一種光刻膠涂布軌跡的實(shí)施方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明屬于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域中光刻膠涂布的工藝過(guò)程領(lǐng)域，具體涉及一種光刻膠 涂布軌跡的實(shí)施方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 對(duì)于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域中光刻膠涂布，常見(jiàn)的工藝方法有旋涂和超聲波噴涂。對(duì)于 旋涂工藝，如若光刻膠粘度較大、晶片尺寸較大，光刻膠就需要在晶片表面按一定規(guī)律分 布，之后再進(jìn)行晶片的高速旋轉(zhuǎn)來(lái)使光刻膠攤開(kāi)；對(duì)于超聲噴涂工藝，通過(guò)碰嘴與晶片的相 對(duì)運(yùn)動(dòng)來(lái)使霧化的光刻膠涂布在晶片表面。
[0003] 因此，如何制定噴嘴相對(duì)于晶片運(yùn)動(dòng)的軌跡方案就變得十分重要了，這直接關(guān)系 到晶片表面光刻膠的均勻性和工藝時(shí)間的長(zhǎng)短，而這兩點(diǎn)是衡量相關(guān)工藝設(shè)備的重要指 標(biāo)。本發(fā)明就是針對(duì)這一點(diǎn)出發(fā)的。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述問(wèn)題，本發(fā)明提供一種光刻膠涂布軌跡的實(shí)施方法。
[0005] 本發(fā)明為實(shí)現(xiàn)上述目的所采用的技術(shù)方案是：一種光刻膠涂布軌跡的實(shí)施方法， 包括以下步驟：
[0006] 噴嘴/膠嘴從晶片邊緣沿直徑運(yùn)動(dòng)到晶圓中心，同時(shí)晶片沿一個(gè)方向勻速旋轉(zhuǎn)；
[0007] 噴嘴/膠嘴從晶片中心繼續(xù)沿所述直徑運(yùn)動(dòng)到晶圓邊緣，同時(shí)晶片反方向旋轉(zhuǎn)；
[0008] 所述噴嘴/膠嘴的直線(xiàn)運(yùn)動(dòng)和晶片的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)滿(mǎn)足軌跡方程如下：
[0009] 軌跡方程
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種光刻膠涂布軌跡的實(shí)施方法，其特征在于，包括以下步驟： 噴嘴/膠嘴從晶片邊緣沿直徑運(yùn)動(dòng)到晶圓中心，同時(shí)晶片沿一個(gè)方向勻速旋轉(zhuǎn)； 噴嘴/膠嘴從晶片中心繼續(xù)沿所述直徑運(yùn)動(dòng)到晶圓邊緣，同時(shí)晶片反方向旋轉(zhuǎn)； 所述噴嘴/膠嘴的直線(xiàn)運(yùn)動(dòng)和晶片的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)滿(mǎn)足軌跡方程如下： 軌跡方程：
其中，R為噴嘴/膠嘴的直線(xiàn)運(yùn)動(dòng)距離，e為晶圓轉(zhuǎn)動(dòng)角度，t為時(shí)間，入為常數(shù)；螺旋 線(xiàn)間距為
，函數(shù)f(t)滿(mǎn)足?
通過(guò)所述軌跡方程得到原點(diǎn)對(duì)稱(chēng)等距螺旋線(xiàn)的一半，原點(diǎn)對(duì)稱(chēng)后就得到了另一半的運(yùn) 動(dòng)軌跡，從而使晶片表面的光刻膠形成等距螺旋曲線(xiàn)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光刻膠涂布軌跡的實(shí)施方法，其特征在于，對(duì)于圓形噴 霧截面的光刻膠超聲波噴涂情況，軸對(duì)稱(chēng)等距螺線(xiàn)的間距為圓形噴霧截面半徑的3°_ 5倍。
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明為一種光刻膠涂布軌跡的實(shí)施方法，應(yīng)用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域中光刻膠涂布的工藝過(guò)程，適用于超聲波噴涂工藝和旋涂工藝中的光刻膠噴灑過(guò)程，解決了噴頭（或膠嘴）相對(duì)于晶片運(yùn)動(dòng)過(guò)程中的一類(lèi)優(yōu)化問(wèn)題，有助于提高膠膜的均勻性。該相對(duì)運(yùn)動(dòng)軌跡為原點(diǎn)對(duì)稱(chēng)的等距螺線(xiàn)，本發(fā)明給出實(shí)現(xiàn)該運(yùn)動(dòng)軌跡的硬件條件和基于該硬件條件實(shí)現(xiàn)該運(yùn)動(dòng)軌跡所要遵循的數(shù)學(xué)描述。本發(fā)明可應(yīng)用于發(fā)明所屬單位的噴膠設(shè)備、勻膠設(shè)備；也可以應(yīng)用于切削加工領(lǐng)域，如平面銑削加工。
【IPC分類(lèi)】G03F7-16
【公開(kāi)號(hào)】CN104570609
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201310524314
【發(fā)明人】劉瑩
【申請(qǐng)人】沈陽(yáng)芯源微電子設(shè)備有限公司
【公開(kāi)日】2015年4月29日
【申請(qǐng)日】2013年10月29日