1.一種在基板上形成圖案的光刻裝置，其特征在于，該光刻裝置包括：
移動單元，所述移動單元被配置為與安裝在該移動單元上的原版或基板一起移動；
多個測量單元，所述多個測量單元被配置為獲得關(guān)于所述移動單元的位置的信息，各測量單元的測量區(qū)域彼此重疊；以及
控制單元，所述控制單元被配置為基于位于重疊測量區(qū)域中的切換位置來切換被用于獲得關(guān)于所述移動單元的位置的信息的測量單元，
其中，在對所述原版上或基板上的多個處理目標中的一個處理目標執(zhí)行多個處理的情況下，所述控制單元使切換位置能夠改變并且控制測量單元，使得在執(zhí)行所述多個處理中所述測量單元中的同一個測量單元被使用。
2.一種在基板上形成圖案的光刻裝置，其特征在于，該光刻裝置包括：
移動單元，所述移動單元被配置為與安裝在該移動單元上的原版或基板一起移動；
多個測量單元，所述多個測量單元被配置為獲得關(guān)于所述移動單元的位置的信息，各測量單元的測量區(qū)域彼此重疊；以及
控制單元，所述控制單元被配置為基于位于重疊測量區(qū)域中的切換位置來切換被用于獲得關(guān)于所述移動單元的位置的信息的測量單元，
其中，在對所述原版上、基板上或移動單元上的多個處理目標執(zhí)行處理中所述移動單元在不同方向上移動的情況下，所述控制單元使切換位置能夠改變并且控制測量單元，使得在對處理目標中的一個處理目標執(zhí)行多個處理中所述測量單元中的同一個測量單元被使用。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻裝置，其中，所述控制單元基于所述原版或基板與所述移動單元之間的偏離量來改變切換位置，并且控制測量單元，使得同一測量單元被使用。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光刻裝置，其中，所述控制單元基于在對所述一個處理目標執(zhí)行處理時所述移動單元的位置來改變切換位置，并且控制測量單元，使得同一測量單元被使用。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻裝置，其中，所述控制單元基于關(guān)于被用于所述一個處理目標的測量單元的信息來改變切換位置，并且控制測量單元，使得同一測量單元被使用。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光刻裝置，其中，所述控制單元將關(guān)于測量單元的信息存儲在存儲單元中。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻裝置，其中，處理目標是所述基板上的射擊、形成在所述基板上的對準標記以及形成在其上安裝所述基板的移動單元上的基準標記中的任一個。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光刻裝置，其中，所述多個處理包括焦點測量處理、基板處理、基板處理的結(jié)果的測量處理、對準測量處理以及基準標記測量處理中的任一個。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻裝置，其中，處理目標是形成在所述原版上的對準標記或形成在其上安裝所述原板的移動單元上的基準標記。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光刻裝置，其中，所述多個處理包括對準測量處理或基準標記測量處理。
11.一種在基板上形成圖案的光刻裝置，其特征在于，該光刻裝置包括：
移動單元，所述移動單元被配置為與安裝在該移動單元上的原版或基板一起移動；
多個測量單元，所述多個測量單元被配置為獲得關(guān)于所述移動單元的位置的信息，各測量單元的測量區(qū)域彼此重疊；以及
控制單元，所述控制單元被配置為在重疊測量區(qū)域中切換被用于獲得關(guān)于所述移動單元的位置的信息的測量單元，
其中，在對多個原版或基板上的多個處理目標執(zhí)行處理的情況下，所述控制單元基于關(guān)于要被用于測量所述移動單元的測量單元的信息來控制測量單元，要被使用的測量單元相對于處理目標被事先確定，使得所述測量單元中的同一個測量單元被使用。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光刻裝置，其中，所述控制單元將關(guān)于測量單元的信息存儲在存儲單元中。
13.一種用于通過使用光刻裝置在基板上形成圖案的圖案形成方法，其特征在于，該方法包括：
與安裝在光刻裝置的移動單元上的原版或基板一起移動該移動單元；
通過所述光刻裝置的多個測量單元獲得關(guān)于所述移動單元的位置的信息，各測量單元的測量區(qū)域彼此重疊；以及
基于位于重疊測量區(qū)域中的切換位置來切換被用于獲得關(guān)于所述移動單元的位置的信息的測量單元，
其中，在對所述原版上或基板上的多個處理目標中的一個處理目標執(zhí)行多個處理的情況下，使切換位置能夠改變并且控制測量單元，使得在執(zhí)行所述多個處理中所述測量單元中的同一個測量單元被使用。
14.一種用于通過使用光刻裝置在基板上形成圖案的圖案形成方法，其特征在于，該方法包括：
與安裝在光刻裝置的移動單元上的原版或基板一起移動該移動單元；
通過所述光刻裝置的多個測量單元獲得關(guān)于所述移動單元的位置的信息，各測量單元的測量區(qū)域彼此重疊；以及
基于位于重疊測量區(qū)域中的切換位置來切換被用于獲得關(guān)于所述移動單元的位置的信息的測量單元，
其中，在對所述原版上、基板上或移動單元上的多個處理目標執(zhí)行處理中所述移動單元在不同方向上移動的情況下，使切換位置能夠改變并且控制測量單元，使得在對處理目標中的一個處理目標執(zhí)行多個處理中所述測量單元中的同一個測量單元被使用。
15.一種用于通過使用光刻裝置在基板上形成圖案的圖案形成方法，其特征在于，該方法包括：
與安裝在光刻裝置的移動單元上的原版或基板一起移動該移動單元；
通過多個測量單元獲得關(guān)于所述移動單元的位置的信息，各測量單元的測量區(qū)域彼此重疊；以及
基于位于重疊測量區(qū)域中的切換位置來切換被用于獲得關(guān)于所述移動單元的位置的信息的測量單元，
其中，在對多個原版或基板上的多個處理目標執(zhí)行處理的情況下，基于關(guān)于要被用于測量所述移動單元的測量單元的信息來控制測量單元，要被使用的測量單元相對于處理目標被事先確定，使得所述測量單元中的同一個測量單元被使用。
16.一種用于制造產(chǎn)品的方法，其特征在于，該方法包括：
通過使用光刻裝置在基板上形成圖案；和
處理通過形成步驟在其上形成所述圖案的基板，
其中，所述光刻裝置包括：
移動單元，所述移動單元被配置為與安裝在該移動單元上的原版或基板一起移動，
多個測量單元，所述多個測量單元被配置為獲得關(guān)于所述移動單元的位置的信息，各測量單元的測量區(qū)域彼此重疊，以及
控制單元，所述控制單元被配置為基于位于重疊測量區(qū)域中的切換位置來切換被用于獲得關(guān)于所述移動單元的位置的信息的測量單元，
其中，在對所述原版上或基板上的多個處理目標中的一個處理目標執(zhí)行多個處理的情況下，所述控制單元使切換位置能夠改變并且控制測量單元，使得在執(zhí)行所述多個處理中所述測量單元中的同一個測量單元被使用。