技術編號：12785543
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明屬于顯示技術領域，具體涉及一種曝光設備及曝光系統(tǒng)。背景技術現有技術當中，通常采用接近式曝光機來生產彩色濾光片。傳統(tǒng)接近式曝光機的曝光區(qū)域尺寸較為單一，通常只有一種或者兩種曝光區(qū)域。在生產彩色濾光片時，曝光區(qū)域(即曝光光線能照到的區(qū)域)應當與待曝光區(qū)域(即待曝光基板需要同時進行曝光的區(qū)域)尺寸相同。而不同產品的待曝光區(qū)域的尺寸各有不同，當曝光區(qū)域大于待曝光區(qū)域時，需要將曝光區(qū)域超出待曝光區(qū)域的部分遮擋進行曝光。或者，現有技術中，還可改變待曝光基板的放置方式(例如待曝光區(qū)域長度等于曝光區(qū)域寬度...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。