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本發(fā)明涉及一種光刻設(shè)備的反射鏡和一種光刻設(shè)備。

背景技術(shù)：

例如，光刻設(shè)備用于集成電路的生產(chǎn)中，用于將掩模中的掩模圖案成像到基板上，比如硅晶片。在此，使用投射光學(xué)單元將掩模圖案成像到基板上。這樣的投射光學(xué)單元由多個反射鏡構(gòu)成。就其設(shè)計而言，存在對于反射鏡關(guān)于其針對光學(xué)原因的理想設(shè)計與其針對動力學(xué)原因的理想設(shè)計的矛盾需求。投射光學(xué)單元規(guī)定位置，需要將每個反射鏡設(shè)置在該位置處。如果在投射光學(xué)單元中的特定點處的可用空間很小，僅有的替代方案是以相應(yīng)薄的方式實施反射鏡。然而，對于動力學(xué)原因，更好的是將反射鏡實施為具有大的厚度，以改善反射鏡的剛度。例如因為過薄而機械不穩(wěn)定的反射鏡可能導(dǎo)致光學(xué)像差。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

在此背景之上，本發(fā)明的目標(biāo)是提供一種光刻設(shè)備的反射鏡，其中可以減小光學(xué)像差。特別地，本發(fā)明的目標(biāo)是提供一種包括這樣的反射鏡的光刻設(shè)備。

此目標(biāo)由光刻設(shè)備的反射鏡實現(xiàn)，其包括具有表面的反射鏡體。表面包括光學(xué)有效區(qū)域和光學(xué)非有效區(qū)域，其中光學(xué)非有效區(qū)域至少部分位于光學(xué)有效區(qū)域內(nèi)。反射鏡還包括減小布置在光學(xué)非有效區(qū)域中的反射鏡的光學(xué)像差的裝置，其中減小光學(xué)像差的裝置包括機械穩(wěn)定裝置。

有利地，提供減小反射鏡的光學(xué)像差的裝置。即，即使由于反射鏡在束路徑中的位置反射鏡可實施為具有小的厚度，也避免或減小光學(xué)像差。由于反射鏡的小的厚度可能發(fā)生的穩(wěn)定性損失可以通過減小光學(xué)像差的裝置補償。因為布置在光學(xué)非有效區(qū)域中，反射鏡的減小光學(xué)像差的裝置不干擾投射光學(xué)單元中的束路徑。此外，可能實現(xiàn)反射鏡的緊湊構(gòu)造。

減小光學(xué)像差的裝置包括機械穩(wěn)定裝置。取決于反射鏡布置在光刻設(shè)備或投射光學(xué)單元中的位置，反射鏡可能僅實施為具有小的厚度，因為在光刻設(shè)備或投射光學(xué)單元中的對應(yīng)點處沒有用于具有更大厚度的反射鏡的空間。具有小的厚度的反射鏡具有比具有大的厚度的反射鏡較低的機械穩(wěn)定性。憑借機械穩(wěn)定裝置，可以增加反射鏡的機械穩(wěn)定性，并且因此甚至具有小的厚度的反射鏡可以機械穩(wěn)定。

反射鏡體的表面的光學(xué)有效區(qū)域應(yīng)理解為是指在光刻設(shè)備的操作期間其中可以存在輻射的反射的區(qū)域。反射鏡體的表面的光學(xué)非有效區(qū)域應(yīng)理解為是指由于光刻設(shè)備或投射光學(xué)單元的設(shè)計，在光刻設(shè)備的操作期間其上沒有輻射照射的區(qū)域。

光學(xué)非有效區(qū)域至少部分位于光學(xué)有效區(qū)域內(nèi)。特別地，光學(xué)非有效區(qū)域可以完全位于光學(xué)有效區(qū)域內(nèi)。

此外，反射鏡還可以例如通過減小光學(xué)像差的裝置為熱穩(wěn)定的。這避免或減小反射鏡的變形或振動。因此，不存在反射鏡的光學(xué)像差或存在較小的反射鏡的光學(xué)像差。例如，可以通過測量實際波前與理想波前的偏差來確定光學(xué)像差。

反射鏡體和/或減小光學(xué)像差的裝置可以由陶瓷或玻璃陶瓷材料(比如(制造商：肖特公司(schottag)))制造，其優(yōu)選地具有小的膨脹系數(shù)。此外，碳化硅、反應(yīng)鍵合硅滲透碳化硅(sisic)、碳纖維增強碳化硅(csic)、氮化硅(sin)和二氧化鈦-硅酸鹽玻璃(比如)可以用作材料?？赡艿牟牧显趙o2010/028748a1的第16和17頁上指定，其內(nèi)容通過引用整體并入本文。

原則上，所描述的反射鏡適用于任意波長的電磁輻射。特別地，反射鏡適用于euv(極紫外)和duv(深紫外)范圍。在此，euv范圍是指0.1nm與30nm之間的波長范圍，而duv范圍是指30nm與200nm之間的波長范圍。

根據(jù)反射鏡的一個實施例，光學(xué)有效區(qū)域包括拋光區(qū)和/或反射鏡涂層。有利地，這可以用來使用反射鏡反射所需波長的輻射。

根據(jù)反射鏡的其他實施例，光學(xué)非有效區(qū)域完全布置在光學(xué)有效區(qū)域內(nèi)和/或在光學(xué)有效區(qū)域的中央。有利地，布置在光學(xué)非有效區(qū)域中的減小光學(xué)像差的裝置那么可以同樣完全布置在光學(xué)有效區(qū)域內(nèi)和/或在光學(xué)有效區(qū)域的中央。

根據(jù)反射鏡的其他實施例，反射鏡包括光學(xué)有效區(qū)域和光學(xué)非有效區(qū)域之上的體積，并且減小光學(xué)像差的裝置突出到體積的光學(xué)非使用部分體積中。由于減小光學(xué)像差的裝置突出到光學(xué)非使用部分體積中，減小光學(xué)像差的裝置可以具有對應(yīng)的空間范圍。減小光學(xué)像差的裝置需要空間范圍，以包括用來機械穩(wěn)定或熱穩(wěn)定的裝置。

根據(jù)反射鏡的其他實施例，光學(xué)非使用部分體積漸縮到點和/或具有錐形平截體形狀和/或橢圓基部區(qū)。原則上，光學(xué)非使用部分體積可以具有任意形狀，其中應(yīng)當(dāng)考慮通過束路徑中的光闌來產(chǎn)生光學(xué)非使用部分體積。

根據(jù)反射鏡的其他實施例，機械穩(wěn)定裝置包括振動阻尼器。振動阻尼器可以用來主動或被動地衰減反射鏡的可能的振動。

根據(jù)反射鏡的其他實施例，機械穩(wěn)定裝置包括調(diào)諧質(zhì)量阻尼器。調(diào)諧質(zhì)量阻尼器包括調(diào)諧質(zhì)量阻尼器質(zhì)量體和調(diào)諧質(zhì)量阻尼器彈簧。調(diào)諧質(zhì)量阻尼器質(zhì)量體與調(diào)諧質(zhì)量阻尼器彈簧一起形成擺錘，其固有頻率設(shè)定為待消除的振動頻率，即，設(shè)定為反射鏡的可能的振動。在此頻率下，調(diào)諧質(zhì)量阻尼器為其固有振動運動的目的從反射鏡取走振動能量。因此，一個或多個調(diào)諧質(zhì)量阻尼器優(yōu)選地用來衰減特定頻率下或多個特定頻率下的反射鏡的振動。

根據(jù)反射鏡的其他實施例，反射鏡包括支架，支架在一側(cè)上連接到機械穩(wěn)定裝置，并且在另一側(cè)上連接到反射鏡體。有利地，機械穩(wěn)定裝置和支架允許增加反射鏡的剛度。從而減小反射鏡的變形和/或振動。此外，這還允許使用具有小的厚度的反射鏡。支架分別緊固到機械穩(wěn)定裝置和反射鏡體，其中取決于支架的設(shè)計，支架可以經(jīng)受拉伸和/或壓縮負載。支架可以實施為剛性、不彎曲的元件。在此情況下，支架可以經(jīng)受壓縮和/或拉伸負載。然而，支架也可以實施為繩、線或纜的類型。在此情況下，支架僅可以經(jīng)受拉伸負載。

根據(jù)反射鏡的其他實施例，各支架延伸部分穿過體積的光學(xué)使用的部分體積。支架可突出光學(xué)非使用部分體積外。在此情況下，支架實施為使得它們的盡可能少地干擾光刻設(shè)備中的束路徑或投射光學(xué)單元的光學(xué)成像。這是支架可能具有薄的實施例的原因。

根據(jù)反射鏡的其他實施例，支架中的每一個具有第一端和第二端，其中支架在遠離反射鏡體的點處用其第一端緊固到機械穩(wěn)定裝置，并且其中支架用其第二端附接到反射鏡的邊緣。以此方式，可以有利地緊固支架，以確保反射鏡的增強和因此的穩(wěn)定。在第一端處，支架優(yōu)選地緊固到機械穩(wěn)定裝置的尖端或上部部分。在第二端處，支架緊固到反射鏡的邊緣，優(yōu)選地在光學(xué)有效區(qū)域之外。以此方式，可以在反射鏡的邊緣與機械穩(wěn)定裝置的尖端之間產(chǎn)生拉力。此拉力可以有助于反射鏡的增強且因此有助于反射鏡的穩(wěn)定性。

根據(jù)反射鏡的其他實施例，支架主動地可致動，用于補償光學(xué)像差。特別地，支架可以為拉伸的。反射鏡可以由單獨支架上的拉伸和/或壓縮負載變形。反射鏡的這樣的變形可以用來補償光學(xué)像差。

根據(jù)反射鏡的其他實施例，為了支架的主動致動，支架通過致動器在其第二端處連接到反射鏡的邊緣。有利地，可以通過致動器來致動支架。因此，支架可以施加拉伸和/或壓縮力。

根據(jù)反射鏡的其他實施例，反射鏡包括支撐柱，其在一側(cè)上連接到機械穩(wěn)定裝置，并且在另一側(cè)上在光學(xué)有效區(qū)域中或在光學(xué)非有效區(qū)域中連接到反射鏡體。

支撐柱為用于穩(wěn)定機械穩(wěn)定裝置和反射鏡的附加元件。在此，支撐柱在一端處緊固到機械穩(wěn)定裝置，并且在另一端處緊固到反射鏡體，其中緊固到反射鏡體可以在光學(xué)有效區(qū)域中或在光學(xué)非有效區(qū)域中進行。

支撐柱可突出光學(xué)非使用部分體積外。在此情況下，支撐柱實施為其不干擾光刻設(shè)備中的束路徑或投射光學(xué)單元的光學(xué)成像。

根據(jù)反射鏡的其他實施例，反射鏡體在光學(xué)非有效區(qū)域之下的區(qū)域包括與反射鏡體的鄰近區(qū)域不同的材料。有利地，這可以增加反射鏡的穩(wěn)定性。

根據(jù)反射鏡的其他實施例，反射鏡包括控制反射鏡體的溫度的裝置。因為反射鏡包括控制反射鏡體的溫度的裝置，可以避免或減小反射鏡由熱效應(yīng)造成的變形和/或不穩(wěn)定性?？刂品瓷溏R體的溫度的裝置使得可以保持反射鏡的溫度不變或近似不變?？梢酝ㄟ^控制反射鏡體的溫度的裝置來冷卻或加熱反射鏡。

根據(jù)反射鏡的其他實施例，減小光學(xué)像差的裝置包括控制反射鏡體的溫度的裝置。有利地，從而能夠以有意義的方式來使用光學(xué)非有效區(qū)域。

根據(jù)反射鏡的其他實施例，控制反射鏡體的溫度的裝置提供在反射鏡體中，尤其在減小光學(xué)像差的裝置之下。那么，控制反射鏡體的溫度的裝置有利地已經(jīng)位于溫度應(yīng)盡可能保持不變的元件中(即，在反射鏡體中)。

根據(jù)反射鏡的其他實施例，控制反射鏡體的溫度的裝置包括多個加熱元件。使用多個加熱元件確保盡可能均勻且不變的溫度分布。

根據(jù)反射鏡的其他實施例，加熱元件分布在反射鏡體之上和/或減小光學(xué)像差的裝置之上。有利地，可以分散的方式布置加熱元件。減小光學(xué)像差的裝置中的加熱元件可以為輻射加熱器，其照射反射鏡體的光學(xué)有效區(qū)域。

根據(jù)反射鏡的其他實施例，減小光學(xué)像差的裝置具有錐形形狀。那么，減小光學(xué)像差的裝置有利地良好適合于在光學(xué)非使用部分體積中。

根據(jù)反射鏡的其他實施例，反射鏡體為光學(xué)有效區(qū)域的區(qū)域中的凸面或凹面。

根據(jù)反射鏡的其他實施例，減小光學(xué)像差的裝置具有集成的實施例。

此外，提出了包括上述反射鏡的光刻設(shè)備的投射系統(tǒng)。

根據(jù)投射系統(tǒng)的其他實施例，后者包括光闌，所述光闌布置在投射系統(tǒng)的束路徑中，并且配置為產(chǎn)生反射鏡體的表面上的光學(xué)非有效區(qū)域以及光學(xué)有效區(qū)域和光學(xué)非有效區(qū)域之上的光學(xué)非使用部分體積。有利地，光闌產(chǎn)生光學(xué)非有效區(qū)域和光學(xué)非使用部分體積，并且因此便于將減小光學(xué)像差的裝置布置在前述的區(qū)域中和前述的部分體積中。

此外，提出了包括上述反射鏡或包括上述投射系統(tǒng)的光刻設(shè)備。

本發(fā)明其他可能的實施方式還包括關(guān)于示例性實施例在上面或下面所描述的特征或?qū)嵤├奈疵鞔_提及的組合。就此而言，本領(lǐng)域技術(shù)人員還將把單獨方面添加到本發(fā)明的各基本形式作為改良或附加。

附圖說明

本發(fā)明的其他有利配置和方面為從屬權(quán)利要求和下面描述的示例性實施例的主題。在下文中，參考附圖基于優(yōu)選的實施例更詳細解釋了本發(fā)明。

圖1示出了euv光刻設(shè)備的示意圖；

圖2示出了根據(jù)投射光學(xué)單元的一部分中的一個示例性實施例的倒數(shù)第二反射鏡的示意圖；

圖3示出了投射光學(xué)單元光瞳；

圖4示出了來自圖2的倒數(shù)第二反射鏡的平面圖；

圖5示出了倒數(shù)第二反射鏡的其他示例性實施例；

圖6示出了倒數(shù)第二反射鏡的其他示例性實施例；

圖7示出了倒數(shù)第二反射鏡的其他示例性實施例；以及

圖8示出了倒數(shù)第二反射鏡的其他示例性實施例。

具體實施方式

除非另有指明，圖中的相同附圖標(biāo)記指代相同或功能相同的元件。還應(yīng)注意到，圖中的圖示不一定按比例。

圖1示出了euv光刻設(shè)備100的示意圖，其包括束成形系統(tǒng)102、照明系統(tǒng)104以及投射系統(tǒng)106。束成形系統(tǒng)102、照明系統(tǒng)104以及投射系統(tǒng)106分別提供在真空外殼中，外殼借助抽空裝置排空，其未更詳細示出。真空外殼由機械室(未以任何其他細節(jié)圖示)圍繞，機械室中提供驅(qū)動器械，用于機械移動或調(diào)整光學(xué)元件。也可以在此機械室中還提供電控制器等。

束成形系統(tǒng)102具有euv光源108、準(zhǔn)直器110以及單色器112。等離子體源或同步加速器(其發(fā)射euv范圍(極紫外范圍)內(nèi)的輻射，即例如在從5nm至20nm的波長范圍)可以例如提供作為euv光源108。由euv光源108發(fā)射的輻射由準(zhǔn)直器110首先聚焦，之后由單色器112濾出所期望的操作波長。因此，束成形系統(tǒng)102調(diào)適由euv光源108發(fā)射的光的波長和空間分布。由euv光源108產(chǎn)生的euv輻射114具有穿過空氣相對低的透射率，因此抽空束成形系統(tǒng)102中的、照明系統(tǒng)104中的以及投射系統(tǒng)106中的束引導(dǎo)空間。

在描繪的示例中，照明系統(tǒng)104包括第一反射鏡116和第二反射鏡118。這些反射鏡116、118可以例如形成為分面反射鏡，用于光瞳成形和將euv輻射114傳到光掩模120。

光掩模120同樣形成為反射光學(xué)元件，并且可以布置在系統(tǒng)102、104、106之外。光掩模120具有結(jié)構(gòu)，其縮小的像通過投射系統(tǒng)106繪制在晶片122等上。為此目的，投射系統(tǒng)106在束引導(dǎo)空間中具有例如第三反射鏡124和第四反射鏡126。應(yīng)注意到，euv光刻設(shè)備100的反射鏡的數(shù)目不限于描繪的數(shù)目，也可能提供更多的反射鏡或更少的反射鏡。此外，為了束成形，反射鏡通常在其前側(cè)彎曲。

已經(jīng)以極度簡化的方式圖示了具有兩個反射鏡124、126的投射系統(tǒng)106中的投射光學(xué)單元。投射光學(xué)單元優(yōu)選地包括多個反射鏡。圖2示出了包括多個反射鏡的投射光學(xué)單元的部分200。

更確切地，圖2示出了投射光學(xué)單元的最后兩個反射鏡202、204?？梢钥吹降氖峭渡涔鈱W(xué)單元的最后反射鏡202和投射光學(xué)單元的倒數(shù)第二反射鏡204。投射光學(xué)單元的倒數(shù)第二反射鏡204可以具有橢圓形狀。投射光學(xué)單元的最后反射鏡202包括孔徑206，輻射通過孔徑206到達最后兩個反射鏡202、204。在第一射線208和第二射線210已經(jīng)穿過最后反射鏡202的開口206之后，基于第一射線208和第二射線210的路線描述了束路徑。圖2中的箭頭標(biāo)記212標(biāo)記了輻射的路線。第一射線208在倒數(shù)第二反射鏡204的左手側(cè)214上入射在光學(xué)有效區(qū)域220上，并且在該處反射至最后反射鏡202的方向上。于是，第一射線208在最后反射鏡202處反射至晶片122的方向上。第二射線210在倒數(shù)第二反射鏡204的右手側(cè)216上入射在光學(xué)有效區(qū)域220上，并且在該處反射至最后反射鏡202的方向上。于是，第二射線210在最后反射鏡202處反射至晶片122的方向上。光掩模120的像成像在晶片122上。

倒數(shù)第二反射鏡204可以布置為接近于投射光學(xué)單元光瞳300。在圖3中描繪了投射光學(xué)單元光瞳300。投射光學(xué)單元包括光瞳平面中的中央布置的遮擋光闌302。因此，分配給最后反射鏡202的孔徑206的投射束路徑的中心射線被遮擋，即，掩蓋。第一射線208和第二射線210為來自光學(xué)使用區(qū)304的區(qū)域的射線。

因為倒數(shù)第二反射鏡204布置為接近投射光學(xué)單元光瞳300，投射光學(xué)單元光瞳300中通過遮擋光闌302的遮擋也傳到倒數(shù)第二反射鏡204。倒數(shù)第二反射鏡204包括反射鏡體224和表面226。由于遮擋在倒數(shù)第二反射鏡204的表面226上產(chǎn)生光學(xué)非有效區(qū)域222?？臻g(即，體積228)位于光學(xué)有效區(qū)域220和光學(xué)非有效區(qū)域222之上。由于遮擋產(chǎn)生光學(xué)非使用部分體積230。光學(xué)非使用部分體積230優(yōu)選地位于光學(xué)非有效區(qū)域222之上。然而，光學(xué)非使用部分體積230也可以部分位于光學(xué)有效區(qū)域220的部分之上。

光學(xué)非有效區(qū)域222和光學(xué)非使用部分體積230可以用來穩(wěn)定倒數(shù)第二反射鏡204。因此，圖2中所示的減小光學(xué)像差的裝置218可以布置在光學(xué)非有效區(qū)域222中。在此，減小光學(xué)像差的裝置218突出到光學(xué)非使用部分體積230中。

光學(xué)非使用部分體積230可以在最后反射鏡202的方向上漸縮到點。此外，光學(xué)非使用部分體積230和減小光學(xué)像差的裝置218可以具有錐形形狀。光學(xué)非使用部分體積230的基部區(qū)和光學(xué)非有效區(qū)域222兩者都可以為橢圓形。

由于其在投射光學(xué)單元中的位置，倒數(shù)第二反射鏡204可能僅具有小的厚度。這使得倒數(shù)第二反射鏡204不穩(wěn)定且易受振動影響。因此減小光學(xué)像差的裝置218包括機械穩(wěn)定裝置232。即，即使倒數(shù)第二反射鏡204由于其在束路徑中的位置實施為具有小的厚度，也可以避免光學(xué)像差。因為布置在光學(xué)非有效區(qū)域中，減小光學(xué)像差的裝置218和機械穩(wěn)定裝置232不干擾投射光學(xué)單元中的束路徑。

機械穩(wěn)定裝置232可以包括調(diào)諧質(zhì)量阻尼器。這樣的調(diào)諧質(zhì)量阻尼器包括調(diào)諧質(zhì)量阻尼器質(zhì)量體和調(diào)諧質(zhì)量阻尼器彈簧。調(diào)諧質(zhì)量阻尼器質(zhì)量體和調(diào)諧質(zhì)量阻尼器彈簧一起形成擺錘。擺錘的固有頻率設(shè)定為倒數(shù)第二反射鏡204的待消除的振動頻率。以此方式，調(diào)諧質(zhì)量阻尼器從倒數(shù)第二反射鏡204奪取振動能量用于其自身的振動運動?？梢圆捎靡粋€或多個調(diào)諧質(zhì)量阻尼器。調(diào)諧質(zhì)量阻尼器優(yōu)選地在特定頻率下使用。如果要消除多個振動頻率，優(yōu)選地采用多個調(diào)諧質(zhì)量阻尼器。

可選地，機械穩(wěn)定裝置232可以包括任意其他振動阻尼器取代調(diào)諧質(zhì)量阻尼器或附加于調(diào)諧質(zhì)量阻尼器。這樣的振動阻尼器可以主動或被動地衰減反射鏡的可能的振動。

圖4示出了來自圖2的投射光學(xué)單元的倒數(shù)第二反射鏡204的平面圖。圖示了光學(xué)有效區(qū)域220和光學(xué)非有效區(qū)域222。光學(xué)非有效區(qū)域222位于光學(xué)有效區(qū)域220內(nèi)。進而包括機械穩(wěn)定裝置232的減小光學(xué)像差的裝置218布置在光學(xué)非有效區(qū)域222內(nèi)。在光學(xué)有效區(qū)域220之外可以看見反射鏡體224(即，倒數(shù)第二反射鏡204)的邊緣400。晶片122可以看見為鄰近倒數(shù)第二反射鏡204。

倒數(shù)第二反射鏡204的光學(xué)有效區(qū)域220可以具有拋光區(qū)。此外，或取代于此，光學(xué)有效區(qū)域220可以具有反射鏡涂層。任意情況下，光學(xué)有效區(qū)域220適于反射所采用波長的輻射。

如圖4中所見，光學(xué)非有效區(qū)域222可以提供為精確地在光學(xué)有效區(qū)域220的中央。然而，光學(xué)非有效區(qū)域222也可以提供為在光學(xué)有效區(qū)域220中為偏心的。光學(xué)非有效區(qū)域222至少部分位于光學(xué)有效區(qū)域220內(nèi)。

圖2中所示的倒數(shù)第二反射鏡204的反射鏡體224具有光學(xué)有效區(qū)域220中的凸面實施例?？蛇x地，倒數(shù)第二反射鏡204在不同投射光學(xué)單元中也可以具有光學(xué)有效區(qū)域220中的凹面實施例。

圖5示出了投射光學(xué)單元的倒數(shù)第二反射鏡204的其他示例性實施例。在此情況下代表機械穩(wěn)定裝置232的減小光學(xué)像差的裝置218布置在反射鏡體224的表面226的光學(xué)非有效區(qū)域222中。機械穩(wěn)定裝置232突出到光學(xué)非使用部分體積230中。

此外，支架500可見于圖5中。每個支架500的第一端502連接到機械穩(wěn)定裝置232的尖端506。在此情況下，尖端506表示機械穩(wěn)定裝置232距反射鏡體224最遠距離的點。每個支架500的第二端504連接到反射鏡體224的邊緣400。

通過機械穩(wěn)定裝置232和支架500，可以增加倒數(shù)第二反射鏡204的剛度。從而可以減小倒數(shù)第二反射鏡204的變形和/或振動。拉伸和壓縮負載可以施加到支架500上。如果壓縮負載施加到支架500上，需要剛性的、不彎曲的元件。壓縮負載僅在這樣的元件的情況下可以發(fā)生。然而，支架500也可以實施為繩、線或纜的類型。在此情況下，支架500僅可以經(jīng)受拉伸負載。

如圖5所示，支架500突出光學(xué)非使用部分體積230外。在此，支架500實施為和/或布置為使得它們不干擾光刻設(shè)備100中的束路徑或干擾投射光學(xué)單元的光學(xué)成像。

在此示例性實施例中，機械穩(wěn)定裝置232可以實施為中央體，即，機械穩(wěn)定裝置232僅為支架500可以緊固到的元件?？蛇x地，機械穩(wěn)定裝置232可以附加地包括振動阻尼器和/或調(diào)諧質(zhì)量阻尼器。

圖6示出了投射光學(xué)單元的倒數(shù)第二反射鏡204的其他示例性實施例。下面僅描述關(guān)于圖5中所描繪的倒數(shù)第二反射鏡204的示例性實施例的改變。在圖6所示的示例中，支架500可以主動地致動，用于補償光學(xué)像差。為了補償光學(xué)像差的目的，可以通過單獨支架上的拉伸和/或壓縮負載使反射鏡變形。

如圖6中可見，支架500通過致動器600在它們的第二端504處連接到倒數(shù)第二反射鏡204的邊緣400。支架500可以通過致動器600致動。取決于支架500的實施例，可以施加拉伸和/或壓縮力。

如圖6中所示，在此情況下支架500也突出光學(xué)非使用部分體積230之外。在此，支架500也實施為和/或布置為使得其不干擾光刻設(shè)備100中的束路徑或投射光學(xué)單元的光學(xué)成像。

如圖6中可見，在倒數(shù)第二反射鏡204的其他替代配置中，反射鏡體224可以包括光學(xué)非有效區(qū)域222之下的區(qū)域602，其具有與其余反射鏡體224不同的材料。如果以適當(dāng)方式選擇材料，這可以增加倒數(shù)第二反射鏡204的穩(wěn)定性。

在倒數(shù)第二反射鏡204的其他替代配置中，后者包括支撐柱(圖中未示出)。支撐柱為分開的附加元件，用于穩(wěn)定機械穩(wěn)定裝置232和倒數(shù)第二反射鏡204。在一端，支撐柱可以緊固到機械穩(wěn)定裝置232，并且在另一端，它們可以緊固到反射鏡體224。緊固到反射鏡體224在光學(xué)有效區(qū)域220中或在光學(xué)非有效區(qū)域222中進行。

支撐柱也可以突出光學(xué)非使用部分體積230外。在此情況下，支撐柱實施為和/或布置為使得它們不干擾光刻設(shè)備100中的束路徑或投射光學(xué)單元的光學(xué)成像。

圖7示出了倒數(shù)第二反射鏡204的其他示例性實施例。在此，來自圖7的倒數(shù)第二反射鏡204與來自圖5的倒數(shù)第二反射鏡204僅不同在于：來自圖7的倒數(shù)第二反射鏡204還包括控制反射鏡體224的溫度的裝置700?？刂品瓷溏R體224的溫度的裝置700可以具有這樣的實施例：輻射加熱器輻射到反射鏡體224的表面226上。

可選地，控制反射鏡體224的溫度的裝置700也可以位于反射鏡體224內(nèi)。特別地，控制反射鏡體的溫度的裝置可以位于反射鏡體224內(nèi)且在減小光學(xué)像差的裝置218之下。此外，控制反射鏡體224的溫度的裝置700可以包括多個加熱元件。在此，加熱元件可以分布在反射鏡體224之上和/或減小光學(xué)像差的裝置218之上。

控制反射鏡體的溫度的裝置700使得可以避免或減小由熱效應(yīng)造成的反射鏡的變形或不穩(wěn)定性。在此，控制反射鏡體的溫度的裝置700使得可以保持倒數(shù)第二反射鏡204的溫度不變或近似不變。

圖8示出了倒數(shù)第二反射鏡204的其他示例性實施例。在此，來自圖8的倒數(shù)第二反射鏡204與來自圖5的倒數(shù)第二反射鏡204僅不同在于：來自圖8的倒數(shù)第二反射鏡204不具有支架500。特別地，機械穩(wěn)定裝置232可以包括振動阻尼器和/或調(diào)諧質(zhì)量阻尼器。

對于投射光學(xué)單元中的倒數(shù)第二反射鏡204解釋了所描述的示例性實施例。然而，原則上，如果對應(yīng)的反射鏡具有光學(xué)非有效區(qū)域，描繪的配置也可以應(yīng)用于投射光學(xué)單元中的和光刻設(shè)備100中的任意其他反射鏡。

此外，對于euv光刻設(shè)備100中的倒數(shù)第二反射鏡204，已經(jīng)解釋了示例性實施例。然而，本發(fā)明不限于euv光刻設(shè)備100，并且也可以應(yīng)用于其他光刻設(shè)備。

盡管已經(jīng)基于各種示例性實施例描述了本發(fā)明，但是不以任何方式限制于它們，并且可以各種方式進行修改。

附圖標(biāo)記列表

100euv光刻設(shè)備

102束成形系統(tǒng)

104照明系統(tǒng)

106投射系統(tǒng)

108euv光源

110準(zhǔn)直器

112單色器

114euv輻射

116第一反射鏡

118第二反射鏡

120光掩模

122晶片

124第三反射鏡

126第四反射鏡

200投射光學(xué)單元的部分

202投射光學(xué)單元的最后反射鏡

204投射光學(xué)單元的倒數(shù)第二反射鏡

206最后反射鏡中的孔徑

208第一射線

210第二射線

212箭頭標(biāo)記

214倒數(shù)第二反射鏡的左手側(cè)

216倒數(shù)第二反射鏡的右手側(cè)

218減小光學(xué)像差的裝置

220光學(xué)有效區(qū)域

222光學(xué)非有效區(qū)域

224反射鏡體

226表面

228體積

230光學(xué)非使用部分體積

232機械穩(wěn)定裝置

300投射光學(xué)單元光瞳

302遮擋光闌

304光學(xué)使用區(qū)域

400反射鏡邊緣

500支架

502支架的第一端

504支架的第二端

506機械穩(wěn)定裝置的尖端

600致動器

602反射鏡體在光學(xué)非有效區(qū)域之下的區(qū)域

700控制反射鏡體的溫度的裝置