專利名稱：涂布裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及液晶面板制造領(lǐng)域，尤其涉及一種光刻膠用涂布裝置。
背景技術(shù)：
在TFT-IXD (薄膜場效應(yīng)管液晶顯示器)面板加工過程當(dāng)中，主要包括鍍膜、涂膠、 顯影及刻蝕等幾道工藝，從而得到相應(yīng)的TFT圖案。其中，在MASK工藝當(dāng)中，需在鍍膜完成之后的基板之上先涂布感光材料，之后進(jìn)行曝光，再將曝光后的基板進(jìn)行顯影。這其中，涂布感光材料部分又包括預(yù)涂膠、高速甩膠、低壓干燥和端面清潔四個(gè)單元。對(duì)于涂膠過程而言，設(shè)備使用率和生產(chǎn)節(jié)拍是影響涂膠設(shè)備產(chǎn)能的重要指標(biāo)。其中，設(shè)備使用率受生產(chǎn)管理，設(shè)備維護(hù)，備件庫存等因素影響，存在上限。涂膠過程是將感光材料線性涂布在基板上。傳統(tǒng)的涂膠方式是以一張基板為周期，噴涂模塊從基板一端運(yùn)動(dòng)到另一端，同時(shí)將感光材料涂布在基板上，然后返回到初始位置的清洗模塊中進(jìn)行化學(xué)品處理，從而保證其下次涂布均勻性。其中，噴涂模塊在完成一張基板的感光材料涂布之后，從基板一端返回到另一端初始位置的清洗模塊中的動(dòng)作嚴(yán)格意義上屬于無效動(dòng)作。因此，現(xiàn)有技術(shù)增加了涂膠單元的生產(chǎn)節(jié)拍，降低了生產(chǎn)效率。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的實(shí)施例提供一種涂布裝置，以解決涂布過程生產(chǎn)節(jié)拍大，生產(chǎn)效率低的問題。為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案—種涂布裝置，包括噴涂模塊和清洗模塊，所述清洗模塊包括第一清洗子模塊和第二清洗子模塊，其中，所述第一清洗子模塊、第二清洗子模塊分別位于待噴涂基板相對(duì)應(yīng)的兩端之外。所述第一清洗子模塊、第二清洗子模塊平行設(shè)置。所述噴涂模塊具有噴嘴，所述第一清洗子模塊、第二清洗子模塊分別包括基座； 清潔槽，位于所述基座上，其上開設(shè)有溝槽，該溝槽對(duì)應(yīng)所述噴涂模塊的噴嘴。所述噴涂模塊為V字型結(jié)構(gòu)并于V字型結(jié)構(gòu)下端形成有狹縫形的所述噴嘴。所述清潔槽為V字型結(jié)構(gòu)。本實(shí)用新型實(shí)施例提供的涂布裝置，包括噴涂模塊和清洗模塊，其中，該清洗模塊包括第一清洗子模塊和第二清洗子模塊，分別位于待噴涂基板相對(duì)應(yīng)的兩端之外。這樣，噴涂模塊從第一清洗子模塊中出來進(jìn)行涂布后可以直接進(jìn)入位于基板另一端的第二清洗子模塊中進(jìn)行清洗。在保證涂布品質(zhì)的同時(shí)，節(jié)省了噴涂模塊涂布后返回初始位置所需的時(shí)間，因此，減小了涂布過程的生產(chǎn)節(jié)拍，提高了生產(chǎn)效率。


3[0015]為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的涂布裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的清洗模塊的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的涂布裝置的剖視圖。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。本實(shí)用新型實(shí)施例提供的涂布裝置如圖1所示，圖1是該涂布裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。 包括噴涂模塊11和清洗模塊12，噴涂模塊11具有噴嘴，清洗模塊包括第一清洗子模塊121 和第二清洗子模塊122，其中，該第一清洗子模塊121、第二清洗子模塊122分別位于待噴涂基板13相對(duì)應(yīng)的兩端之外。進(jìn)一步地，如圖1所示，該第一清洗子模塊121、第二清洗子模塊122可以平行設(shè)置在待噴涂基板13的相對(duì)邊的旁邊。這樣一來，噴涂模塊11從第一清洗子模塊121中出來進(jìn)行涂布作業(yè)后可以直接進(jìn)入位于基板13另一端的第二清洗子模塊122中進(jìn)行清洗。在保證涂布品質(zhì)的同時(shí)，節(jié)省了噴涂模塊涂布后返回初始位置所需的時(shí)間，因此，減小了涂布過程的生產(chǎn)節(jié)拍，提高了生產(chǎn)效率。其中，噴涂模塊11的可以是多種形狀，同樣的，清洗模塊12的形狀也可以有多種， 以能對(duì)應(yīng)清洗噴涂模塊11的噴嘴即可。進(jìn)一步地，如圖2所示，圖2是清洗模塊的結(jié)構(gòu)示意圖。前述第一清洗子模塊121、 第二清洗子模塊122可以分別包括基座21和清潔槽22。清潔槽22位于基座21上，其上開設(shè)有溝槽，該溝槽對(duì)應(yīng)該噴涂模塊11的噴嘴。裝有基座21的清洗模塊121、122可以穩(wěn)定地固定住清潔槽22，提高清洗的穩(wěn)定性。清潔槽22內(nèi)可盛放對(duì)噴嘴進(jìn)行清洗用的清洗液。進(jìn)一步地，如圖3所示，噴涂模塊11為V字型結(jié)構(gòu)并于V字型結(jié)構(gòu)下端形成有狹縫形的所述噴嘴，該噴嘴可以保證工藝要求的涂布薄厚與均勻程度。相應(yīng)的，清潔槽22也可以為V字型結(jié)構(gòu)。這樣，清潔槽的V字型結(jié)構(gòu)能夠貼合V字型結(jié)構(gòu)的狹縫形的噴嘴，使得狹縫形的噴嘴可以更加容易地進(jìn)出清潔槽，在提高生產(chǎn)效率的同時(shí)，還能夠保證噴嘴的有效清洗。實(shí)際應(yīng)用過程可以參照?qǐng)D1。首先，噴涂模塊11可以直接從基板13左側(cè)的第一清洗子模塊121移出并降到待噴涂基板13的上方合適位置，自左至右勻速移動(dòng)，在此移動(dòng)過程當(dāng)中完成感光材料的均勻涂布。[0028]當(dāng)噴涂模塊11到達(dá)待噴涂基板13右側(cè)，即該基板13的涂布工作已經(jīng)完成時(shí)，噴涂模塊11可以直接進(jìn)入位于基板13右側(cè)的第二清洗子模塊122內(nèi)進(jìn)行清潔，同時(shí)，完成涂布的基板13移出，涂布區(qū)域立刻更換另一塊待噴涂基板13。噴涂模塊11完成清潔后，待另一塊待噴涂基板13已經(jīng)更換完成，噴涂模塊11可以從基板右側(cè)第二清洗子模塊122移出并降到待噴涂基板13上方的合適位置，自右至左勻速移動(dòng)，完成感光材料的均勻涂布。噴涂模塊11回到基板左側(cè)，進(jìn)入位于基板左側(cè)的第一清洗子模塊121內(nèi)進(jìn)行清潔。又一塊基板13涂布完成，之后重復(fù)以上流程。這樣一來，噴涂模塊11從第一清洗子模塊121中出來進(jìn)行涂布作業(yè)后可以直接進(jìn)入位于基板另一端的第二清洗子模塊122中進(jìn)行清洗；從第二清洗子模塊122中出來進(jìn)行涂布作業(yè)后可以直接進(jìn)入位于基板另一端的第一清洗子模塊121中進(jìn)行清洗。在保證涂布品質(zhì)的同時(shí)，節(jié)省了噴涂模塊涂布后返回初始位置所需的時(shí)間，因此，減小了涂布過程的生產(chǎn)節(jié)拍，提高了生產(chǎn)效率。以上所述，僅為本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
，但本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實(shí)用新型揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求1.一種涂布裝置，包括噴涂模塊和清洗模塊，其特征在于，所述清洗模塊包括第一清洗子模塊和第二清洗子模塊，其中，所述第一清洗子模塊、第二清洗子模塊分別位于待噴涂基板相對(duì)應(yīng)的兩端之外。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂布裝置，其特征在于，所述第一清洗子模塊、第二清洗子模塊平行設(shè)置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的涂布裝置，其特征在于，所述噴涂模塊具有噴嘴，所述第一清洗子模塊、第二清洗子模塊分別包括基座；清潔槽，位于所述基座上，其上開設(shè)有溝槽，該溝槽對(duì)應(yīng)所述噴涂模塊的噴嘴。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的涂布裝置，其特征在于，所述噴涂模塊為V字型結(jié)構(gòu)并于V字型結(jié)構(gòu)下端形成有狹縫形的所述噴嘴。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的涂布裝置，其特征在于，所述清潔槽為V字型結(jié)構(gòu)。
專利摘要本實(shí)用新型提供一種涂布裝置，涉及液晶面板制造領(lǐng)域，以解決涂布過程生產(chǎn)節(jié)拍大，生產(chǎn)效率低的問題。該涂布裝置，包括噴涂模塊和清洗模塊，所述清洗模塊包括第一清洗子模塊和第二清洗子模塊，其中，所述第一清洗子模塊、第二清洗子模塊分別位于待噴涂基板相對(duì)應(yīng)的兩端之外。本實(shí)用新型實(shí)施例用于基板涂布。
文檔編號(hào)G03F7/16GK202057959SQ20112017500
公開日2011年11月30日 申請(qǐng)日期2011年5月27日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月27日
發(fā)明者張琨鵬, 戰(zhàn)戈, 焦宇 申請(qǐng)人:北京京東方光電科技有限公司