qǐng)No. 10-2008-0028493的優(yōu)先權(quán)，其揭示的全部?jī)?nèi)容在此結(jié)合作為參考。
權(quán)利要求
1. 一種由一片形成的濾光片，包括防反射層，設(shè)置為該濾光片的最外層；電磁波屏蔽層，設(shè)置在該防反射層的后表面上；和基膜，設(shè)置在該電磁波屏蔽層的后表面上。
2、 如權(quán)利要求1所述的濾光片，其中該防反射層是包括硬質(zhì)涂敷材料 的表面硬度增強(qiáng)層，并且是單層。
3、 如權(quán)利要求1所述的濾光片，其中該防反射層是抗反射層，其中的 多個(gè)薄膜層堆疊成使得設(shè)置為該多個(gè)薄膜層的最外層的第 一層的折射系數(shù) 小于接觸該第 一層的第二層的折射系數(shù)。
4、 如權(quán)利要求所述的濾光片，其中該防反射層是形成于其頂表面上 的具有預(yù)定曲線的防眩光層。
5、 如權(quán)利要求4所述的濾光片，還包括設(shè)置在該防眩光層上的硬質(zhì)涂 敷層。
6、 如權(quán)利要求1所述的濾光片，其中該防反射層的厚度范圍是5.0至 12.0(im,該防反射層的鉛筆硬度的范圍是1H至3H，而該防反射層的霾度范 圍是1%至10%。
7、 如權(quán)利要求]-6之一所述的濾光片，其中該電磁波屏蔽層包括至少 一層金屬層或者至少一層金屬氧化物層。
8、 如權(quán)利要求1 - 6之一所述的濾光片，其中該電磁波屏蔽層包括圖案 化的銀印制層和涂敷在該銀印制層上的銅涂膜。
9、 如權(quán)利要求8所述的濾光片,其中該銀印制層由AgCl或AgN()3形成。
10、 如權(quán)利要求8所述的濾光片，其中該銀印制層形成網(wǎng)狀。
11、 如權(quán)利要求8所述的濾光片，其中該銀印制層和該涂膜形成范圍為 2至6(im的厚度。
12、 如權(quán)利要求8所述的濾光片，其中該銀印制層采用光刻蝕法形成在 該基膜上。
13、 如權(quán)利要求8所述的濾光片，其中光敏樹脂層涂敷在該基膜上，然 后在該光敏樹脂層上執(zhí)行印制方法以形成銀印制層。
14、 如權(quán)利要求1 - 6之一所述的濾光片，其中該基膜包括選自由聚醚砜、聚丙烯酸酯、聚醚酰亞胺、聚萘二曱酸乙二酯、聚苯二曱酸乙二醇酯、 聚笨硫醚、聚丙烯、聚酰亞胺、聚碳酸酯、三醋酸纖維、醋酸丙酸纖維素或 者其結(jié)合組成的群組中的一個(gè)。
15、 如權(quán)利要求1所述的濾光片，還包括在該基膜的后側(cè)上的粘合層， 以將該濾光片連接到該顯示設(shè)備的前表面。
16、 如權(quán)利要求15所述的濾光片，其中該粘合層包括選自由丙烯酸樹 脂、聚醚樹脂、環(huán)氧樹脂、聚氨酯樹脂和壓敏粘合劑組成的組中的一個(gè)。
17、 如權(quán)利要求15所述的濾光片，其中該粘合層包括染料或顏料，以 便執(zhí)行顏色糾正、氖輝光阻擋或近紅外線阻擋。
18、 如權(quán)利要求,l所述的濾光片，其中該濾光片相對(duì)于可見光的光透射 率的范圍是20%至90%，并且霾度的范圍是1%至15%。
19、 一種顯示設(shè)備，包括權(quán)利要求1-6之一所述的濾光片，使得該濾 光片直接連接到該顯示設(shè)備的前表面。
20、 如權(quán)利要求19所述的顯示設(shè)備，其中該濾光片相對(duì)于可見光的光 透射率的范圍為20%至90%,并且總霾度的范圍為1%至15%。
全文摘要
本發(fā)明提供濾光片和具有該濾光片的顯示設(shè)備，通過防止形成重影并且減少光反射，使該濾光片具有良好的亮室對(duì)比度，并且可以使該濾光片體輕、精巧和便宜。該濾光片由一片形成，包括防反射層，設(shè)置為濾光片的最外層；電磁波屏蔽層，設(shè)置在防反射層的后表面上；以及基膜，設(shè)置在電磁波屏蔽層的后表面上。
文檔編號(hào)H01J17/49GK101303425SQ20081009528
公開日2008年11月12日 申請(qǐng)日期2008年5月9日 優(yōu)先權(quán)日2007年5月10日
發(fā)明者黃且源 申請(qǐng)人:三星Sdi株式會(huì)社