曝光，下光源22對線路板4的下表面進行曝光。
[0020]臺框模組還包括電磁鐵10，位于活動框8的邊框下方；對位平臺18上具有電磁鐵吸附板19，電磁鐵吸附板19與電磁鐵10對接；通過電磁鐵吸附板19與電磁鐵10吸附為一體，對位平臺18上升帶動活動框整體上升離開下框9與上底片3進行對位。
[0021]上玻璃2設置有頂出裝置13，嵌設在上玻璃2開設的孔洞中，凸出于上玻璃2表面；對于在進入曝光室20之前對位不合格的臺框模組，重新對位時解除腔體真空環(huán)境后，頂出裝置13將吸附于上底片3上的線路板4頂開并進行重新對位。
[0022]上玻璃2的吸真空結構包括吸氣孔11和吸附溝槽12，吸附溝槽12圍繞上玻璃2構成一圈，吸氣孔11設于吸附溝槽12的邊緣并與吸附溝槽12連通。
[0023]上底片3上設有對位點，線路板4上設有對位靶，通過對位點與對位靶對線路板4和上底片3進行初步對位。
[0024]薄膜介質6為塑料薄膜(如MYLAR，即邁拉)，其四周嵌入于活動框8中。
[0025]所述上框1、上玻璃2、薄膜介質6、下玻璃7、活動框8和下框9的吸真空結構為設置于前述各部件上的若干吸氣孔。
[0026]該自動防焊曝光臺框模組的對位方法按以下步驟進行對位，
1)、薄膜介質6、下玻璃7、活動框8及下框9組裝完成后，通過活動框8設置的吸真空結構將薄膜介質6及下玻璃7之間吸成真空環(huán)境；
2)、將線路板4套在下底片5的定位釘上，配合人工進行簡單對位；
3)、上底片3放置在線路板4上，配合人工簡單初步對位，關下上框I使上下框閉合；
4)、使用腔體的吸真空結構將上框I與活動框8吸成腔體真空環(huán)境，然后通過上玻璃2的吸真空結構將上底片3和上玻璃2之間吸成真空環(huán)境；
5)、解除腔體真空環(huán)境，上底片3仍貼在上玻璃2上，在光學對位裝置17的輔助下，使用對位平臺18帶動活動框整體運動，通過電磁鐵吸附板19與電磁鐵10吸附為一體，對位平臺18上升帶動活動框整體上升離開下框9 ;完成線路板4與上底片3對位工作后，對位平臺18下降使活動框8回到下框9上；
6)、再吸腔體真空后將整個臺框模組16送入曝光室20進行曝光。
[0027]通常設置兩個臺框模組，一個進行對位，另一個完成對位的進入曝光室20曝光，交替運作，以大幅提高生產(chǎn)效率。
[0028]實施例2，用于自動單面曝光，與自動雙面曝光的區(qū)別在于，只需將下玻璃7和下底片5撤除，并省去線路板4與下底片5對位的步驟即可。
[0029]以上已將本發(fā)明做一詳細說明，以上所述，僅為本發(fā)明之較佳實施例而已，當不能限定本發(fā)明實施范圍，即凡依本申請范圍所作均等變化與修飾，皆應仍屬本發(fā)明涵蓋范圍內(nèi)。
【主權項】
1.一種自動防焊曝光臺框模組，其特征在于:包括上框、上玻璃、上底片、薄膜介質、活動框和下框，活動框搭設于下框上方，薄膜介質套設于活動框上，待曝光的線路板位于薄膜介質上方；上底片放置于線路板的上表面并對兩者進行初步對位；上玻璃位于上底片上方，上框設于上玻璃上方；上框、上玻璃、薄膜介質、活動框和下框具有吸真空結構；其中，上框、上玻璃和上底片構成臺框模組的上面部分，薄膜介質、活動框和下框構成臺框模組的下面部分，線路板則放置于下面部分。2.根據(jù)權利要求1所述的自動防焊曝光臺框模組，其特征在于:還包括下玻璃，屬于臺框模組的下面部分；下玻璃嵌設在活動框中，且位于薄膜介質下面。3.根據(jù)權利要求2所述的自動防焊曝光臺框模組，其特征在于:在薄膜介質與線路板之間具有下底片，下底片放置于薄膜介質上；下底片上具有定位機構，將待曝光的線路板套在定位機構上，以完成線路板與下底片的對位。4.根據(jù)權利要求3所述的自動防焊曝光臺框模組，其特征在于:所述下底片上的定位機構為若干定位釘，將待曝光的線路板套在下底片的定位釘上，以完成線路板與下底片的對位。5.根據(jù)權利要求1所述的自動防焊曝光臺框模組，其特征在于:所述上玻璃設置有頂出裝置，嵌設在上玻璃開設的孔洞中，凸出于上玻璃表面；對于在進入曝光室之前對位不合格的臺框模組，重新對位時解除腔體真空環(huán)境后，頂出裝置將吸附于上底片上的線路板頂開并進行重新對位。6.根據(jù)權利要求1或5所述的自動防焊曝光臺框模組，其特征在于:所述上玻璃的吸真空結構包括吸氣孔和吸附溝槽，吸附溝槽圍繞上玻璃構成一圈，吸氣孔設于吸附溝槽的邊緣并與吸附溝槽連通。7.根據(jù)權利要求1或5所述的自動防焊曝光臺框模組，其特征在于:所述上底片上設有對位點，線路板上設有對位靶，通過對位點與對位靶對線路板和上底片進行初步對位。8.根據(jù)權利要求1所述的自動防焊曝光臺框模組，其特征在于:所述薄膜介質為塑料薄膜，其四周嵌入于活動框中。9.一種用于權利要求4所述的自動防焊曝光臺框模組曝光的曝光機，包括主機，主機連接有控制機構，主機具有對位平臺、光學對位裝置、臺框模組、曝光室、曝光光源和供電機構，臺框模組安裝于主機中，由主機內(nèi)的轉運機構對臺框模組進行曝光室內(nèi)外的轉運；曝光光源對轉運至曝光室內(nèi)的臺框模組中的線路板進行曝光；對位平臺與光學對位裝置配合對臺框模組中的線路板進行對位，其特征在于:所述曝光光源包括上光源和下光源，上光源對線路板的上表面進行曝光，下光源對線路板的下表面進行曝光；活動框的邊框下方具有電磁鐵，對位平臺上具有電磁鐵吸附板，電磁鐵吸附板與電磁鐵對接；通過電磁鐵吸附板與電磁鐵吸附為一體，對位平臺上升帶動活動框整體上升離開下框與上底片進行對位。10.一種自動防焊曝光臺框模組的對位方法，其特征在于:雙面曝光按以下步驟進行對位， . 1)、薄膜介質、下玻璃、活動框及下框組裝完成后，通過活動框設置的吸真空結構將薄膜介質及下玻璃之間吸成真空環(huán)境； . 2 )、將線路板套在下底片的定位釘上，配合人工進行對位； .3)、上底片放置在線路板上，配合人工初步對位，關下上框使上下框閉合； . 4)、使用腔體的吸真空結構將上框與活動框吸成腔體真空環(huán)境，然后通過上玻璃的吸真空結構將上底片和上玻璃之間吸成真空環(huán)境； . 5)、解除腔體真空環(huán)境，上底片仍貼在上玻璃上，在光學對位裝置的輔助下，使用對位平臺帶動活動框整體運動，通過電磁鐵吸附板與電磁鐵吸附為一體，對位平臺上升帶動活動框整體上升離開下框；完成線路板與上底片對位工作后，對位平臺下降使活動框回到下框上；. 6)、再吸腔體真空后將整個臺框模組送入曝光室進行曝光。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種自動防焊曝光臺框模組及曝光機，其臺框模組包括上框、上玻璃、上底片、線路板、下底片（雙面曝光時存在）、薄膜介質、下玻璃(雙面曝光)、活動框和下框，活動框搭設于下框上方，下玻璃嵌設在活動框上，薄膜介質套設在下玻璃上并嵌入活動框，下底片放置在薄膜介質上；上底片放置于線路板上面；上玻璃位于上底片上方，上框設于上玻璃上方，各部件具有吸真空結構。本發(fā)明可用于自動單面曝光和自動雙面曝光，通過活動框托著線路板定位，并在線路板（或下底片）與下玻璃之間加入薄膜介質，可提高產(chǎn)能60-80%；薄膜介質可使抽真空時避免在線路板上壓出底片的印跡，且可在玻璃板不平或者線路板有翹曲時提高曝光精度，降低不良率。
【IPC分類】G03F7/20, G03F9/00
【公開號】CN105093853
【申請?zhí)枴緾N201510560781
【發(fā)明人】袁強, 劉長征
【申請人】東莞市海圣光電科技有限公司
【公開日】2015年11月25日
【申請日】2015年9月2日