本發(fā)明屬于信息保密領域，涉及一種信息隱藏與重現(xiàn)技術，特別是涉及一種基于光學元件的信息隱藏與重現(xiàn)的方法。

背景技術：

早在新世紀之初，人類就開始走進了以信息技術為核心的知識經(jīng)濟時代，信息資源已成為與人類賴以生存的材料能源同等重要的戰(zhàn)略資源。而信息技術則正以其無與倫比的先進性滲透到其它各個行業(yè)，可以說二十一世紀是一個信息化的時代，信息化已成為推進國民經(jīng)濟和社會發(fā)展的助力器，信息化水平則成為一個城市或地區(qū)現(xiàn)代化水平和綜合實力的標志。信息化給人們的生活帶來了莫大的方便，但同時信息的泄露也帶來了人們極大的困擾?，F(xiàn)代人多是依靠電子技術或互聯(lián)網(wǎng)技術將信息存儲到硬盤或互聯(lián)網(wǎng)，這種信息存儲技術存儲信息容量大，保密性較高。但由于它是一種現(xiàn)代通用的技術，因而對某些高保密性的信息，遭泄露的風險還是較大，因為對方自然而然地就會想到從現(xiàn)今通用的電子或互聯(lián)網(wǎng)存儲方式著手來破解這些信息。所以，亟待開發(fā)一種反傳統(tǒng)的、令人意想不到的信息存儲及保密技術。

技術實現(xiàn)要素：

鑒于以上所述現(xiàn)有技術的缺點，本發(fā)明的目的在于提供一種基于光學元件的信息隱藏與重現(xiàn)的方法，用于解決現(xiàn)有技術中高保密度信息遭泄露風險大的問題。

為實現(xiàn)上述目的及其他相關目的，本發(fā)明提供一種基于光學元件的信息隱藏與重現(xiàn)的方法，所述方法至少包括：

提供一基底，在所述基底表面制作包含待隱藏與重現(xiàn)的信息的光學元件；

在所述光學元件表面覆蓋一層與所述基底折射率匹配的覆蓋層，實現(xiàn)信息的隱藏；

去除所述覆蓋層，將一束電磁波入射至所述基底的光學元件上，實現(xiàn)所述信息的重現(xiàn)。

作為本發(fā)明基于光學元件的信息隱藏與重現(xiàn)的方法的一種優(yōu)化的方案，所述基底為硬性材料或柔性材料。

作為本發(fā)明基于光學元件的信息隱藏與重現(xiàn)的方法的一種優(yōu)化的方案，所述基底為冕牌玻璃。

作為本發(fā)明基于光學元件的信息隱藏與重現(xiàn)的方法的一種優(yōu)化的方案，在所述基底表面制作包含待隱藏與重現(xiàn)的信息的光學元件的過程為：

1)通過光學仿真軟件設計掩模板，所述掩模板用于定義包含待隱藏與重現(xiàn)的信息的光學元件圖形；

2)在所述基底表面形成光刻膠，利用微納加工工藝將所述掩模板上的圖形轉移至所述光刻膠上，并通過刻蝕工藝刻蝕所述基底，形成包含待隱藏與重現(xiàn)的信息的光學元件。

作為本發(fā)明基于光學元件的信息隱藏與重現(xiàn)的方法的一種優(yōu)化的方案，所述步驟2)中刻蝕的深度對應工作電磁波的波長。

作為本發(fā)明基于光學元件的信息隱藏與重現(xiàn)的方法的一種優(yōu)化的方案，在所述基底表面制作包含待隱藏與重現(xiàn)的信息的光學元件的方法為：先通過微納加工工藝制作包含待隱藏與重現(xiàn)的信息的光學元件為母版，再通過澆注成型或納米壓印圖形轉移方法將母版轉移至所述基底表面。

作為本發(fā)明基于光學元件的信息隱藏與重現(xiàn)的方法的一種優(yōu)化的方案，通過所述電磁波來讀取信息的方式為透射或者反射。

作為本發(fā)明基于光學元件的信息隱藏與重現(xiàn)的方法的一種優(yōu)化的方案，所述電磁波的工作波長為1nm～1m。

作為本發(fā)明基于光學元件的信息隱藏與重現(xiàn)的方法的一種優(yōu)化的方案，所述覆蓋層完全填充于光學元件表面。

作為本發(fā)明基于光學元件的信息隱藏與重現(xiàn)的方法的一種優(yōu)化的方案，所述覆蓋層為蠶絲蛋白。

如上所述，本發(fā)明的基于光學元件的信息隱藏與重現(xiàn)的方法，具有以下有益效果：

1、本發(fā)明的信息儲存方法是一種基于光學元件的方法，是一種反傳統(tǒng)的方法，能做到出其不意，難以被發(fā)現(xiàn)。

2、本發(fā)明的信息隱藏和重現(xiàn)的方法基于線性光學原理，實現(xiàn)簡單，保密性高，信息隱藏后重現(xiàn)的還原度高，且可多次利用。

3、本發(fā)明這種新奇的信息存儲、隱藏和重現(xiàn)技術將給信息領域提供一個全新的思路，極具現(xiàn)實意義。

附圖說明

圖1為實施例中用于定義包含有所需信息衍射光學元件圖形的掩模板的局部俯視圖。

圖2～圖4為實施例中微納加工技術制造信息載體的結構流程圖。

圖5和圖6為實施例中信息隱藏結構圖。

圖7～圖8為實施例中信息隱藏與重現(xiàn)的原理圖。

元件標號說明

1 掩模板

2 光刻膠

3 基底

4 光學元件

5 覆蓋層

6 電磁波

7 信息出現(xiàn)時的透射激光

8 信息隱藏時的透射激光

具體實施方式

以下通過特定的具體實例說明本發(fā)明的實施方式，本領域技術人員可由本說明書所揭露的內容輕易地了解本發(fā)明的其他優(yōu)點與功效。本發(fā)明還可以通過另外不同的具體實施方式加以實施或應用，本說明書中的各項細節(jié)也可以基于不同觀點與應用，在沒有背離本發(fā)明的精神下進行各種修飾或改變。

請參閱附圖。需要說明的是，本實施例中所提供的圖示僅以示意方式說明本發(fā)明的基本構想，遂圖式中僅顯示與本發(fā)明中有關的組件而非按照實際實施時的組件數(shù)目、形狀及尺寸繪制，其實際實施時各組件的型態(tài)、數(shù)量及比例可為一種隨意的改變，且其組件布局型態(tài)也可能更為復雜。

本發(fā)明提供一種基于光學元件的信息隱藏與重現(xiàn)的方法，所述方法包括以下步驟：

S1，提供一基底，在所述基底表面制作包含待隱藏與重現(xiàn)的信息的光學元件；

S2，在所述光學元件表面覆蓋一層與所述基底折射率匹配的覆蓋層，實現(xiàn)信息的隱藏；

S3，去除所述覆蓋層，將一束電磁波入射至所述基底的光學元件上，實現(xiàn)所述信息的重現(xiàn)。

以下通過具體附圖來詳細說明本發(fā)明基于光學元件的信息隱藏與重現(xiàn)的方法。

首先執(zhí)行步驟S1，提供一基底3，在所述基底3表面制作包含待隱藏與重現(xiàn)的信息的光學元件4。

作為示例，所述基底3可以是硬性材料或柔性材料。本實施例中，所述基底3選擇為冕牌玻璃，冕牌玻璃的折射率為1.52。

作為示例，在其中一個實施例中，在所述基底3表面制作包含待隱藏與重現(xiàn)的信息的光學元件4的過程為：

首先，通過光學仿真軟件VirtualLab設計掩模板1，所述掩模板用于定義包含待隱藏與重現(xiàn)的信息的衍射光學元件圖形，如圖1所示為掩模板1的俯視圖。

然后，如圖2所示在所述基底3表面形成光刻膠2，利用微納加工工藝將所述掩模板1上的圖形轉移至所述光刻膠2上，并通過刻蝕工藝刻蝕所述基底3，之后去除所述光刻膠2。形成包含待隱藏與重現(xiàn)的信息的光學元件4。

具體地，如圖2所示，將所述掩模板1置于所述基底3的上方；再請參考附圖3，通過曝光工藝將將所述掩模板1上的圖形轉移至所述光刻膠2上；再以光刻膠2為掩膜，刻蝕所述基底3，在表面形成包含待隱藏與重現(xiàn)的信息的光學元件4；最后，如圖4所示，去除所述光刻膠2。

作為示例，刻蝕的深度對應工作電磁波的波長。所述電磁波的工作波長為1nm～1m。波長跟刻蝕深度之間通過公式具有一一對應關系。本實施例中，利用波長為650nm的電磁波作為工作電磁波。該電磁波對應基底3所述需要刻蝕的深度為602nm。

本步驟中，在所述基底3表面制作包含待隱藏與重現(xiàn)的信息的光學元件4的方法還可以為：先通過微納加工工藝制作包含待隱藏與重現(xiàn)的信息的光學元件4為母版，再通過澆注成型或納米壓印圖形轉移等方法將母版轉移至所述基底3表面。

然后執(zhí)行步驟S2，在所述光學元件4表面覆蓋一層與所述基底3折射率匹配的覆蓋層5，實現(xiàn)信息的隱藏。

請參考附圖5，所述覆蓋層5的折射率要求與所述基底3的折射率相同或者相近。本實施例中，采用蠶絲蛋白作為覆蓋層5。

具體地，在所述光學元件4表面覆蓋一層與所述基底3折射率匹配的覆蓋層5的過程為：先在所述光學元件4表面完全覆蓋一層與所述基底3折射率匹配的流體，然后固化。固化溫度根據(jù)具體的覆蓋層來定，固化后的覆蓋層5與所述基底3表面的光學元件4結合在一起。

除了上述流體固化形成覆蓋層，也可以是由固體先熔化完全填充圖案，再固化成固形成覆蓋層；另外，甚至可以直接是流體完全填充圖案形成覆蓋層，不固化也行。在此不限制覆蓋層的形態(tài)及形成過程。

本實施例中，先在冕牌玻璃基底3上澆鑄一層蠶絲蛋白溶液，溶液完全填充基底上的圖案后，等待蠶絲蛋白固化。固化后的蠶絲蛋白薄膜折射率為1.54，與基底3折射率相近。

需要說明的是，如圖5所示，所述覆蓋層5可以將光學元件4的凹凸圖案完全覆蓋，也可以是如圖6所示，所述覆蓋層5僅覆蓋于所述光學元件4的刻蝕凹槽中，但是覆蓋于凹槽中的覆蓋層5需要與凸起部分的光學元件表面齊平。

如圖7所示為本實施例信息隱藏的原理圖。將一束波長為650nm的激光6從所述基底3底部入射，激光通過光學元件4及覆蓋層5后直接透射出來，透射出來的激光8不攜帶光學元件中的信息，從而實現(xiàn)信息的隱藏。

接著執(zhí)行步驟S3，去除所述覆蓋層，將一束電磁波6入射至所述基底的光學元件上，實現(xiàn)所述信息的重現(xiàn)。

去除覆蓋層5的結構如圖4所示。本實施例中，直接用水沖洗掉冕牌玻璃基底3上的蠶絲蛋白并吹干，從而去除蠶絲蛋白覆蓋層5。

如圖8所示為本實施例信息重現(xiàn)的原理圖。將一束波長為650nm的激光6從所述基底3底部入射，激光通過光學元件4后衍射出來，衍射出來的激光7攜帶著光學元件中的信息，從而實現(xiàn)信息的重現(xiàn)。

綜上所述，本發(fā)明提供一種基于光學元件的信息隱藏與重現(xiàn)的方法，所述方法至少包括：首先提供一基底，在所述基底表面制作包含待隱藏與重現(xiàn)的信息的光學元件，即光學元件為信息載體；然后在所述光學元件表面覆蓋一層與所述基底折射率匹配的覆蓋層，實現(xiàn)信息的隱藏；接著去除所述覆蓋層，將一束電磁波入射至所述基底的光學元件上，實現(xiàn)所述信息的重現(xiàn)。所述信息載體是通過光學仿真軟件設計，微納加工和圖形轉移等手段制造；信息隱藏與重現(xiàn)則是基于線性光學原理，選取合適的材料涂覆隱藏和沖洗重現(xiàn)加以實現(xiàn)。本發(fā)明提供的信息隱藏與重現(xiàn)技術，保密性高，實現(xiàn)簡單，通過一定的手段信息可完美再現(xiàn)，具有極大的實用價值。

所以，本發(fā)明有效克服了現(xiàn)有技術中的種種缺點而具高度產(chǎn)業(yè)利用價值。

上述實施例僅例示性說明本發(fā)明的原理及其功效，而非用于限制本發(fā)明。任何熟悉此技術的人士皆可在不違背本發(fā)明的精神及范疇下，對上述實施例進行修飾或改變。因此，舉凡所屬技術領域中具有通常知識者在未脫離本發(fā)明所揭示的精神與技術思想下所完成的一切等效修飾或改變，仍應由本發(fā)明的權利要求所涵蓋。