本實(shí)用新型涉及光阻供應(yīng)裝置技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種光阻緩沖罐。
背景技術(shù):
半導(dǎo)體制造工藝中通常需要在晶元上涂布光阻,由于大部分的光阻為液態(tài),因此通常利用管路供應(yīng)系統(tǒng)將光阻輸送至一噴嘴,同時(shí)將晶元傳送到位于噴嘴下方的工作位上,由噴嘴將光阻噴涂到晶元上。
圖1示出了一種用于在半導(dǎo)體制造工藝中供應(yīng)光阻的傳統(tǒng)管路供應(yīng)系統(tǒng),該系統(tǒng)包括:一個(gè)存儲(chǔ)光阻的光阻瓶(Resist bottle)1;一個(gè)光阻緩沖罐(L/E tank)2,該光阻緩沖罐2包括罐體3及設(shè)置在罐體3上的一上限探測器4和一下限探測器5,罐體3為類圓柱體,上限探測器4和下限探測器5固定于罐體3的內(nèi)部上方和內(nèi)部下方,定義光阻緩沖罐2的上限探測器4和下限探測器5之間的液面高度為標(biāo)準(zhǔn)高度,上限探測器4和下限探測器5均用于檢測罐體3內(nèi)的光阻的液面高度,當(dāng)液面到達(dá)上限探測器4的位置時(shí)上限探測器4發(fā)信號(hào)給機(jī)臺(tái),機(jī)臺(tái)報(bào)警,當(dāng)液面到達(dá)下限探測器5時(shí)下限探測器5發(fā)信號(hào)給機(jī)臺(tái),機(jī)臺(tái)報(bào)警;一個(gè)給水泵(Feed punp)6;一個(gè)過濾器(Filter)7,用于過濾光阻中的氣泡等雜質(zhì);一個(gè)分配泵(Dispense pump)8,連接噴嘴9,噴嘴9下方是工作位,工作位上放置由機(jī)臺(tái)傳送過來的晶元10。
傳統(tǒng)管路供應(yīng)系統(tǒng)中,光阻緩沖罐2內(nèi)的能夠容置光阻的最大預(yù)設(shè)容量為標(biāo)準(zhǔn)容量,對(duì)應(yīng)光阻緩沖罐內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)容量的光阻的液面最大高度為上述標(biāo)準(zhǔn)高度。上限探測器4位于液面最上方即設(shè)置在對(duì)應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)容量和標(biāo)準(zhǔn)高度的100%的位置,上述下限探測器位于液面最下方即設(shè)置在對(duì)應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)容量和標(biāo)準(zhǔn)高度的0%的位置。如果位于光阻緩沖罐2內(nèi)部上方的上限探測器4被觸發(fā),機(jī)臺(tái)會(huì)報(bào)警,此時(shí)光阻瓶1中的光阻用盡,提示該更換光阻瓶1中的光阻,機(jī)臺(tái)會(huì)繼續(xù)傳送已經(jīng)抽片的晶元10至工作位,同時(shí)暫停傳送沒有抽片的晶元10,等更換過光阻瓶1中的光阻后重新運(yùn)行;如果位于光阻緩沖罐2內(nèi)部下方的下限探測器5被觸發(fā),機(jī)臺(tái)不僅暫停傳送已經(jīng)抽片的晶元10,同時(shí)暫停傳送沒有抽片的晶元10,并且此時(shí)光阻緩沖罐2中的氣泡容易進(jìn)入光阻管路中形成影響最終的注入或涂布效果。
一旦光阻瓶1中的光阻用盡,光阻緩沖罐2上的上限探測器4被觸發(fā),光阻瓶1中光阻報(bào)空而操作人員手邊暫時(shí)沒有可供應(yīng)的光阻,那么只能暫停管路供應(yīng)系統(tǒng),等補(bǔ)充過光阻后再重新運(yùn)行,這樣不僅影響產(chǎn)品的正常生產(chǎn),由于晶元10和光阻在生產(chǎn)線上的預(yù)留的生產(chǎn)時(shí)間有限,暫停生產(chǎn)也容易影響最終的產(chǎn)品效果。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題,本實(shí)用新型提供了一種能夠有利于在光阻的管路供應(yīng)系統(tǒng)中持續(xù)不間斷供應(yīng)光阻的光阻緩沖罐。
本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案:
一種光阻緩沖罐,所述光阻緩沖罐包括:
一罐體;
一移動(dòng)探測裝置,所述移動(dòng)探測裝置固定設(shè)置于所述罐體的內(nèi)部;所述移動(dòng)探測裝置包括:
一滑動(dòng)支架;
一上限探測器,所述上限探測器滑動(dòng)設(shè)置于所述滑動(dòng)支架上。
優(yōu)選的,所述罐體的頂部設(shè)有與所述罐體連通的進(jìn)液管。
優(yōu)選的,所述罐體的頂部設(shè)有與所述罐體連通的排氣管。
優(yōu)選的,所述罐體的底部設(shè)有與所述罐體連通的出液管.
優(yōu)選的,所述滑動(dòng)支架包括:
縱向支架,所述縱向支架與所述光阻緩沖罐內(nèi)的液面高度方向平行;
橫向支架,所述橫向支架滑動(dòng)設(shè)置于所述縱向支架上,所述上限探測器連接在所述橫向支架上;
固定裝置,所述橫向支架通過所述固定裝置與所述縱向支架固定連接。
優(yōu)選的,所述縱向支架沿所述光阻緩沖罐內(nèi)的光阻的液面高度方向由上到下依照預(yù)設(shè)間隔距離依次設(shè)有與第一預(yù)設(shè)位置相對(duì)應(yīng)的第一固定位、與第二預(yù)設(shè)位置相對(duì)應(yīng)的第二固定位、與第三預(yù)設(shè)位置相對(duì)應(yīng)的第三固定位以及與第四預(yù)設(shè)位置相對(duì)應(yīng)的第四固定位。
優(yōu)選的,所述光阻緩沖罐還包括:
一下限探測器,所述下限探測器固定設(shè)置于所述罐體內(nèi)部下方的與第五預(yù)設(shè)位置相對(duì)應(yīng)的第五固定位上。
優(yōu)選的,所述第四預(yù)設(shè)位置與所述第五預(yù)設(shè)位置之間的距離和所述預(yù)設(shè)間隔距離相同。
優(yōu)選的,所述第一預(yù)設(shè)位置對(duì)應(yīng)所述光阻緩沖罐的標(biāo)準(zhǔn)容量的標(biāo)準(zhǔn)高度,所述第二預(yù)設(shè)位置對(duì)應(yīng)所述標(biāo)準(zhǔn)高度的75%,所述第三預(yù)設(shè)位置對(duì)應(yīng)所述標(biāo)準(zhǔn)高度的50%,所述第四預(yù)設(shè)位置對(duì)應(yīng)所述標(biāo)準(zhǔn)高度的25%,所述第五預(yù)設(shè)位置對(duì)應(yīng)所述標(biāo)準(zhǔn)高度的0%。
優(yōu)選的,所述光阻緩沖罐的標(biāo)準(zhǔn)容量為200cc。
本實(shí)用新型的有益效果是:根據(jù)需要靈活調(diào)整上限探測器的位置,光阻緩沖罐內(nèi)的光阻從充滿狀態(tài)時(shí)的標(biāo)準(zhǔn)高度處回落到上限探測器所處的高度時(shí)存在一時(shí)間差,利用該時(shí)間差操作人員可向光阻瓶中添加更換光阻以保證光阻瓶能持續(xù)不間斷的向光阻緩沖罐內(nèi)輸送光阻,保證在光阻的管路供應(yīng)系統(tǒng)中持續(xù)不間斷供應(yīng)光阻,且向光阻瓶中更換光阻時(shí)不需要暫停光阻的管路供應(yīng)系統(tǒng),提高生產(chǎn)線的穩(wěn)定性,提高最終產(chǎn)品質(zhì)量。
附圖說明
圖1為現(xiàn)有技術(shù)中,管路供應(yīng)系統(tǒng)的示意圖;
圖2為本實(shí)用新型的一種優(yōu)選實(shí)施例中,光阻緩沖罐的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
需要說明的是,在不沖突的狀態(tài)下,下述技術(shù)方案,技術(shù)特征之間可以相互組合。
下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式作進(jìn)一步的說明:
如圖2所示,一種光阻緩沖罐,上述光阻緩沖罐包括:
一罐體11,上述罐體11的頂部設(shè)有與上述罐體11連通的進(jìn)液管12和排氣管14,上述罐體11的底部設(shè)有與上述罐體11連通的出液管13;
一下限探測器15,上述下限探測器15設(shè)置于上述罐體11內(nèi)部下方;
一移動(dòng)探測裝置,上述移動(dòng)探測裝置固定設(shè)置于上述罐體11內(nèi)部下方的與第五預(yù)設(shè)位置相對(duì)應(yīng)的第五固定位24上;上述移動(dòng)探測裝置包括:
一滑動(dòng)支架17;
一上限探測器,上述上限探測器滑動(dòng)設(shè)置于上述滑動(dòng)支架17上。
在本實(shí)施例中,光阻流入光阻緩沖罐,如果進(jìn)液管12中含有氣泡,由于重力作用氣泡會(huì)自動(dòng)浮出光阻,停留在光阻緩沖罐中光阻液面的上方,并通過排氣管14排出,緩沖罐內(nèi)不含氣泡的光阻通過其下方的出液管13流入噴嘴,進(jìn)行光阻注入和/或光阻涂布。
光阻緩沖罐內(nèi)的液面高度到達(dá)上限探測器的位置時(shí)觸發(fā)上限探測器,此時(shí)上線探測器16報(bào)警,根據(jù)需要靈活調(diào)整上限探測器的位置,光阻緩沖罐內(nèi)的光阻從充滿狀態(tài)(標(biāo)準(zhǔn)容量)時(shí)的最高液面高度處回落到上限探測器所處的高度處存在一時(shí)間差,利用該時(shí)間差操作人員可向管路供應(yīng)系統(tǒng)中與光阻緩沖罐連接的光阻瓶中添加更換光阻以保證光阻瓶能持續(xù)不間斷的向光阻緩沖罐內(nèi)輸送光阻,保證在光阻的管路供應(yīng)系統(tǒng)中持續(xù)不間斷供應(yīng)光阻,且向光阻瓶中更換光阻時(shí)不需要暫停光阻的管路供應(yīng)系統(tǒng),提高生產(chǎn)線的穩(wěn)定性,提高最終產(chǎn)品質(zhì)量。
光阻緩沖罐內(nèi)的液面高度到達(dá)下限探測器15的位置時(shí)觸發(fā)下限探測器15,此時(shí)上線探測器16報(bào)警,操作人員向光阻瓶中添加光阻,避免因?yàn)楣庾杈彌_瓶中液面過低產(chǎn)生氣泡影響后續(xù)生產(chǎn)。
本實(shí)用新型較佳的實(shí)施例中,上述滑動(dòng)支架17上沿光阻緩沖罐內(nèi)的液面高度方向由上到下依照預(yù)設(shè)間隔距離依次設(shè)有與第一預(yù)設(shè)位置相對(duì)應(yīng)的第一固定位20、與第二預(yù)設(shè)位置相對(duì)應(yīng)的第二固定位21、與第三預(yù)設(shè)位置相對(duì)應(yīng)的第三固定位22以及與第四預(yù)設(shè)位置相對(duì)應(yīng)的第四固定位23,上述第一固定位20與上述光阻緩沖罐內(nèi)充滿光阻時(shí)的最高液面高度齊平,上述第四固定位23與上述第五固定位24之間的高度和上述預(yù)定間隔高度相同,上述第四預(yù)設(shè)位置與上述第五預(yù)設(shè)位置之間的距離和上述預(yù)設(shè)間隔距離相同。
在本實(shí)施例中,光阻緩沖罐2內(nèi)的能夠容置光阻的最大預(yù)設(shè)容量為標(biāo)準(zhǔn)容量,對(duì)應(yīng)光阻緩沖罐內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)容量的光阻的液面最大高度為標(biāo)準(zhǔn)高度。上述第一預(yù)設(shè)位置位于液面最上方即設(shè)置在對(duì)應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)容量和標(biāo)準(zhǔn)高度的100%的位置,上述第二預(yù)設(shè)位置位于對(duì)應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)容量和標(biāo)準(zhǔn)高度75%的位置,上述第三預(yù)設(shè)位置位于對(duì)應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)容量和標(biāo)準(zhǔn)高度50%的位置,上述第四預(yù)設(shè)位置位于對(duì)應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)容量和標(biāo)準(zhǔn)高度25%的位置,上述第五預(yù)設(shè)位置位于液面最下方即設(shè)置在對(duì)應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)容量和標(biāo)準(zhǔn)高度0%的位置。
當(dāng)上限探測器16移動(dòng)到第二固定位21并固定于滑動(dòng)支架17上,預(yù)留出來的時(shí)間差為輸出標(biāo)準(zhǔn)容量的25%對(duì)應(yīng)的時(shí)間,相應(yīng)的在光阻的管路供應(yīng)系統(tǒng)中,在這個(gè)時(shí)間差內(nèi)可以多傳送對(duì)應(yīng)數(shù)量的晶元到工作位上進(jìn)行光阻的噴涂;當(dāng)上限探測器移動(dòng)到第三固定位22并固定于滑動(dòng)支架17上,預(yù)留出來的時(shí)間差為輸出標(biāo)準(zhǔn)容量的50%對(duì)應(yīng)的時(shí)間;當(dāng)上限探測器移動(dòng)到第四固定位23并固定于滑動(dòng)支架17上,預(yù)留出來的時(shí)間差為輸出標(biāo)準(zhǔn)容量的75%對(duì)應(yīng)的時(shí)間,在這個(gè)時(shí)間差內(nèi)也可以多傳送對(duì)應(yīng)數(shù)量的晶元到工作位上進(jìn)行光阻的噴涂。
本實(shí)用新型較佳的實(shí)施例中,上述光阻緩沖罐的標(biāo)準(zhǔn)容量為200cc。
本實(shí)用新型較佳的實(shí)施例中,上述滑動(dòng)支架17包括:
縱向支架18,上述縱向支架18與上述光阻緩沖罐內(nèi)的液面高度方向平行;
橫向支架19,上述橫向支架19滑動(dòng)設(shè)置于上述縱向支架18上,上述上限探測器16連接在上述橫向支架19上;
固定裝置(圖中未示出),橫向支架19通過所述固定裝置與所述縱向支架18固定連接。
在本實(shí)施例中,操作者根據(jù)需要將上限探測器15移動(dòng)到縱向支架18上的上述固定位后由固定座裝置將橫向支架19固定在縱向支架18上的該固定位上。
對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言,閱讀上述說明后,各種變化和修正無疑將顯而易見。因此,所附的權(quán)利要求書應(yīng)看作是涵蓋本實(shí)用新型的真實(shí)意圖和范圍的全部變化和修正。在權(quán)利要求書范圍內(nèi)任何和所有等價(jià)的范圍與內(nèi)容,都應(yīng)認(rèn)為仍屬本實(shí)用新型的意圖和范圍內(nèi)。