1.一種曝光設(shè)備,其特征在于,包括:
能發(fā)生形變的凹面反射鏡,用于反射曝光光線,并保證所述曝光光線最終射向曝光區(qū)域;
調(diào)整模組,用于改變所述凹面反射鏡的曲率。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光設(shè)備,其特征在于,還包括:
反射模組,用于將來自所述凹面反射鏡的曝光光線反射向曝光區(qū)域。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光設(shè)備,其特征在于,
所述調(diào)整模組設(shè)置于所述凹面反射鏡的凸面?zhèn)取?/p>
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光設(shè)備,其特征在于,所述調(diào)整模組包括:第一支撐連桿、第二支撐連桿和角度調(diào)整模塊;其中,
所述第一支撐連桿的第一端部和第二支撐連桿的第一端部分別與所述凹面反射鏡的兩個相對邊連接,所述第一支撐連桿的第二端部和第二支撐連桿的第二端部轉(zhuǎn)動連接;
所述角度調(diào)整模塊用于調(diào)整所述第一支撐連桿與第二支撐連桿間的夾角角度。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的曝光設(shè)備,其特征在于,所述角度調(diào)整模塊包括連接部和調(diào)整單元;其中,
所述連接部連接在所述第一支撐連桿和第二支撐連桿之間;
所述調(diào)整單元用于使所述連接部發(fā)生運動以調(diào)整所述第一支撐連桿與第二支撐連桿間的夾角角度。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的曝光設(shè)備,其特征在于,所述連接部包括第一連接桿和第二連接桿;其中,
所述第一連接桿的第一端部和與第一支撐連桿相連,所述第二連接桿的第一端部和第二支撐連桿連接;
所述第一連接桿的第二端部和第二連接桿的第二端部均與所述調(diào)整單元連接;
所述調(diào)整單元用于帶動所述第一連接桿的第二端部和第二連接桿的第二端部在遠離或靠近所述凹面反射鏡的方向上運動。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的曝光設(shè)備,其特征在于,所述調(diào)整單元包括螺母和螺紋桿;其中,
所述螺母與所述第一連接桿的第二端部和第二連接桿的第二端部分別固定連接,并套設(shè)在所述螺紋桿上;
所述螺紋桿轉(zhuǎn)動時能帶動所述螺母在遠離或靠近所述凹面反射鏡的方向上運動。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的曝光設(shè)備,其特征在于,所述調(diào)整單元還包括:
固定設(shè)置的驅(qū)動器,用于驅(qū)動所述螺紋桿轉(zhuǎn)動。
9.一種曝光系統(tǒng),其特征在于,包括:
權(quán)利要求1至8中任意一項所述的曝光設(shè)備。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的曝光系統(tǒng),其特征在于,還包括:
用于放置待曝光基板的基臺;所述基臺上用于放置待曝光基板的區(qū)域的長度與寬度尺寸不同。