專利名稱：一種真空電鍍模具的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于光學(xué)器件領(lǐng)域，尤其涉及一種光潔度高的真空電鍍模具。
背景技術(shù)：
目前，現(xiàn)有的光學(xué)器件對(duì)有源光線的利用極低，尤其是在背光行業(yè)，一般來(lái)說(shuō)，其 中導(dǎo)光板對(duì)與外部光的有效利用不到50%，隨著光學(xué)顯示的進(jìn)一步發(fā)展，尤其是在TFT液晶顯示屏之中，更是需要高性能的 導(dǎo)光板。一般來(lái)說(shuō)，導(dǎo)光板設(shè)計(jì)原理是將線光源轉(zhuǎn)變?yōu)槊婀庠?，同時(shí)，還要求對(duì)背光透過(guò)導(dǎo) 光板后的亮度盡可能地高以及使導(dǎo)光板出光面出來(lái)的光盡可能地均勻分布，這樣才能夠滿 足TFT液晶顯示屏對(duì)背光光源的要求。而目前增亮途徑有兩種，一是提高燈的亮度，二是加增亮膜，但對(duì)光線充分利用有 一定局限性。并且，側(cè)光對(duì)光源能量的利用小于底部進(jìn)光，同時(shí)提高燈的亮度和加增亮膜都 需增加成本，如何提高對(duì)光的利用需在光學(xué)器件表面有新突破，是一個(gè)急需解決的技術(shù)問(wèn) 題。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型針對(duì)傳統(tǒng)的模具表面的表面光潔度不高的缺點(diǎn)而提出，提供一種高光 潔度的模具配件表面，其具有光潔度高、對(duì)光利用率較高的特點(diǎn)。本實(shí)用新型解決上述技術(shù)問(wèn)題所采取的技術(shù)方案如下面所描述—種真空電鍍模具，包括模具本體以及模具上表面和模具下表面，所述模具上表 面和下表面為真空電鍍面。進(jìn)一步地，優(yōu)選的結(jié)構(gòu)是，所述真空電鍍模具是導(dǎo)光板。進(jìn)一步地，優(yōu)選的結(jié)構(gòu)是，所述導(dǎo)光板由透光材料組成。本實(shí)用新型在采取了上述技術(shù)方案以后，由于模具上表面和模具下表面都選取的 是真空電鍍面，并且，該真空電鍍面光滑平整，具有光潔度高的技術(shù)優(yōu)點(diǎn)，能夠充分地滿足 光學(xué)器件的表面光潔度要求。

通過(guò)
以下結(jié)合附圖對(duì)其示例性實(shí)施例進(jìn)行的描述，本發(fā)明上述特征和優(yōu)點(diǎn)將會(huì)變 得更加清楚和容易理解。圖1為通用的導(dǎo)光板結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步的描述在具體實(shí)施例之中，我們采取導(dǎo)光板進(jìn)行描述。[0016]圖1為通用的導(dǎo)光板結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖，如圖所示，其包括導(dǎo)光板本體1、導(dǎo)光板 出光面2以及導(dǎo)光板底面3，由于傳統(tǒng)的導(dǎo)光板設(shè)計(jì)，我們從該示意圖可以發(fā)現(xiàn)，導(dǎo)光板出 光面2以及導(dǎo)光板底面3都比較粗糙，因此，不能夠很好地滿足現(xiàn)代的光學(xué)發(fā)展對(duì)于導(dǎo)光板 (光學(xué)器件)的光潔度要求。為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，我們提出了一種真空電鍍模具，包括模具本體以及模具 上表面和模具下表面，所述模具上表面和下表面為真空電鍍面。還是以導(dǎo)光板為例，圖2為本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖所示，其包 括導(dǎo)光板本體1以及導(dǎo)光板出光面2以及導(dǎo)光板底面3，由于上述導(dǎo)光板出光面2以及導(dǎo)光 板底面3都選取的是真空鍍光面，因此，其光潔度非常高。相對(duì)于傳統(tǒng)的設(shè)計(jì)，其明顯光潔 許多。下面，我們對(duì)上述真空電鍍模具的制作方法進(jìn)行一個(gè)詳細(xì)的描述。一般來(lái)說(shuō)，該種真空電鍍模具的制作工藝由如下幾個(gè)方面完成第一、模具慢走絲加工；第二、模具配件加工好后表面先用拋光機(jī)打磨；第三、在上述部件拋光以后再將配件進(jìn)行真空電鍍；第四、電鍍后進(jìn)行光掃描放大測(cè)試表面光潔度，經(jīng)過(guò)上述步驟以后，我們就能夠獲 得較為滿意的光潔度的電鍍模具。本實(shí)用新型在采取了上述技術(shù)方案以后，由于模具上表面和模具下表面都選取的 是真空電鍍面，并且，該真空電鍍面光滑平整，具有光潔度高的技術(shù)優(yōu)點(diǎn)，能夠充分地滿足 光學(xué)器件的表面光潔度要求。需要注意的是，上述具體實(shí)施例是示例性的，在本實(shí)用新型的上述教導(dǎo)下，本領(lǐng)域 技術(shù)人員可以在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上進(jìn)行各種改進(jìn)和變形，而這些改進(jìn)或者變形落在本實(shí) 用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該明白，上面的具體描述只是為了解釋本實(shí)用新型的目的，并 非用于限制本實(shí)用新型。本實(shí)用新型的保護(hù)范圍由權(quán)利要求及其等同物限定。
權(quán)利要求1.一種真空電鍍模具，包括模具本體以及模具上表面和模具下表面，其特征在于，所述 模具上表面和下表面為真空電鍍面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空電鍍模具，其特征在于，所述真空電鍍模具是導(dǎo)光板。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空電鍍模具，其特征在于，所述導(dǎo)光板由透光材料組成。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種真空電鍍模具，包括模具本體以及模具上表面和模具下表面，所述模具上表面和下表面為真空電鍍面。本實(shí)用新型在采取了上述技術(shù)方案以后，由于模具上表面和模具下表面都選取的是真空電鍍面，并且，該真空電鍍面光滑平整，具有光潔度高的技術(shù)優(yōu)點(diǎn)，能夠充分地滿足光學(xué)器件的表面光潔度要求。
文檔編號(hào)G02B6/00GK201845092SQ20102056746
公開(kāi)日2011年5月25日 申請(qǐng)日期2010年10月18日 優(yōu)先權(quán)日2010年10月18日
發(fā)明者周建紅 申請(qǐng)人:深圳市鴻智電子技術(shù)有限公司