本發(fā)明屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種曝光設(shè)備及曝光系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

現(xiàn)有技術(shù)當(dāng)中，通常采用接近式曝光機來生產(chǎn)彩色濾光片。

傳統(tǒng)接近式曝光機的曝光區(qū)域尺寸較為單一，通常只有一種或者兩種曝光區(qū)域。在生產(chǎn)彩色濾光片時，曝光區(qū)域(即曝光光線能照到的區(qū)域)應(yīng)當(dāng)與待曝光區(qū)域(即待曝光基板需要同時進行曝光的區(qū)域)尺寸相同。而不同產(chǎn)品的待曝光區(qū)域的尺寸各有不同，當(dāng)曝光區(qū)域大于待曝光區(qū)域時，需要將曝光區(qū)域超出待曝光區(qū)域的部分遮擋進行曝光?；蛘撸F(xiàn)有技術(shù)中，還可改變待曝光基板的放置方式(例如待曝光區(qū)域長度等于曝光區(qū)域?qū)挾?，通過旋轉(zhuǎn)待曝光基板用曝光區(qū)域?qū)挾葘?yīng)待曝光區(qū)域長度進行曝光)，以在滿足曝光需求的同時盡量減少曝光照度的浪費。

發(fā)明人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)中至少存在如下問題：對曝光區(qū)域遮擋進行曝光造成曝光照度利用不夠充分；為了應(yīng)對不同的待曝光基板放置方式，需要增加相應(yīng)的曝光輔助設(shè)備，導(dǎo)致曝光系統(tǒng)設(shè)備重復(fù)配置，成本較高。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一，提供一種能夠靈活調(diào)整曝光區(qū)域尺寸以應(yīng)對不同待曝光基板的曝光設(shè)備。

解決本發(fā)明技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是一種曝光設(shè)備，包括：

能發(fā)生形變的凹面反射鏡，用于反射曝光光線，并保證所述曝光光線最終射向曝光區(qū)域；

調(diào)整模組，用于改變所述凹面反射鏡的曲率。

優(yōu)選的，所述曝光設(shè)備還包括：反射模組，用于將來自所述凹面反射鏡的曝光光線反射向曝光區(qū)域。

優(yōu)選的，所述調(diào)整模組設(shè)置于所述凹面反射鏡的凸面?zhèn)取?/p>

優(yōu)選的，所述調(diào)整模組包括：第一支撐連桿、第二支撐連桿和角度調(diào)整模塊；其中，

所述第一支撐連桿的第一端部和第二支撐連桿的第一端部分別與所述凹面反射鏡的兩個相對邊連接，所述第一支撐連桿的第二端部和第二支撐連桿的第二端部轉(zhuǎn)動連接；

所述角度調(diào)整模塊用于調(diào)整所述第一支撐連桿與第二支撐連桿間的夾角角度。

進一步優(yōu)選的，所述角度調(diào)整模塊包括連接部和調(diào)整單元；其中，

所述連接部連接在所述第一支撐連桿和第二支撐連桿之間；

所述調(diào)整單元用于使所述連接部發(fā)生運動以調(diào)整所述第一支撐連桿與第二支撐連桿間的夾角角度。

進一步優(yōu)選的，所述連接部包括第一連接桿和第二連接桿；其中，

所述第一連接桿的第一端部和與第一支撐連桿相連，所述第二連接桿的第一端部和第二支撐連桿連接；

所述第一連接桿的第二端部和第二連接桿的第二端部均與所述調(diào)整單元連接；

所述調(diào)整單元用于帶動所述第一連接桿的第二端部和第二連接桿的第二端部在遠離或靠近所述凹面反射鏡的方向上運動。

進一步優(yōu)選的，所述調(diào)整單元包括螺母和螺紋桿；其中，

所述螺母與所述第一連接桿的第二端部和第二連接桿的第二端部分別固定連接，并套設(shè)在所述螺紋桿上；

所述螺紋桿轉(zhuǎn)動時能帶動所述螺母在遠離或靠近所述凹面反射鏡的方向上運動。

進一步優(yōu)選的，所述調(diào)整單元還包括：

固定設(shè)置的驅(qū)動器，用于驅(qū)動所述螺紋桿轉(zhuǎn)動。

解決本發(fā)明技術(shù)問題所采用的另一種技術(shù)方案是一種曝光系統(tǒng)，包括：上述任意一項所述的曝光設(shè)備。

優(yōu)選的，所述曝光系統(tǒng)還包括：用于放置待曝光基板的基臺；所述基臺上用于放置待曝光基板的區(qū)域的長度與寬度尺寸不同。

本發(fā)明的曝光設(shè)備包括能發(fā)生形變的凹面反射鏡和調(diào)整模組，其通過調(diào)整模組調(diào)整凹面反射鏡的曲率可以使曝光光線的反射角度發(fā)生變化，從而使最終形成的曝光區(qū)域的尺寸改變以對應(yīng)待曝光基板的曝光需求，同時使曝光照度得到有效利用。因此，利用本實施例提供的曝光設(shè)備，可以實現(xiàn)不同曝光需求的待曝光基板以同一放置方式進行曝光，無需重復(fù)設(shè)置測量設(shè)備等，從而節(jié)省了曝光成本。

附圖說明

圖1為本發(fā)明的實施例中待曝光區(qū)域尺寸不同的兩種待曝光基板的示意圖；

圖2為本發(fā)明的實施例中對一種待曝光基板進行曝光的示意圖；

圖3為本發(fā)明的實施例中對另一種待曝光基板進行曝光的示意圖；

其中附圖標記為：01、凹面反射鏡；11、第一支撐連桿；12、第二支撐連桿；21、第一連接桿；22、第二連接桿；31、螺紋桿；32、螺母；04、驅(qū)動器；05、待曝光基板；06、反射模組；07、基臺；08、待曝光區(qū)域。

具體實施方式

為使本領(lǐng)域技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖和具體實施方式對本發(fā)明作進一步詳細描述。

實施例1：

如圖1至3所示，本實施例提供一種曝光設(shè)備。

該曝光設(shè)備可為接近式，也可為其它形式，其可用于彩色濾光片的生產(chǎn)，當(dāng)然，其也可用于其它曝光。

如圖2所示，該曝光設(shè)備包括：能發(fā)生形變的凹面反射鏡01，用于反射曝光光線，并保證曝光光線最終射向曝光區(qū)域；調(diào)整模組，用于改變凹面反射鏡01的曲率。

其中，凹面反射鏡01用于反射由光源發(fā)出的曝光光線，使曝光光線經(jīng)過反射及后續(xù)傳輸后最終能夠照射向預(yù)定的曝光區(qū)域，以對待曝光基板05進行曝光。

具體的，如圖2和圖3所示，本實施例通過調(diào)整模組可使凹面反射鏡01發(fā)生形變，即可改變凹面反射鏡01的曲率，從而使入射凹面反射鏡01的曝光光線的反射角度發(fā)生改變。也就是說，通過調(diào)整模組可實現(xiàn)曝光光線在經(jīng)過凹面反射鏡01反射后擴散或者匯聚，曝光光線經(jīng)后續(xù)傳輸?shù)竭_曝光區(qū)域時曝光區(qū)域的尺寸會發(fā)生改變。對具有不同待曝光區(qū)域08的待曝光基板05(如圖1所示)，可調(diào)整曝光區(qū)域的尺寸使其與待曝光區(qū)域08相適應(yīng)，從而不用遮擋曝光區(qū)域和旋轉(zhuǎn)放置待曝光基板05，可以充分利用照度，簡化設(shè)備。

因此，利用本實施例提供的曝光設(shè)備，可以實現(xiàn)不同曝光需求的待曝光基板05以同一放置方式進行曝光，無需重復(fù)設(shè)置測量設(shè)備等，從而節(jié)省了曝光成本。

優(yōu)選的，本實施例提供的曝光設(shè)備還包括反射模組06，用于將來自凹面反射鏡01的曝光光線反射向曝光區(qū)域。

曝光光線經(jīng)凹面反射鏡01反射后，可能無法直接用于對待曝光基板05進行曝光，需要反射模組06對凹面反射鏡01所反射出的曝光光線進一步以反射，最終才能夠照射向預(yù)定的曝光區(qū)域。優(yōu)選的，該反射模組06為平面反射鏡。

優(yōu)選的，調(diào)整模組設(shè)置于凹面反射鏡01的凸面?zhèn)取?/p>

由于曝光光線自凹面反射鏡01的凹面入射并發(fā)生反射，故將調(diào)整模組置于凹面反射鏡01的凸面?zhèn)龋軌蚴拐{(diào)整模組在調(diào)整凹面反射鏡01曲率的同時不會對曝光光線的傳輸造成影響。

優(yōu)選的，調(diào)整模組包括：第一支撐連桿11、第二支撐連桿12和角度調(diào)整模塊。其中，第一支撐連桿11的第一端部和第二支撐連桿12的第一端部分別與凹面反射鏡01的兩個相對邊連接，第一支撐連桿11的第二端部和第二支撐連桿12的第二端部轉(zhuǎn)動連接；角度調(diào)整模塊用于調(diào)整第一支撐連桿11與第二支撐連桿12間的夾角角度。

具體的，如圖2和圖3所示，兩支撐連桿(即第一支撐連桿和第二支撐連桿)的第一端部分別連接凹面反射鏡01的兩個相對側(cè)，當(dāng)?shù)谝恢芜B桿和/或第二支撐連桿的第一端部發(fā)生運動時，可以帶動凹面反射鏡01的相應(yīng)側(cè)運動。兩支撐連桿的第二端部則為轉(zhuǎn)動連接，即兩支撐連桿可以兩支撐連桿的第二端部為中心相對轉(zhuǎn)動，從而能夠改變兩者之間的夾角角度。

而角度調(diào)整模塊用于調(diào)整兩支撐連桿間的夾角角度，使第一支撐連桿11和第二支撐連桿12的第一端部間的距離發(fā)生改變(即第一支撐連桿和/或第二支撐連桿的第一端部發(fā)生運動)，從而使凹面反射鏡01兩相對側(cè)間的距離變化，凹面反射鏡01受到壓力或者拉力而發(fā)生形變(曲率發(fā)生變化)，實現(xiàn)曝光區(qū)域尺寸的調(diào)整。

可以理解的是，第一支撐連桿和第二支撐連桿由硬質(zhì)材料構(gòu)成，在發(fā)生角度變化以及帶動凹面反射鏡01形變時其自身不會發(fā)生形變。

需要說明的是，在凹面反射鏡01的一組相對邊可設(shè)有多個調(diào)整模組，每個調(diào)整模組控制凹面反射鏡01的在相應(yīng)區(qū)域內(nèi)的部分發(fā)生形變，從而使凹面反射鏡01受力、形變均勻。調(diào)整模組的數(shù)量可根據(jù)凹面反射鏡01的尺寸以及形變需求進行設(shè)置及調(diào)整。

當(dāng)然，在凹面反射鏡01的兩組相對邊側(cè)，也可分別都設(shè)有調(diào)整模組，這樣能夠在兩方向進行變形調(diào)整，曝光區(qū)域的長度和寬度均可變。

優(yōu)選的，角度調(diào)整模塊包括連接部和調(diào)整單元。

連接部連接在第一支撐連桿11和第二支撐連桿12之間；調(diào)整單元用于使連接部發(fā)生運動以調(diào)整第一支撐連桿11與第二支撐連桿12間的夾角角度。

其中，連接部運動是指連接部局部或者整體相對第一支撐連桿和/或第二支撐連桿發(fā)生運動，例如，連接部可由可形變材料構(gòu)成，其通過變形時產(chǎn)生力帶動第一支撐連桿11和第二支撐連桿12轉(zhuǎn)動；或者，連接部也可由多個非彈性的部件組成，通過部件間的相對運動可帶動第一支撐連桿11和第二支撐連桿12轉(zhuǎn)動。

優(yōu)選的，連接部包括第一連接桿21和第二連接桿22。第一連接桿21的第一端部和與第一支撐連桿11相連，第二連接桿22的第一端部和第二支撐連桿12連接，第一連接桿21的第二端部和第二連接桿22的第二端部均與調(diào)整單元連接。調(diào)整單元用于帶動第一連接桿21的第二端部和第二連接桿22的第二端部在遠離或靠近凹面反射鏡01的方向上運動。

如圖2和圖3所示，本實施例優(yōu)選以兩連接桿(即第一連接桿和第二連接桿)作為連接部，通過角度調(diào)整模塊帶動兩連接桿的第二端部在遠離或靠近凹面反射鏡01的方向運動，由于兩連接桿的第一端部連在兩支撐連桿上，無法在該方向上動，故兩連接桿的第一端部會相互靠近或遠離，從而帶動兩支撐連桿轉(zhuǎn)動(即兩支撐連桿間的角度改變)。

當(dāng)然，為了使角度調(diào)整靈活準確，故兩連接桿的第一端部優(yōu)選分別連接在兩支撐連桿的第一端部處。

優(yōu)選的，調(diào)整單元包括螺母32和螺紋桿31；螺母32與第一連接桿21的第二端部和第二連接桿22的第二端部分別固定連接，并套設(shè)在螺紋桿31上；螺紋桿31轉(zhuǎn)動時能帶動螺母32在遠離或靠近凹面反射鏡01的方向上運動。

顯然，螺紋桿31轉(zhuǎn)動時必然與螺母32發(fā)生相對運動，而若螺紋桿31在遠離或靠近凹面反射鏡01的方向不做運動，則必然是螺母32通過在螺紋桿31上轉(zhuǎn)動實現(xiàn)在遠離或靠近凹面反射鏡01的方向上運動，從而帶動連接部(具體為帶動兩連接桿的第二端部)在該方向上運動，進而使支撐連桿的夾角角度發(fā)生變化，最終使凹面反射鏡01的曲率發(fā)生改變。

優(yōu)選的，調(diào)整單元還包括：固定設(shè)置的驅(qū)動器04，用于驅(qū)動螺紋桿31轉(zhuǎn)動。

也就是說，通過驅(qū)動器04的固定設(shè)置使螺紋桿31轉(zhuǎn)動的同時不會在靠近或者遠離凹面反射鏡01的方向上運動。優(yōu)選可用固定設(shè)置的馬達等作為驅(qū)動器04帶動螺紋桿31轉(zhuǎn)動。

當(dāng)然，調(diào)整模組也可以是其它能夠改變凹面反射鏡01曲率的裝置，在此不再詳述。

本實施例的曝光設(shè)備包括能發(fā)生形變的凹面反射鏡01和調(diào)整模組，其通過調(diào)整模組調(diào)整凹面反射鏡01的曲率可以使曝光光線的反射角度發(fā)生變化，從而使最終形成的曝光區(qū)域的尺寸改變以對應(yīng)待曝光基板05的曝光需求，不需要進行遮擋，使曝光照度得到有效利用。因此，利用本實施例提供的曝光設(shè)備，可以實現(xiàn)不同曝光需求的待曝光基板05以同一放置方式進行曝光，無需重復(fù)設(shè)置測量設(shè)備等，從而節(jié)省了曝光成本。

實施例2：

如圖2和3所示，本實施例提供一種曝光系統(tǒng)，包括實施例1中任意一種曝光設(shè)備。

本實施例的曝光系統(tǒng)中，曝光設(shè)備采用實施例1中所提供的曝光設(shè)備，詳細描述可參照實施例1，在此不再贅述。

優(yōu)選的，該曝光系統(tǒng)還包括：用于放置待曝光基板05的基臺07，基臺07上用于放置待曝光基板05的區(qū)域的長度與寬度尺寸不同。

本實施例中，凹面反射鏡01所反射出的曝光光線最終照射在基臺07上，將待曝光基板05放置與基臺07上便可進行曝光。

一般待曝光基板05不是正方形，長度與寬度不同，而現(xiàn)有曝光機的曝光區(qū)域為單一固定的，當(dāng)待曝光區(qū)域08與其不匹配時，可能需要旋轉(zhuǎn)待曝光基板05進行曝光。為此，基臺07的兩個尺寸均要等于待曝光基板05長度，才能在旋轉(zhuǎn)時避免待曝光基板05超出基臺07的承載區(qū)域范圍。本實施例中，曝光設(shè)備的曝光區(qū)域為可以靈活調(diào)整的，也就是說可以完全滿足待曝光基板05對曝光區(qū)域尺寸的不同需求。因此，該曝光系統(tǒng)中，待曝光基板05可始終以同一方式放置在基臺07上，而不用旋轉(zhuǎn)，故基臺07只要一個方向(長度)等于待曝光基板05長度即可，另一個方向(寬度)則可僅等于待曝光基板05的寬度，從而能夠減小基臺07的面積。

本實施例的曝光系統(tǒng)包括能發(fā)生形變的凹面反射鏡01和調(diào)整模組以及基臺07，可以根據(jù)不同的曝光需求靈活調(diào)整曝光區(qū)域的尺寸。其通過調(diào)整模組調(diào)整凹面反射鏡01的曲率可以使曝光光線的反射角度發(fā)生變化，從而使最終形成的曝光區(qū)域的尺寸改變以對應(yīng)待曝光基板05的曝光需求，不需要進行遮擋，同時使曝光照度得到有效利用。因此，在利用本實施例提供的曝光設(shè)備可以實現(xiàn)不同曝光需求的待曝光基板05以同一放置方式進行曝光，從而減小了基臺07面積，無需重復(fù)設(shè)置測量設(shè)備等，節(jié)省了曝光成本。

可以理解的是，以上實施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進，這些變型和改進也視為本發(fā)明的保護范圍。