本發(fā)明涉及一種方法，尤其是一種能有效減少大理石橫梁長(zhǎng)度的方法，屬于直寫式光刻膠的技術(shù)領(lǐng)域。

背景技術(shù)：

直寫式光刻機(jī)設(shè)備又稱影像直接轉(zhuǎn)移設(shè)備，是半導(dǎo)體及PCB生產(chǎn)領(lǐng)域中有別于傳統(tǒng)半自動(dòng)曝光設(shè)備的一個(gè)重要設(shè)備，是利用圖形發(fā)生器取代傳統(tǒng)光刻機(jī)的掩模板，從而可以直接將計(jì)算機(jī)的圖形數(shù)據(jù)曝光到晶圓或PCB板上，節(jié)省制板時(shí)間和制作掩模板的費(fèi)用，并且自身可用做掩模板的制作。

目前，國(guó)內(nèi)主流技術(shù)均使用DMD（數(shù)字微鏡芯片）作為影像轉(zhuǎn)移的核心器件。因DMD微鏡尺寸限制，無(wú)法一次曝光覆蓋整個(gè)電路板的范圍，因此，需要分成不同條帶曝光。條帶拼接后構(gòu)成完整的電路板圖形。

在新一代的直寫式光刻設(shè)備中，為提高產(chǎn)能，可采用雙臺(tái)面結(jié)構(gòu)進(jìn)行掃描曝光。在雙臺(tái)面結(jié)構(gòu)中，左右臺(tái)面均靠近同一側(cè)放板，由于光路結(jié)構(gòu)不同，實(shí)際曝光圖形可能會(huì)超出臺(tái)面的范圍。因光路結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的不同，以及實(shí)際生產(chǎn)時(shí)使用的曝光圖形尺寸的不同，可能會(huì)出現(xiàn)曝光圖形的尺寸超出臺(tái)面范圍的情況，超出臺(tái)面范圍的大小，稱為富余量。

雙臺(tái)面在靠近同一側(cè)放板時(shí)，實(shí)際所需要的大理石橫梁的長(zhǎng)度，不僅取決于左右臺(tái)面的寬度，還有留有一定的富余量。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足，提供一種能有效減少大理石橫梁長(zhǎng)度的方法，其有效減少大理石橫梁的長(zhǎng)度，減少占用面積，降低光刻機(jī)的重量，提高光刻機(jī)安裝環(huán)境的適應(yīng)能力，減小光路軸的行程，降低光光刻機(jī)的成本。

按照本發(fā)明提供的技術(shù)方案，所述能有效減少大理石橫梁長(zhǎng)度的方法，包括大理石橫梁以及安裝于所述大理石橫梁上的光路軸，在大理石橫梁的下方設(shè)有左臺(tái)面以及右臺(tái)面，所述左臺(tái)面、右臺(tái)面在大理石橫梁下方呈并置式放置；在進(jìn)行曝光時(shí)，放置于左臺(tái)面上的左臺(tái)面板體與放置于右臺(tái)面上的右臺(tái)面板體呈對(duì)稱式放置。

所述左臺(tái)面板體、右臺(tái)面板體為PCB板或晶圓。

所述大理石橫梁通過(guò)橫梁支撐立柱安裝于平臺(tái)底座上，在所述平臺(tái)底座上還設(shè)有與左臺(tái)面、右臺(tái)面配合的臺(tái)面導(dǎo)軌。

本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)：左臺(tái)面板體在左臺(tái)面上的放置位置與右臺(tái)面板體在右臺(tái)面上的放置位置呈對(duì)稱式放置，從而能有效降低大理石橫梁的長(zhǎng)度，從而減小平臺(tái)底座的占地面積，通過(guò)大理石橫梁的長(zhǎng)度減小，能降低整個(gè)光刻機(jī)的質(zhì)量，使得光刻機(jī)可以適應(yīng)多變的安裝環(huán)境，此外，大理石橫梁的長(zhǎng)度減小后，能使得光路軸的行程減小，降低光刻機(jī)的成本，提高曝光效率，安全可靠。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明光路軸、大理石橫梁與左臺(tái)面、右臺(tái)面間的位置示意圖。

圖2為現(xiàn)有放板曝光條帶的示意圖。

圖3為本發(fā)明放板曝光的示意圖。

圖4為現(xiàn)有放板且圖形尺寸超過(guò)正常要求時(shí)的條帶示意圖。

圖5為本發(fā)明放板且圖形尺寸超過(guò)正常要求時(shí)的條帶示意圖。

圖6為本發(fā)明光路軸、大理石橫梁和左臺(tái)面、右臺(tái)面間的結(jié)構(gòu)示意圖。

附圖標(biāo)記說(shuō)明：1-光路軸、2-大理石橫梁、3-左臺(tái)面、4-右臺(tái)面、5-條帶、6-橫梁支撐立柱、7-平臺(tái)底座以及8-臺(tái)面導(dǎo)軌。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合具體附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說(shuō)明。

如圖1、圖3和圖6所示：為了有效減少大理石橫梁2的長(zhǎng)度，減少占用面積，降低光刻機(jī)的重量，提高光刻機(jī)安裝環(huán)境的適應(yīng)能力，減小光路軸1的行程，降低光光刻機(jī)的成本，本發(fā)明包括大理石橫梁2以及安裝于所述大理石橫梁2上的光路軸1，在大理石橫梁2的下方設(shè)有左臺(tái)面3以及右臺(tái)面4，所述左臺(tái)面3、右臺(tái)面4在大理石橫梁2下方呈并置式放置；在進(jìn)行曝光時(shí)，放置于左臺(tái)面3上的左臺(tái)面板體與放置于右臺(tái)面4上的右臺(tái)面板體呈對(duì)稱式放置。

具體地，所述大理石橫梁2通過(guò)橫梁支撐立柱6安裝于平臺(tái)底座7上，在所述平臺(tái)底座7上還設(shè)有與左臺(tái)面3、右臺(tái)面4配合的臺(tái)面導(dǎo)軌8。左臺(tái)面3、右臺(tái)面4能支撐在對(duì)應(yīng)的臺(tái)面導(dǎo)軌8上，并能在臺(tái)面導(dǎo)軌8上運(yùn)動(dòng)，橫梁支撐立柱6分別位于左臺(tái)面3、右臺(tái)面4間的外側(cè)，橫梁支撐立柱6在平臺(tái)底座7上呈豎直放置，大理石橫梁2固定支撐在橫梁支撐立柱6的頂板，一般地，大理石橫梁2呈矩形狀，光路軸1安裝于大理石橫梁2上，光路軸1上設(shè)置用于曝光的光路，光路軸1在大理石橫梁2上能沿大理石橫梁2的長(zhǎng)度方向運(yùn)動(dòng)，光路能跟隨光路軸1同步運(yùn)動(dòng)，以滿足對(duì)左臺(tái)面3、右臺(tái)面4上的左臺(tái)面板體、右臺(tái)面板體的曝光。具體實(shí)施時(shí)，所述左臺(tái)面板體、右臺(tái)面板體為PCB板或晶圓。

一般地，左臺(tái)面3、右臺(tái)面4的形狀、尺寸等完全相同。左臺(tái)面3、右臺(tái)面4間具有臺(tái)面對(duì)稱軸，本發(fā)明實(shí)施例中，放置于左臺(tái)面3上的左臺(tái)面板體與放置于右臺(tái)面4上的右臺(tái)面板體呈對(duì)對(duì)稱式放置，具體是指，左臺(tái)面3上的左臺(tái)面板體與右臺(tái)面4上的右臺(tái)面板體關(guān)于左臺(tái)面3與右臺(tái)面4間的臺(tái)面對(duì)稱軸對(duì)稱，如，當(dāng)左臺(tái)面臺(tái)板在左臺(tái)面3上靠左邊放置時(shí)，右臺(tái)面臺(tái)面在右臺(tái)面4上則靠右臺(tái)面4的右側(cè)放置，以形成對(duì)稱放置的形式。此外，左臺(tái)面臺(tái)板還可以在左臺(tái)面3上靠中間位置放置或靠右側(cè)放置，無(wú)論左臺(tái)面臺(tái)板在左臺(tái)面3上采用何種位置放置，右臺(tái)面臺(tái)板在右臺(tái)面4上的放置位置與左臺(tái)面臺(tái)板呈對(duì)稱放置即可，具體位置可以根據(jù)需要進(jìn)行，不再一一列舉。

圖1中，光路固定在光路軸1上，光路軸1安裝在大理石橫梁2上方，光路可以沿著光路軸1自由移動(dòng)。光路軸1移動(dòng)區(qū)間，必須覆蓋左臺(tái)面3、右臺(tái)面4的范圍。

一般地，工作之前，光路軸1和左臺(tái)面3、右臺(tái)面4均處于待機(jī)位置；光路軸1待機(jī)位置為行程（光路軸1的行程是指在大理石橫梁2上的移動(dòng)范圍）正中間，光路軸1在左臺(tái)面3上的待機(jī)位置位于左臺(tái)面3的最左側(cè)，光路軸1在右臺(tái)面4上的待機(jī)位置位于右臺(tái)面4的最右側(cè)。對(duì)左臺(tái)面4曝光時(shí)，左臺(tái)面3移動(dòng)至光路下方的曝光位置，同時(shí)光路軸1移動(dòng)至左臺(tái)面3起始位置（即做條碼的最左側(cè)），開(kāi)始曝光；左臺(tái)面3曝光過(guò)程中，右臺(tái)面4移動(dòng)至曝光開(kāi)始位置；左臺(tái)面3曝光結(jié)束后，光路軸1由左側(cè)起始位置，移動(dòng)至右側(cè)起始位置，以便對(duì)右臺(tái)面4開(kāi)始曝光，對(duì)右臺(tái)面4曝光的過(guò)程與左臺(tái)面3曝光過(guò)程相一致，此處不再贅述。

如圖2所示，正常曝光需要若干個(gè)條帶（此處以3個(gè)條帶為例），左臺(tái)面臺(tái)板在左臺(tái)面3上以左臺(tái)面3的左下角定位時(shí)，右臺(tái)面臺(tái)板在右臺(tái)面4上以右臺(tái)面4的左下角定位，正常尺寸的臺(tái)板，在光路軸1帶動(dòng)光路在大理石橫梁2上移動(dòng)時(shí)，大理石橫梁2的長(zhǎng)度基本只取決于左左臺(tái)面3、右臺(tái)面4的寬度。

如圖3所示，本發(fā)明左臺(tái)面板體、右臺(tái)面板體采用對(duì)稱式放置的示意圖，其中，左臺(tái)面板體在左臺(tái)面3上以左臺(tái)面3的左下角定位時(shí)，右臺(tái)面板體在右臺(tái)面4上以右臺(tái)面4的右下角定；在正常曝光時(shí)，大理石橫梁2的長(zhǎng)度同樣只取決于左左臺(tái)面3、右臺(tái)面4的寬度。

如圖4所示，具體實(shí)施時(shí)，PCB廠根據(jù)實(shí)際需求，會(huì)生產(chǎn)一些超過(guò)正常寬度范圍的板子，此時(shí)，3個(gè)條帶已經(jīng)無(wú)法滿足使用，需要再增加一個(gè)條帶。曝光左臺(tái)面3的第4條帶時(shí)，不會(huì)增加大理石橫梁2的長(zhǎng)度。但是在右臺(tái)面4的曝光第4條帶時(shí)，如果不增加大理石橫梁2的長(zhǎng)度，會(huì)因?yàn)楣饴返慕Y(jié)構(gòu)，導(dǎo)致光路與橫梁支撐立柱6的干涉。因此，如果臺(tái)板采用現(xiàn)有的放置方式，必須增加大理石橫梁2的長(zhǎng)度，即將橫梁支撐立柱6在右臺(tái)面4的外側(cè)外移，滿足對(duì)右臺(tái)面4上的第4條帶的曝光需求，此時(shí)，才能滿足PCB廠生產(chǎn)需求。

如圖5所示，為采用本發(fā)明實(shí)施例中對(duì)稱放板的示意圖，即左臺(tái)面3以左下角為定位點(diǎn)放板，右臺(tái)面4以右下角為定位點(diǎn)放板，當(dāng)光路曝光第4條帶時(shí)，光路超出右臺(tái)面4的行程，因?yàn)樵诠饴份S1正中間，沒(méi)有光路與橫梁支撐立柱6產(chǎn)生干涉的風(fēng)險(xiǎn)。左臺(tái)面3與右臺(tái)面4一樣，從而可以有效減少大理石橫梁2的長(zhǎng)度。

本發(fā)明左臺(tái)面板體在左臺(tái)面3上的放置位置與右臺(tái)面板體在右臺(tái)面4上的放置位置呈對(duì)稱式放置，從而能有效降低大理石橫梁2的長(zhǎng)度，從而減小平臺(tái)底座7的占地面積，通過(guò)大理石橫梁2的長(zhǎng)度減小，能降低整個(gè)光刻機(jī)的質(zhì)量，使得光刻機(jī)可以適應(yīng)多變的安裝環(huán)境，此外，大理石橫梁2的長(zhǎng)度減小后，能使得光路軸1的行程減小，降低光刻機(jī)的成本，提高曝光效率，安全可靠。