第10方案為：
[0046] 根據(jù)第9方案所述的光掩模用玻璃基板，其特征在于，上述堿性水溶液的堿成分 為氨氧化鐘。
[0047] 用于解決上述課題的本發(fā)明的第11方案為：
[0048] 根據(jù)第6方案?第10方案中任一項(xiàng)所述的光掩模用玻璃基板，其特征在于，在進(jìn) 行了再生處理的上述光掩模用玻璃基板的表面，水的接觸角之差為1度W下。
[0049] 用于解決上述課題的本發(fā)明的第12方案為：
[0050] 一種光掩模用巧料，其特征在于，其使用了第6方案?第11方案中任一項(xiàng)所述的 光掩模用玻璃基板。
[0化1] 用于解決上述課題的本發(fā)明的第13方案為：
[0化2] -種光掩模，其特征在于，其使用了第12方案所述的光掩模用巧料。
[0化3] 用于解決上述課題的本發(fā)明的第14方案為：
[0化4] 一種光掩模用再生玻璃基板的制造方法，其特征在于，其具有：
[0化5] 溶解去除工序，使用蝕刻液從具有玻璃基板、及在上述玻璃基板的一個(gè)表面上形 成為圖案狀的金屬薄膜的光掩模中溶解去除上述金屬薄膜；和
[0化6] 濕式潤(rùn)濕性均勻化處理工序，使堿性水溶液與上述溶解去除工序后的上述玻璃基 板的表面接觸而進(jìn)行濕式潤(rùn)濕性均勻化處理。
[0化7] 用于解決上述課題的本發(fā)明的第15方案為：
[0化引根據(jù)第14方案所述的光掩模用再生玻璃基板的制造方法，其特征在于，上述堿性 水溶液的堿成分為氨氧化鐘。
[0化9] 用于解決上述課題的本發(fā)明的第16方案為：
[0060] 一種光掩模的制造方法，其特征在于，其具有：
[0061] 再生處理工序，利用再生處理方法形成光掩模用再生玻璃基板，所述再生處理方 法將在至少一面W金屬薄膜形成圖案而成的光掩模用玻璃基板的上述金屬薄膜利用蝕刻 液溶解去除后、進(jìn)行濕式潤(rùn)濕性均勻化處理直至在呼氣像檢查中不出現(xiàn)上述圖案為止；
[0062] 掩模巧料形成工序，在上述光掩模用再生玻璃基板的至少一面形成金屬薄膜而形 成掩模巧料；
[0063] 抗蝕劑形成工序，在上述金屬薄膜上將抗蝕劑形成為圖案狀；和
[0064] 蝕刻工序，對(duì)形成有上述抗蝕劑的上述金屬薄膜的露出部分進(jìn)行蝕刻。
[00化]用于解決上述課題的本發(fā)明的第17方案為：
[0066] 一種光掩模的制造方法，其特征在于，其具有；
[0067] 再生處理工序，通過進(jìn)行溶解去除工序和濕式潤(rùn)濕性均勻化處理工序而形成光掩 模用再生玻璃基板，所述溶解去除工序使用蝕刻液從具有玻璃基板、及在上述玻璃基板的 一個(gè)表面上形成為圖案狀的金屬薄膜的光掩模中溶解去除上述金屬薄膜，所述濕式潤(rùn)濕性 均勻化處理工序使堿性水溶液與上述溶解去除工序后的上述玻璃基板的表面接觸而進(jìn)行 濕式潤(rùn)濕性均勻化處理；
[0068] 掩模巧料形成工序，在上述光掩模用再生玻璃基板的至少一面形成金屬薄膜而形 成掩模巧料；
[0069] 抗蝕劑形成工序，在上述金屬薄膜上將抗蝕劑形成為圖案狀；和
[0070] 蝕刻工序，對(duì)形成有上述抗蝕劑的上述金屬薄膜的露出部分進(jìn)行蝕刻。
[0071] 本發(fā)明的權(quán)利要求及說明書中記載的濕式潤(rùn)濕性均勻化處理并非采用物理性研 磨工序或干式蝕刻等的表面處理工序，而是使化學(xué)藥品的水溶液與玻璃基板的表面接觸的 處理，優(yōu)選通過將玻璃基板的表面浸潰于化學(xué)藥品的水溶液中的處理工序來進(jìn)行。
[0072] 本發(fā)明的權(quán)利要求及說明書中記載的呼氣像檢查是指；使水蒸氣附著于玻璃基板 的表面，并對(duì)表面的潤(rùn)濕性進(jìn)行目視檢查或自動(dòng)辨識(shí)的檢查方法。
[0073] 關(guān)于呼氣像檢查，將于說明本發(fā)明的實(shí)施方式時(shí)加W詳細(xì)說明。
[0074] 本發(fā)明的權(quán)利要求及說明書中記載的金屬薄膜是指在光掩模中作為遮光膜、半透 明膜等發(fā)揮功能的物質(zhì)，其中，金屬材料該一概念不僅包括金屬單質(zhì)，還包括使用了合金、 金屬元素的氮化物、氧化物、氮氧化物、含有其他金屬元素的化合物的情況。
[007引發(fā)明效果
[0076] 在使用完的光掩模或工序不良的光掩模的再生處理中，并不需要使用物理性研磨 工序，使光掩模用玻璃基板的再生處理變得容易，可減低再生成本，并且在光掩模用巧料及 光掩模中也可減低制造成本。
【附圖說明】
[0077] 圖1為包含濕式潤(rùn)濕性均勻化處理的光掩模用玻璃基板再生工序圖。
[007引圖2為包含研磨工序的光掩模用玻璃基板的再生處理工序圖。
[0079] 圖3為光掩?；宓墓ば驁D。
[0080] 圖4為預(yù)備實(shí)驗(yàn)1的玻璃蝕刻量的圖表。
[0081] 圖5為說明再生處理和圖案的呼氣像的示意圖。a為表示光掩模外觀的圖。b為 表示對(duì)圖案進(jìn)行了蝕刻的基板的呼氣像的圖。C表示潤(rùn)濕性均勻化處理后的外觀圖。
[0082] 圖6為說明預(yù)備實(shí)驗(yàn)3的示意圖。a為表示將對(duì)圖案進(jìn)行了蝕刻的基板的半面浸 潰于潤(rùn)濕性均勻化處理液中的狀態(tài)的圖。b為表示a的基板的呼氣像的圖。C為表示在a 的基板進(jìn)行了銘成膜的銘巧料表面的外觀圖。d為說明在C的基板形成了圖案的基板的檢 查缺陷的圖。
[0083] 圖7為說明本發(fā)明所使用的呼氣像檢查的一例的說明圖。
[0084] 圖8為說明本發(fā)明所使用的呼氣像檢查的另一例的說明圖。
【具體實(shí)施方式】
[0085] W下，對(duì)本發(fā)明的光掩模用玻璃基板的再生方法、光掩模用再生玻璃基板的制造 方法及光掩模的制造方法等進(jìn)行說明。
[0086] A.光掩模用玻璃基板的再生方法
[0087] 在說明本發(fā)明的本實(shí)施方式之前，參照?qǐng)D3的（P1)?（P5)，對(duì)制造平面顯示器用 面板的工序中所使用的光掩模的制造工序進(jìn)行說明。
[008引 （P1)在合成石英基板上將提升光學(xué)濃度的純銘進(jìn)行瓣射成膜，接著，制成將用于 抑制表面反射的氧化銘成膜而成的2層結(jié)構(gòu)銘膜2的光掩模用巧料。
[0089] (P2)在上述光掩模用巧料上涂布感光性樹脂并烘烤后，（P3)對(duì)應(yīng)圖案數(shù)據(jù)而進(jìn) 行邸描繪或激光描繪，進(jìn)行顯影處理，將感光性樹脂圖案化后，（P4)對(duì)銘膜及氧化銘膜進(jìn) 行蝕刻處理，（P5)將未被抗蝕劑覆蓋的部分溶解去除后，利用剝離液去除抗蝕劑而制成光 掩模。
[0090] 上述光掩模在洗漆后經(jīng)檢查、修正工序，再根據(jù)需要在膜面安裝薄膜（pellicle)。
[0091] 在各種平面顯示器的面板生產(chǎn)中將上述工序所制成的光掩模安裝使用于各種曝 光裝置中。
[0092] 接著，參照?qǐng)D1的（S1)至（S4)，對(duì)本發(fā)明的本實(shí)施方式的光掩?；宓脑偕幚?方法進(jìn)行說明。
[0093] (S1)首先，將W銘膜形成圖案而成的光掩?；褰⒂谙跛徨\錠、高氯酸、硝酸等 的水溶液即銘蝕刻液中而溶解銘膜后，W純水洗漆而去除銘膜的圖案。
[0094] 悅）接著，將其浸潰于使蝕刻去除銘膜后的玻璃表面的潤(rùn)濕性均勻化的潤(rùn)濕性均 勻化處理液中。
[0095] (S3)對(duì)基板進(jìn)行洗漆、干燥。
[0096] 濕式潤(rùn)濕性均勻化處理液是W堿為主成分的水溶液，采用與接下來的洗漆、干燥 工序成為一個(gè)系列的連續(xù)裝置構(gòu)成較為有效。
[0097] 裝置構(gòu)成也可W為；將再生的玻璃基板縱向放置于保持容器中，依次配置使?jié)櫇?性均勻化處理液進(jìn)行循環(huán)的槽、W純水進(jìn)行沖洗的槽等，進(jìn)行浸潰并進(jìn)行干燥處理的縱型 運(yùn)送方式的裝置構(gòu)成；或者對(duì)每一片逐片進(jìn)行水平運(yùn)送，并從上方W噴嘴施加潤(rùn)濕性均勻 化處理液，接著，W純水進(jìn)行沖洗，最后W空氣進(jìn)行干燥處理的水平運(yùn)送方式的裝置構(gòu)成 等。
[009引 （S4)對(duì)所制成的再生處理基板進(jìn)行與光掩模用玻璃的檢查相同的檢查，但加入了 呼氣像法的檢查作為確認(rèn)再生狀態(tài)的檢查，確認(rèn)到未出現(xiàn)圖案痕跡。
[0099] 若在（S4)呼氣像檢查中出現(xiàn)