技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了光刻裝置、圖案形成方法和用于制造產(chǎn)品的方法。提供抑制臺架控制的精度的下降的至少一個光刻裝置。該光刻裝置包括：移動單元，所述移動單元被配置為與安裝在其上的原版或基板一起移動；多個測量單元，所述多個測量單元被配置為獲得關(guān)于所述移動單元的位置的信息，各測量單元的測量區(qū)域彼此重疊；以及控制單元，所述控制單元被配置為基于位于重疊測量區(qū)域中的切換位置來切換被用于獲得關(guān)于所述移動單元的位置的信息的測量單元，其中，在對所述原版上或基板上的多個處理目標(biāo)中的一個處理目標(biāo)執(zhí)行多個處理的情況下，所述控制單元使切換位置能夠改變并且控制測量單元，使得在執(zhí)行所述多個處理中所述測量單元中的同一個測量單元被使用。

技術(shù)研發(fā)人員：山田雅教
受保護(hù)的技術(shù)使用者：佳能株式會社
文檔號碼：201610803515
技術(shù)研發(fā)日：2016.09.06
技術(shù)公布日：2017.03.22