技術編號：11604839
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本實用新型涉及光阻供應裝置技術領域，尤其涉及一種光阻緩沖罐。背景技術半導體制造工藝中通常需要在晶元上涂布光阻，由于大部分的光阻為液態(tài)，因此通常利用管路供應系統(tǒng)將光阻輸送至一噴嘴，同時將晶元傳送到位于噴嘴下方的工作位上，由噴嘴將光阻噴涂到晶元上。圖1示出了一種用于在半導體制造工藝中供應光阻的傳統(tǒng)管路供應系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括：一個存儲光阻的光阻瓶(Resistbottle)1；一個光阻緩沖罐(L/Etank)2，該光阻緩沖罐2包括罐體3及設置在罐體3上的一上限探測器4和一下限探測器5，罐體3為類圓柱體，...
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