技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
一種諸如聚光反射鏡之類的反射式EUV光學器件配置作為間隔開以在相鄰琢面之間形成相應(yīng)間隙的琢面陣列。間隙用作氣體流過琢面的一個的入口以使得平行于光學器件表面而引入流體。琢面可以形成具有偏移以使得可以最小化EUV光學器件的反射面積的損失。氣體促進從琢面的表面移除靶標材料。

技術(shù)研發(fā)人員：D·C·布拉特;A·I·厄肖夫;I·V·福門科夫
受保護的技術(shù)使用者：ASML荷蘭有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2015.11.10
技術(shù)公布日：2017.08.01