㈧的懸式透鏡系統(tǒng)中，所述基板可包含用于對自所述場景穿過所述第一單件透鏡的至少一部分光進(jìn)行波長濾波的濾波器。
[0090](G)在指示為(A)至(F)的懸式透鏡系統(tǒng)中，所述第一單件透鏡可為凹凸透鏡。
[0091](H)指示為(A)至(G)的懸式透鏡系統(tǒng)可進(jìn)一步包含用于接收自所述場景穿過所述第一單件透鏡的至少一部分光的第二單件透鏡，其中(a)所述第二單件透鏡包含面向所述第一凹表面的第二凹表面，(b)所述第二單件透鏡是由所述基板的與所述第一側(cè)相反的第二側(cè)固持，以及(C)所述基板僅接觸所述第二單件透鏡的遠(yuǎn)離所述第二凹表面的部分。
[0092](I)在指示為(H)的懸式透鏡系統(tǒng)中，所述第二單件透鏡可為凹凸透鏡。
[0093](J)指示為(H)以及(I)的懸式透鏡系統(tǒng)可進(jìn)一步包含:間隔物，其安置于所述第二單件透鏡上且僅接觸所述第二單件透鏡的實質(zhì)上平面部分；以及自所述間隔物懸垂的影像傳感器，其用于產(chǎn)生自所述第二單件透鏡傳播至其的光的電子影像。
[0094](K)在指示為(J)的懸式透鏡系統(tǒng)中，所述第一單件透鏡以及所述第二單件透鏡可在與所述影像傳感器的光接收表面平行的維度中具有不大于所述影像傳感器的各別范圍的范圍。
[0095](L)指示為(A)至(K)的懸式透鏡系統(tǒng)可進(jìn)一步包含:間隔物，其安置于所述第一單件透鏡上且僅接觸所述第一單件透鏡的實質(zhì)上平面部分；以及自所述間隔物懸垂的波長濾波器，其用于對自所述場景傳播朝向所述第一單件透鏡的光進(jìn)行濾波。
[0096](M) 一種用于制造懸式透鏡系統(tǒng)的晶圓級方法可包含:模制第一透鏡陣列，其中所述第一透鏡陣列的每一透鏡均包含凹表面；以及將所述第一透鏡陣列結(jié)合至具有非零光透射的基板的第一表面，以使得所述凹表面面向所述基板，從而形成懸式透鏡晶圓。
[0097](N)指示為(M)的晶圓級方法可進(jìn)一步包含切割所述懸式透鏡晶圓以形成個別懸式透鏡系統(tǒng)。
[0098](O)指示為(N)的晶圓級方法可進(jìn)一步包含將影像傳感器安置于至少一部分所述個別懸式透鏡系統(tǒng)中的每一個上。
[0099](P)在指示為(M)至(O)的晶圓級方法中，所述模制步驟可包含將聚合物安置于第一模制工具與第二模制工具之間。
[0100](Q)在指示為(P)的晶圓級方法中，所述模制步驟可進(jìn)一步包含將間隔物晶圓安置于所述第一模制工具與所述第二模制工具之間，其中所述間隔物晶圓包含孔隙。
[0101](R)在指示為(Q)的晶圓級方法中，所述模制步驟可進(jìn)一步包含使所述第一模制工具及所述第二模制工具接觸所述間隔物晶圓，其中所述第一模制工具及所述第二模制工具中的一個包含凸表面部分，以使得所述凸表面部分與所述孔隙對準(zhǔn)。
[0102](S)在指示為(R)的晶圓級方法中，所述模制步驟可進(jìn)一步包含使所述聚合物的至少一部分固化以形成所述第一透鏡陣列，其中所述聚合物的所述部分設(shè)置于所述孔隙中的一或多者中。
[0103](T)在指示為(P)至(S)的晶圓級方法中，所述第一模制工具及所述第二模制工具中的一個可包含用于接收過量聚合物的凹區(qū)。
[0104](U)指示為⑴的晶圓級方法可包含使所述間隔物晶圓的材料部分與所述凹區(qū)對準(zhǔn)。
[0105](V)指示為(U)的晶圓級方法可包含在所述固化步驟之后自所述透鏡陣列移除過量聚合物。
[0106](W)在指示為⑵至(V)的晶圓級方法中，所述聚合物可為紫外線光可固化聚合物。
[0107](X)在指示為(Q)至(W)的晶圓級方法中，所述聚合物可為紫外線光可固化聚合物，且所述固化步驟可包含用紫外線光自所述間隔物晶圓的與所述凹區(qū)相反的一側(cè)來照明所述聚合物。
[0108](Y)在指示為(M)至(X)的晶圓級方法中，所述第一透鏡陣列的每一透鏡均可為凹凸透鏡。
[0109](Z)指示為(M)至(Y)的晶圓級方法可進(jìn)一步包含:模制第二透鏡陣列，其中所述第二透鏡陣列的每一透鏡均包含凹表面；以及將所述第二透鏡陣列結(jié)合至所述基板的背向所述第一表面的第二表面，以使得所述凹表面面向所述基板且所述第二透鏡陣列的每一透鏡均與所述第一透鏡陣列的各別透鏡對準(zhǔn)，從而形成雙層懸式透鏡系統(tǒng)。
[0110](AA)在指示為(Z)的晶圓級方法中，所述第二透鏡陣列可包含在正交于所述基板的維度中具有規(guī)定厚度的實質(zhì)上平面部分。
[0111](AB)指示為(Z)以及(AA)的晶圓級方法可進(jìn)一步包含切割所述透鏡晶圓以形成個別雙層懸式透鏡系統(tǒng)。
[0112](AC)指示為(AB)的晶圓級方法可進(jìn)一步包含將一影像傳感器安置于至少一部分所述個別雙層懸式透鏡系統(tǒng)中的每一個上。
[0113]可在以上系統(tǒng)以及方法中作出改變而不背離關(guān)于此的范疇。因此應(yīng)注意，以上描述中所含有且展示于隨附圖式中的內(nèi)容應(yīng)解釋為說明性而非限制性。以下申請專利范圍意欲涵蓋本文中所描述的一般與特定特征以及在語言的問題上可據(jù)稱是在其間的本系統(tǒng)及方法的范疇的所有聲明。
【主權(quán)項】
1.一種用于使場景成像的懸式透鏡系統(tǒng)，其包括: 用于自所述場景接收光的第一單件透鏡，所述第一單件透鏡包含第一凹表面；以及 包含面向所述第一凹表面的第一側(cè)的基板，其用于固持所述第一單件透鏡，所述基板具有非零光透射且僅接觸所述第一單件透鏡的遠(yuǎn)離所述第一凹表面的部分。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的懸式透鏡系統(tǒng)，所述基板實質(zhì)上為平面且僅接觸所述第一單件透鏡的實質(zhì)上平面部分。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的懸式透鏡系統(tǒng)，其進(jìn)一步包括用于自從所述場景穿過所述第一單件透鏡的至少一部分光產(chǎn)生電子影像的影像傳感器，所述第一單件透鏡在與所述影像傳感器的光接收表面平行的維度中具有不大于所述影像傳感器的各別范圍的范圍。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的懸式透鏡系統(tǒng)，所述基板包括擋止孔隙。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的懸式透鏡系統(tǒng)，所述基板包括用于對自所述場景穿過所述第一單件透鏡的至少一部分光進(jìn)行波長濾波的濾波器。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的懸式透鏡系統(tǒng)，所述第一單件透鏡是凹凸透鏡。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的懸式透鏡系統(tǒng)，其進(jìn)一步包括用于接收自所述場景穿過所述第一單件透鏡的至少一部分光的第二單件透鏡，所述第二單件透鏡包含面向所述第一凹表面的第二凹表面，所述第二單件透鏡由所述基板的與所述第一側(cè)相反的第二側(cè)固持，所述基板僅接觸所述第二單件透鏡的遠(yuǎn)離所述第二凹表面的部分。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的懸式透鏡系統(tǒng)，所述第二單件透鏡是凹凸透鏡。9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的懸式透鏡系統(tǒng)，其進(jìn)一步包括: 間隔物，其安置于所述第二單件透鏡上且僅接觸所述第二單件透鏡的實質(zhì)上平面部分；以及 自所述間隔物懸垂的影像傳感器，其用于產(chǎn)生自所述第二單件透鏡傳播至其的光的電子影像。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的懸式透鏡系統(tǒng)，所述第一單件透鏡以及所述第二單件透鏡在與所述影像傳感器的光接收表面平行的維度中具有不大于所述影像傳感器的各別范圍的范圍。11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的懸式透鏡系統(tǒng)，其進(jìn)一步包括: 間隔物，其安置于所述第一單件透鏡上且僅接觸所述第一單件透鏡的實質(zhì)上平面部分；以及 自所述間隔物懸垂的波長濾波器，其用于對自所述場景傳播朝向所述第一單件透鏡的光進(jìn)行濾波。12.一種用于制造懸式透鏡系統(tǒng)的晶圓級方法，其包括: 模制第一透鏡陣列，所述第一透鏡陣列的每一透鏡均包含凹表面；以及 將所述第一透鏡陣列結(jié)合至具有非零光透射的基板的第一表面，以使得所述凹表面面向所述基板，從而形成懸式透鏡晶圓。13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的晶圓級方法，其進(jìn)一步包括: 切割所述懸式透鏡晶圓以形成個別懸式透鏡系統(tǒng)；以及 將影像傳感器安置于至少一部分所述個別懸式透鏡系統(tǒng)中的每一個上。14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的晶圓級方法，所述模制步驟包括: 將聚合物安置于第一模制工具與第二模制工具之間； 將間隔物晶圓安置于所述第一模制工具與所述第二模制工具之間，所述間隔物晶圓包含孔隙； 使所述第一模制工具及所述第二模制工具接觸所述間隔物晶圓，所述第一模制工具及所述第二模制工具中的一個包含凸表面部分，以使得所述凸表面部分與所述孔隙對準(zhǔn)；以及 使所述聚合物的至少一部分固化以形成所述第一透鏡陣列，所述聚合物的所述部分設(shè)置于所述孔隙中的一個或多個中。15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的晶圓級方法，所述第一模制工具及所述第二模制工具中的一個包含用于接收過量聚合物的凹區(qū)，所述方法進(jìn)一步包括: 使所述間隔物晶圓的材料部分與所述凹區(qū)對準(zhǔn)；以及 在所述固化步驟之后自所述透鏡陣列移除過量聚合物。16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的晶圓級方法，所述聚合物為紫外線光可固化聚合物，所述固化步驟包括用紫外線光自所述間隔物晶圓的與所述凹區(qū)相反的一側(cè)來照明所述聚合物。17.根據(jù)權(quán)利要求12所述的晶圓級方法，所述第一透鏡陣列的每一透鏡均為凹凸透Ho18.根據(jù)權(quán)利要求12所述的晶圓級方法，其進(jìn)一步包括: 模制第二透鏡陣列，所述第二透鏡陣列的每一透鏡均包含凹表面；以及將所述第二透鏡陣列結(jié)合至所述基板的背向所述第一表面的第二表面，以使得所述凹表面面向所述基板且所述第二透鏡陣列的每一透鏡均與所述第一透鏡陣列的各別透鏡對準(zhǔn)，從而形成雙層懸式透鏡系統(tǒng)。19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的晶圓級方法，所述第二透鏡陣列包含在正交于所述基板的維度中具有規(guī)定厚度的實質(zhì)上平面部分。20.根據(jù)權(quán)利要求18所述的晶圓級方法，其進(jìn)一步包括: 切割所述透鏡晶圓以形成個別雙層懸式透鏡系統(tǒng)；以及 將影像傳感器安置于至少一部分所述個別雙層懸式透鏡系統(tǒng)中的每一個上。
【專利摘要】一種用于使場景成像的懸式透鏡系統(tǒng)包含：(a)用于自所述場景接收光的單件透鏡，其中所述單件透鏡包含凹表面；以及(b)包含面向所述凹表面的一側(cè)的基板，其用于固持所述單件透鏡，其中所述基板具有非零光透射且僅接觸所述單件透鏡的遠(yuǎn)離所述凹表面的部分。一種用于制造懸式透鏡系統(tǒng)的晶圓級方法包含：模制透鏡陣列，其中所述透鏡陣列的每一透鏡均包含凹表面，以及將所述透鏡陣列結(jié)合至具有非零光透射的基板的表面，以使得所述凹表面面向所述基板，從而形成懸式透鏡晶圓。
【IPC分類】G02B7/02
【公開號】CN105093470
【申請?zhí)枴緾N201510239654
【發(fā)明人】萬宗瑋, 陳偉平
【申請人】全視技術(shù)有限公司
【公開日】2015年11月25日
【申請日】2015年5月12日
【公告號】US20150333094