專利名稱：玻璃基板的修補(bǔ)方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于一種玻璃基板的修補(bǔ)方法，特別是有關(guān)于一種利用反射片的玻璃基板的修補(bǔ)方法。
背景技術(shù)：
近年來，薄膜晶體管液晶顯示器(Thin-Film TransistorLiquid-CrystalDisplay, TFT-LCD)產(chǎn)業(yè)應(yīng)用層面從小尺寸的手機(jī)、個人數(shù)位助理到中尺寸的筆記型電腦、個人電腦，在到目前大尺寸的液晶電視，面板廠商不斷的提升制作過程的技術(shù)，玻璃基板尺寸也有越來越大的趨勢，大尺寸的玻璃基板除了可切割更大尺寸的產(chǎn)品應(yīng)用外，亦可提聞廣能。TFT-1XD設(shè)備可包含利用液晶的透光性顯示圖像的IXD面板及設(shè)置在IXD面板之下來給IXD面光提供光的背光組件，IXD面板還包含陣列基板、相對基板和置于陣列基板與相對基板之間的液晶層。陣列基板包含信號線，電性連接到信號線的薄膜晶體管(TFT)，覆蓋并保護(hù)信號線和TFT的保護(hù)層及電性連接到TFT的像素電極。陣列基板的信號線會具有諸如短路或短接故障的電性連接故障，通常是有缺陷阻擋而造成驅(qū)動電流不會經(jīng)過TFT，就會在像素區(qū)產(chǎn)生所謂的黑點(diǎn)(dark spot:熄點(diǎn))。在TFT-1XD制作工藝上對于缺陷的檢測，主要是應(yīng)用自動光學(xué)檢測(Automated OpticalInspection, AOI)的技術(shù)來取代人工檢測缺陷，以降低以人工方式長時間檢測可能造成的誤檢或漏檢的風(fēng)險，亦可提升檢測效率及低檢測成本。至于檢測后的缺陷分類，以及面板等級判定主要還是以人工方式判斷，判斷后才能決定面板下一步是要做修補(bǔ)(repair)、重制(rework)、報廢或是往下一個制程。通常在修補(bǔ)TFT-LCD上，利用具有預(yù)定波長的激光照射缺陷，來燒切掉缺陷或移除正常電路構(gòu)造之外的缺陷，通過上述移除缺陷方式可以修補(bǔ)電路。但因?yàn)樾枰斯づ袛嗖⑹謩涌刂萍す獾墓馐M(jìn)行修補(bǔ)，容易發(fā)生無法快速及精準(zhǔn)控制激光投射位置的問題，因而在激光照射失準(zhǔn)時造成正常的電路區(qū)域也被激光所破壞，故，有必要提供一種玻璃基板的修補(bǔ)方法，以解決現(xiàn)有技術(shù)所存在的問題。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明提供一種玻璃基板的修補(bǔ)方法，以解決現(xiàn)有技術(shù)所存在的人工方式控制激光進(jìn)行修補(bǔ)時容易破壞正常電路構(gòu)造的問題。本發(fā)明的主要目的在于提供一種玻璃基板的修補(bǔ)方法，其通過利用一圖案化的反射片來控制激光修補(bǔ)玻璃基板的區(qū)域，以自動判斷及修補(bǔ)方式取代人工方式，進(jìn)而可避免人工控制激光進(jìn)行修補(bǔ)時誤照射到正常電路區(qū)域，并提高判斷及修補(bǔ)的效率及準(zhǔn)確度。為達(dá)成本發(fā)明的前述目的，本發(fā)明一實(shí)施例提供一種玻璃基板的修補(bǔ)方法，其中所述玻璃基板的修補(bǔ)方法包含步驟:提供一個激光源，輸出一激光；提供一個圖案化的反射片，設(shè)置于所述激光的一光路上，所述反射片具有一遮光區(qū)及一反光區(qū)；通過所述反射片的反光區(qū)反射所述激光到一玻璃基板上，以利用所述遮光區(qū)在所述玻璃基板上對應(yīng)形成一暗區(qū)保護(hù)所述玻璃基板上的一圖案化結(jié)構(gòu)；以及利用所述激光將位在所述暗區(qū)以外的多個缺陷進(jìn)行移除或修補(bǔ)。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，所述玻璃基板是一液晶顯示器的薄膜晶體管陣列基板。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，所述遮光區(qū)是所述反射片上涂布抗反射性涂層的一區(qū)域，或是所述反射片上的一開口。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，所述圖案化結(jié)構(gòu)是圖案化光刻膠層。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，所述圖案化結(jié)構(gòu)是掃描線、數(shù)據(jù)線、薄膜晶體管及儲存電容的至少一個的圖案化金屬電路。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，在提供一個圖案化的反射片之后，所述玻璃基板的修補(bǔ)方法還包含步驟:在本發(fā)明的一實(shí)施例中，提供一角度控制單元及一位移單元，用以調(diào)整所述反射片的反射角度及位置，使得所述遮光區(qū)形成的暗區(qū)對位于所述玻璃基板上的圖案化結(jié)構(gòu)。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，在形成一對應(yīng)的暗區(qū)在所述玻璃基板上之后，所述玻璃基板的修補(bǔ)方法還包含步驟:得到所述玻璃基板的一檢測影像圖，所述檢測影像圖中包含所述暗區(qū)及一亮區(qū)，所述暗區(qū)對應(yīng)于所述圖案化結(jié)構(gòu)，所述亮區(qū)顯示所述多個缺陷。再者，本發(fā)明另一實(shí)施例提供另一種玻璃基板的修補(bǔ)方法，其中所述玻璃基板的修補(bǔ)方法包含步驟:提供一個激光源，輸出一圖案化的激光；將所述圖案化的激光導(dǎo)引到一玻璃基板上，以利用所述圖案化的激光在所述玻璃基板上對應(yīng)形成一暗區(qū)保護(hù)所述玻璃基板上的一圖案化結(jié)構(gòu)；以及利用所述圖案化的激光將位在所述暗區(qū)以外的多個缺陷進(jìn)行移除或修補(bǔ)。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，所述玻璃基板是一液晶顯示器的薄膜晶體管陣列基板。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，在輸出所述圖案化激光的步驟中，通過提供一個圖案化的反射片設(shè)置于所述激光的一光路上，以利用所述反射片的一遮光區(qū)及一反光區(qū)反射形成所述圖案化激光。與現(xiàn)有技術(shù)相比較，本發(fā)明的玻璃基板的修補(bǔ)方法，這樣不但可取代人工方式而自動檢測并修補(bǔ)這些缺陷，進(jìn)而提高判斷及修補(bǔ)的效率及準(zhǔn)確度。為讓本發(fā)明的上述內(nèi)容能更明顯易懂，下文特舉優(yōu)選實(shí)施例，并配合所附圖式，作詳細(xì)說明如下:


圖1是本發(fā)明一實(shí)施例玻璃基板的示意圖。圖1A是本發(fā)明一實(shí)施例玻璃基板的缺陷的局部放大示意圖。圖2是本發(fā)明一實(shí)施例玻璃基板的修補(bǔ)方法的流程圖。圖3是本發(fā)明一實(shí)施例一圖案化的反射片的示意圖。圖4是本發(fā)明一實(shí)施例玻璃基板的修補(bǔ)設(shè)備的示意圖。圖4A是本發(fā)明一實(shí)施例玻璃基板的缺陷修補(bǔ)時的局部放大示意圖。
具體實(shí)施方式
以下各實(shí)施例的說明是參考附加的圖式，用以例示本發(fā)明可用以實(shí)施的特定實(shí)施例。再者，本發(fā)明所提到的方向用語，例如上、下、頂、底、前、后、左、右、內(nèi)、外、側(cè)面、周圍、中央、水平、橫向、垂直、縱向、軸向、徑向、最上層或最下層等，僅是參考附加圖式的方向。因此，使用的方向用語是用以說明及理解本發(fā)明，而非用以限制本發(fā)明。請參照圖1所示，揭示適用于本發(fā)明一實(shí)施例的玻璃基板，主要包含數(shù)個基板單元1，每一個所述基板單元I包含一圖案化結(jié)構(gòu)11，其包含多個像素區(qū)域10，主要由多個薄膜晶體管11a、多個像素電極lib、多條掃描線Ilc及多條數(shù)據(jù)線Ild所組成。其中，在所述數(shù)個掃描線Ilc及所述數(shù)個數(shù)據(jù)線Ild所圍成的區(qū)域中定義并形成所述數(shù)個像素區(qū)10，且所述數(shù)個像素區(qū)10配置成矩陣狀。在所述數(shù)個像素區(qū)10配置有做為開關(guān)用的所述數(shù)個薄膜晶體管11a、由IT0(Indium Tin Oxide)等透明電極構(gòu)成的所述數(shù)個像素電極Ilb以及保持電容(未繪示)。請參照圖1A所示，揭示當(dāng)制作所述圖案化結(jié)構(gòu)11時，因?yàn)樾枰獢?shù)道工藝以產(chǎn)生電路層，故在制作過程中會產(chǎn)生多個缺陷12，如圖1A局部放大所述圖案化結(jié)構(gòu)11之后，可清楚看見所述缺陷12在正常的所述圖案化結(jié)構(gòu)11之外的區(qū)域，另產(chǎn)生影響正常電路運(yùn)作的所述缺陷12，所述缺陷12是制作結(jié)果中所不期待出現(xiàn)的，故通常需要通過人眼去判斷并藉由激光照射予以移除，但由于人工移除方式會產(chǎn)生不易快速及精準(zhǔn)控制激光投射位置的情形，造成判斷效率不彰以及判斷結(jié)果低落，并且當(dāng)透過激光照射移除或修補(bǔ)所述缺陷12時，也容易因?yàn)榧す庹丈涫?zhǔn)問題而破壞了正常的所述圖案化結(jié)構(gòu)11，因此本發(fā)明提供一方法，一方面可保護(hù)所述圖案化結(jié)構(gòu)11，另一方面可自動化檢測過程，以提高檢測效率及降低檢測成本。本發(fā)明將于下文利用圖2所揭示的流程圖以及一并參考圖3的一個圖案化的反射片2、圖4所揭示的數(shù)個裝置及4A所揭示缺陷修補(bǔ)時的局部放大示意圖，逐一詳細(xì)說明一實(shí)施例玻璃基板的修補(bǔ)方法。請參照圖2及一并參考圖4所示，本發(fā)明一實(shí)施例的玻璃基板的修補(bǔ)方法，首先包含步驟(SOl):提供一個激光源3(如圖4所示)，輸出一激光II，在此所述激光Il例如可使用市售的YAG(釔鋁石榴石)激光例如激光波長355nm)，但不以此為限。請繼續(xù)參照圖2及一并參考圖3、4所示，本發(fā)明一實(shí)施例的玻璃基板的修補(bǔ)方法，然后包含步驟(S02):提供一個圖案化的反射片2 (如圖3所示)，設(shè)置于所述激光Il的一光路上(如圖4所示，所述反射片2具有一遮光區(qū)20及一反光區(qū)(遮光區(qū)20以外的區(qū)域)，所述遮光區(qū)20是所述反射片2上涂布抗反射性涂層的一區(qū)域，或是所述反射片2上的一開口，所述開口后方可放置一吸收激光單元，如此使得所述激光Il無法反射(如圖3所示)。所述遮光區(qū)20的圖案對應(yīng)一玻璃基板上的一欲修補(bǔ)的圖案化結(jié)構(gòu)的局部形狀(如圖4所示)O此外，在本步驟(S02)之后，還可通過提供一角度控制單元及一位移單元(未繪示)，用以調(diào)整所述反射片2的反射角度及位置，使得所述遮光區(qū)20形成的暗區(qū)11’ (如圖4所示)對位于所述玻璃基板I上的圖案化結(jié)構(gòu)11。請繼續(xù)參照圖2及一并參考圖4及4A所示,本發(fā)明一實(shí)施例的玻璃基板的修補(bǔ)方法，接著包含步驟(S03):通過所述反射片2的反光區(qū)反射所述激光12到一玻璃基板I上(如圖4所示)，以利用所述遮光區(qū)20在所述玻璃基板上對應(yīng)形成一暗區(qū)11’(如圖4A所示)保護(hù)所述玻璃基板I上的一圖案化結(jié)構(gòu)11，且所述玻璃基板I是一液晶顯示器的薄膜晶體管陣列基板(TFT arraysubstrate),所述圖案化結(jié)構(gòu)11可以是圖案化光刻膠層(photoresist),亦可以如圖1所示的，是掃描線11c、數(shù)據(jù)線lid、薄膜晶體管Ila及儲存電容的至少一個的圖案化金屬電路。此時，通過所述反射片2的反光區(qū)反射到所述玻璃基板I上的激光12亦可視為一種圖案化的激光。再者，在此步驟(S03)之后，可通過一照相鏡頭以得到所述玻璃基板I的一檢測影像圖，所述檢測影像圖中包含所述暗區(qū)11’及一亮區(qū)Al (如圖4A所示)，所述暗區(qū)11’對應(yīng)于所述圖案化結(jié)構(gòu)11，所述亮區(qū)Al顯示所述多個缺陷12，所述檢測影像圖可在以下步驟時，作為修補(bǔ)或移除所述缺陷12的參考，可根據(jù)缺陷的大小、數(shù)量以及所在的區(qū)域，先做分析，予以分類并規(guī)劃，在移除或修補(bǔ)時，可影響所述激光Il照射的波長、照射次數(shù)、照射范圍及照射時間等等。請繼續(xù)參照圖2及一并參考圖4及圖4A所示，本發(fā)明一實(shí)施例的玻璃基板的修補(bǔ)方法，最后包含步驟(S04):利用反射所述激光Il將位在所述暗區(qū)11’以外的多個缺陷12進(jìn)行移除或修補(bǔ)，在移除或修補(bǔ)時，須通過所述述角度控制單元及所述位移單元，予以控制照射區(qū)域的大小例如限制為5um(微米)X5um，但不以此為限，甚至距離所述缺陷12 —適當(dāng)距離，例如，但不以此為限，介于約5um至IOum之間，并根據(jù)所述缺陷12的大小而適當(dāng)?shù)脑鰷p照射時間或次數(shù)，以避免破壞所述圖案化結(jié)構(gòu)11，通常，只要照射的激光波長控制在532nm(納米)以下，即不會對所述圖案化結(jié)構(gòu)11造成傷害并可進(jìn)行修復(fù)。本發(fā)明另一實(shí)施例的玻璃基板的修補(bǔ)方法相似于本發(fā)明一實(shí)施例，并大致沿用相同方法流程，但另一實(shí)施例的差異特征在于:所述另一實(shí)施例的玻璃基板的修補(bǔ)方法直接提供一個激光源，其輸出一圖案化的激光(未繪示)，可利用一圖案化的透明片，設(shè)置在所述激光源的燈蓋前方，并使所述激光源的激光只能透過所述圖案化的透明片射出，便可形成所述圖案化的激光。上述特征的優(yōu)點(diǎn)在于:在本發(fā)明圖的實(shí)施例中，反射所述激光Il必定會造成光線的少許衰減并些微的發(fā)散，因而較不易直接控制所述Il激光照射的強(qiáng)度，并且控制反射角度及反射后對準(zhǔn)所述亮區(qū)，相對上也是較為困難的。因此，直接提供一圖案化的激光，直接照射所述亮區(qū)，不但可增加修補(bǔ)效率，并可減少修補(bǔ)誤差。如上所述，相較于現(xiàn)有玻璃基板的修補(bǔ)方法雖能通過人工判斷并修補(bǔ)以移除缺陷并修補(bǔ)電路，卻也常產(chǎn)生無法快速且精準(zhǔn)的修補(bǔ)缺陷等問題，本發(fā)明所揭示的玻璃基板的修補(bǔ)方法通過在激光前設(shè)置一圖案化反射片，而可以自動修補(bǔ)或移除不必要的缺陷，并通過反射片上的遮光區(qū)圖案可保護(hù)正常的圖案化結(jié)構(gòu)不受到激光的照射而產(chǎn)生破壞，進(jìn)而提升修補(bǔ)時間并降低修補(bǔ)成本。本發(fā)明已由上述相關(guān)實(shí)施例加以描述，然而上述實(shí)施例僅為實(shí)施本發(fā)明的范例。必需指出的是，已公開的實(shí)施例并未限制本發(fā)明的范圍。相反地，包含于權(quán)利要求書的精神及范圍的修改及均等設(shè)置均包括于本發(fā)明的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種玻璃基板的修補(bǔ)方法，其特征在于:所述玻璃基板的修補(bǔ)方法包含步驟: 提供一個激光源，輸出一激光； 提供一個圖案化的反射片，設(shè)置于所述激光的一光路上，所述反射片具有一遮光區(qū)及一反光區(qū)； 通過所述反射片的反光區(qū)反射所述激光到一玻璃基板上，以利用所述遮光區(qū)在所述玻璃基板上對應(yīng)形成一暗區(qū)保護(hù)所述玻璃基板上的一圖案化結(jié)構(gòu)；以及 利用所述激光將位在所述暗區(qū)以外的多個缺陷進(jìn)行移除或修補(bǔ)。
2.按權(quán)利要求1所述的玻璃基板的修補(bǔ)方法，其特征在于:所述玻璃基板是一液晶顯示器的薄膜晶體管陣列基板。
3.按權(quán)利要求1所述的玻璃基板的修補(bǔ)方法，其特征在于:所述遮光區(qū)是所述反射片上涂布抗反射性涂層的一區(qū)域，或是所述反射片上的一開口。
4.按權(quán)利要求1所述的玻璃基板的修補(bǔ)方法，其特征在于:所述圖案化結(jié)構(gòu)是圖案化光刻膠層。
5.按權(quán)利要求1所述的玻璃基板的修補(bǔ)方法，其特征在于:所述圖案化結(jié)構(gòu)是掃描線、數(shù)據(jù)線、薄膜晶體管及儲存電容的至少一個的圖案化金屬電路。
6.按權(quán)利要求1所述的玻璃基板的修補(bǔ)方法，其特征在于:在提供一個圖案化的反射片之后，所述玻璃基板的修補(bǔ)方法還包含步驟: 提供一角度控制單元及一位移單元，用以調(diào)整所述反射片的反射角度及位置，使得所述遮光區(qū)形成的暗區(qū)對位于所述玻璃基板上的圖案化結(jié)構(gòu)。
7.按權(quán)利要求1所述的玻璃基板的修補(bǔ)方法，其特征在于:在形成一對應(yīng)的暗區(qū)在所述玻璃基板上之后，所述玻璃基板的修補(bǔ)方法還包含步驟: 得到所述玻璃基板的一檢測影像圖，所述檢測影像圖中包含所述暗區(qū)及一亮區(qū)，所述暗區(qū)對應(yīng)于所述圖案化結(jié)構(gòu)，所述亮區(qū)顯示所述多個缺陷。
8.一種玻璃基板的修補(bǔ)方法，其特征在于:所述玻璃基板的修補(bǔ)方法包含步驟: 提供一個激光源，輸出一圖案化的激光； 將所述圖案化的激光導(dǎo)引到一玻璃基板上，以利用所述圖案化的激光在所述玻璃基板上對應(yīng)形成一暗區(qū)保護(hù)所述玻璃基板上的一圖案化結(jié)構(gòu)；以及利用所述圖案化的激光將位在所述暗區(qū)以外的多個缺陷進(jìn)行移除或修補(bǔ)。
9.按權(quán)利要求8所述的玻璃基板的修補(bǔ)方法，其特征在于:所述玻璃基板是一液晶顯示器的薄膜晶體管陣列基板。
10.按權(quán)利要求8所述的玻璃基板的修補(bǔ)方法，其特征在于:在輸出所述圖案化激光的步驟中，通過提供一個圖案化的反射片設(shè)置于所述激光的一光路上，以利用所述反射片的一遮光區(qū)及一反光區(qū)反射形成所述圖案化激光。
全文摘要
本發(fā)明公開一種玻璃基板的修補(bǔ)方法，所述玻璃基板的修補(bǔ)方法包含步驟︰提供一個激光源，輸出一激光；提供一個圖案化的反射片，設(shè)置于所述激光的一光路上，所述反射片具有一遮光區(qū)及一反光區(qū)；通過所述反射片的反光區(qū)反射所述激光到一玻璃基板上，以利用所述遮光區(qū)在所述玻璃基板上對應(yīng)形成一暗區(qū)保護(hù)所述玻璃基板上的一圖案化結(jié)構(gòu)；以及利用所述激光將位在所述暗區(qū)以外的多個缺陷進(jìn)行移除或修補(bǔ)。
文檔編號G02F1/13GK103091878SQ20131001436
公開日2013年5月8日 申請日期2013年1月15日 優(yōu)先權(quán)日2013年1月15日
發(fā)明者鄭文達(dá), 吳礎(chǔ)任 申請人:深圳市華星光電技術(shù)有限公司