玻璃再生處理方法、再生玻璃基板及使用其的光掩模坯料和光掩模的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明設(shè)及為了將W金屬薄膜形成圖案且在各種平板的光蝕刻（W下也稱(chēng)為光 亥IJ)工序中被用于生產(chǎn)的光掩?；蚬庋谀Ｖ圃旃ば蛑谐蔀椴涣嫉墓庋谀Ｗ鳛樾滦凸庋谀?用玻璃基板再利用而進(jìn)行再生處理的方法、利用該再生處理方法所再生的光掩模用玻璃基 板、W及使用該光掩模用玻璃基板的光掩模用巧料及光掩模。
【背景技術(shù)】
[0002] 通常用于制造平板等的光掩模通過(guò)如下方式制成：在合成石英等低膨脹玻璃基板 上層疊銘、氧化銘、氮化銘等的金屬薄膜，制成形成有遮光層的光掩模用巧料，對(duì)該光掩模 用巧料使用光蝕刻法并利用邸巧lectron Beam,電子束）描繪或激光描繪形成圖案。
[0003] 此種光掩模被組裝使用在液晶顯示裝置、有機(jī)化顯示裝置、高精度的觸控面板等 的用于形成像素等的各種曝光裝置等中。該些制品所使用的光掩模根據(jù)品質(zhì)性能而使用合 成石英，隨著近年來(lái)面板的大型化，光掩模尺寸也逐漸大型化，光掩模用玻璃基板也變得更 昂貴，使得使用完的光掩?；虿涣嫉墓庋谀５脑倮贸蔀橹匾夹g(shù)。
[0004] 對(duì)于上述光掩模基板而言，從品質(zhì)、高度的觀點(diǎn)出發(fā)，光掩模用玻璃基板的材 質(zhì)通常使用合成石英，玻璃基板的尺寸在液晶顯示設(shè)備的平板基板的第1代基板中為 320mm X 300mm，光掩模用玻璃基板尺寸為較平板用玻璃基板稍大的330mm X 450mm，因而進(jìn) 行一并曝光，但隨著平板基板的大型化，曝光裝置也大型化，進(jìn)而投影曝光或接近曝光等曝 光方式W及步進(jìn)式輸送或掃描方式等輸送方式也多樣化，光掩模尺寸也大型化、多樣化。
[0005] 在此種平板中，平板基板的第5代為lOOOmmX 1200mm，其光掩?；宄叽缤ǔ?520mmX 800mm或SOOmmX 920mm。第8代的平板基板為2160mmX 2460mm，其所使用的光掩模 基板尺寸為1220mmX 1400mm等。
[0006] 另一方面，合成石英的高品質(zhì)的光掩模用玻璃基板正加速面板的低成本化，因而 要求降低成本，故進(jìn)行使用完的光掩?；虿涣嫉墓庋谀５脑偕幚?。
[0007] 通常平板的每個(gè)部件的各制品的光掩模圖案并不相同，在制品的生產(chǎn)結(jié)束時(shí)，便 不再需要該些光掩模。
[000引另外，在光掩模工序中，也會(huì)產(chǎn)生在制造工序中產(chǎn)生的不良品或檢查工序中的不 良品。
[0009] 為了再利用上述使用完的光掩模基板或不良的光掩?；?，將形成有圖案的金屬 薄膜利用蝕刻液溶解去除而使其成為玻璃巧料的狀態(tài)。
[0010] 然而，使用完的光掩?；寤蛞呀?jīng)在光掩模工序中形成金屬薄膜圖案的基板存在 如下問(wèn)題；僅將金屬薄膜圖案利用蝕刻液溶解去除并洗漆時(shí)，若再次使金屬薄膜成膜并對(duì) 利用光刻加工對(duì)該基板形成圖案，則存在原本的圖案痕跡，并且容易產(chǎn)生圖案缺陷。
[0011] 因此，在再利用上述光掩模時(shí)，在將形成有圖案的金屬薄膜利用蝕刻液溶解去除 而使其成為玻璃巧料的狀態(tài)后，為了使玻璃表面潔凈且均勻化而進(jìn)一步使用研磨劑對(duì)玻璃 表面進(jìn)行物理性研磨，再進(jìn)行去除在研磨中所使用的研磨劑的洗漆，而作為光掩模用玻璃 基板進(jìn)行再利用。
[0012] 專(zhuān)利文獻(xiàn)1為一種在光掩模存在表面損傷的基板的再生處理方法，其對(duì)光掩模的 遮光層進(jìn)行蝕刻而溶解去除在光掩模制造工序中產(chǎn)生的損傷，磨削玻璃基板直至達(dá)到損傷 的深度而去除玻璃表面的損傷，對(duì)具有因表面磨削所造成的微小凹凸的表面進(jìn)行鏡面拋光 研磨處理，從而再生為玻璃巧料。
[0013] 專(zhuān)利文獻(xiàn)2為一種半導(dǎo)體制造的CVD工藝中所使用的石英制夾具的再生處理方 法，其通過(guò)蝕刻及HF水溶液洗漆使在石英制夾具表面或石英管內(nèi)壁等所堆積的不需要的 堆積層粗面化，再對(duì)經(jīng)粗面化的石英制夾具照射真空紫外區(qū)域的波長(zhǎng)的光而使表面平滑 化，同樣屬于石英玻璃的再生處理方法。
[0014] 現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn) [001引專(zhuān)利文獻(xiàn)
[0016] 專(zhuān)利文獻(xiàn)1 ;日本特開(kāi)2011-148026號(hào)公報(bào)
[0017] 專(zhuān)利文獻(xiàn)2 ;日本特開(kāi)平2-102142號(hào)公報(bào)

【發(fā)明內(nèi)容】

[001引發(fā)明所要解決的問(wèn)題
[0019] 參照?qǐng)D2對(duì)W往的光掩模用玻璃基板的再生處理方法進(jìn)行說(shuō)明。
[0020] 首先，將形成有圖案的金屬薄膜利用蝕刻液溶解去除而使其成為玻璃巧料狀態(tài) 化1)后，利用氧化錦等研磨劑進(jìn)行物理性研磨，使玻璃表面均勻化。使用粗研磨用研磨裝置 和最終表面研磨用研磨裝置作為研磨裝置來(lái)進(jìn)行研磨化2)。接著，使用用于去除研磨劑的 研磨劑去除洗漆裝置和最終洗漆裝置進(jìn)行洗漆化3)，再檢查外觀化4)，制成再生基板。
[0021] 此外，還需要洗漆中所去除的研磨劑的廢棄物處理裝置作為附帶裝置，且裝置價(jià) 格高，需要擴(kuò)大裝置的設(shè)置空間，并且有時(shí)還會(huì)使處理時(shí)間較長(zhǎng)、在研磨時(shí)因異物混入而產(chǎn) 生損傷、使光掩模表面的平坦性受到破壞，存在生產(chǎn)成本及生產(chǎn)效率的問(wèn)題。
[0022] 在本發(fā)明中，通過(guò)將溶解去除了金屬薄膜的玻璃基板未進(jìn)行物理性研磨而施行濕 式潤(rùn)濕性均勻化處理，從而能夠W低成本獲得圖案缺陷少的再生基板。
[0023] 用于解決問(wèn)題的技術(shù)手段
[0024] 用于解決上述課題的本發(fā)明的第1方案為：
[0025] 一種光掩模用玻璃基板的再生處理方法，其是在至少一面W金屬薄膜形成圖案而 成的光掩模用玻璃基板的再生處理方法，其特征在于，
[0026] 利用蝕刻液將形成于所述玻璃基板的金屬薄膜溶解去除后，進(jìn)行濕式潤(rùn)濕性均勻 化處理直至在呼氣像檢查中不出現(xiàn)所述圖案為止。
[0027] 用于解決上述課題的本發(fā)明的第2方案為：
[002引根據(jù)第1方案所述的光掩模用玻璃基板的再生處理方法，其特征在于，重復(fù)進(jìn)行 上述濕式潤(rùn)濕性均勻化處理和上述呼氣像檢查。
[0029] 用于解決上述課題的本發(fā)明的第3方案為：
[0030] 根據(jù)第1方案或第2方案所述的光掩模用玻璃基板的再生處理方法，其特征在于， 上述濕式潤(rùn)濕性均勻化處理是使光掩模用玻璃基板表面的潤(rùn)濕性均勻化的處理。
[0031] 用于解決上述課題的本發(fā)明的第4方案為：
[0032] 根據(jù)第1方案?第3方案中任一項(xiàng)所述的光掩模用玻璃基板的再生處理方法，其 特征在于，上述濕式潤(rùn)濕性均勻化處理是采用堿性水溶液所進(jìn)行的處理。
[0033] 用于解決上述課題的本發(fā)明的第5方案為：
[0034] 根據(jù)第4方案所述的光掩模用玻璃基板的再生處理方法，其特征在于，上述堿性 水溶液的堿成分為氨氧化鐘。
[0035] 用于解決上述課題的本發(fā)明得到第6方案為：
[0036] 一種光掩模用玻璃基板，其是對(duì)在玻璃基板的至少一面W金屬薄膜形成圖案而成 的光掩模進(jìn)行再生處理后的玻璃基板，其特征在于，
[0037] 在上述玻璃基板上，作為光掩模所形成的金屬薄膜被蝕刻液溶解去除，
[003引再對(duì)該玻璃基板進(jìn)行濕式潤(rùn)濕性均勻化處理直至在呼氣像檢查中不出現(xiàn)上述圖 案。
[0039] 用于解決上述課題的本發(fā)明的第7方案為：
[0040] 根據(jù)第6方案所述的光掩模用玻璃基板，其特征在于，重復(fù)進(jìn)行了上述濕式潤(rùn)濕 性均勻化處理和上述呼氣像檢查。
[0041] 用于解決上述課題的本發(fā)明的第8方案為：
[0042] 根據(jù)第6方案或第7方案所述的光掩模用玻璃基板，其特征在于，其通過(guò)上述濕式 潤(rùn)濕性均勻化處理使光掩模用玻璃基板表面的潤(rùn)濕性被均勻化。
[0043] 用于解決上述課題的本發(fā)明的第9方案為：
[0044] 根據(jù)第6方案?第8方案中任一項(xiàng)所述的光掩模用玻璃基板，其特征在于，上述濕 式潤(rùn)濕性均勻化處理是采用堿性水溶液進(jìn)行的處理。
[0045] 用于解決上述課題的本發(fā)明的