專利名稱：玻璃基板層疊裝置及層疊玻璃基板的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及玻璃基板層疊裝置及層疊玻璃基板的制造方法。
背景技術(shù)：
在液晶顯示裝置(LCD)、有機EL顯示裝置(OLED)、特別是移動裝置、手機等便攜式顯示裝置的領(lǐng)域中，顯示裝置的輕量化、薄型化成為重要的課題。為了應對該課題，希望使顯示裝置所使用的玻璃基板的板厚進一步變薄。作為使板厚變薄的方法，一般進行如下方法在玻璃基板的表面形成顯示裝置用部件之前或之后， 使用氫氟酸等對玻璃基板進行蝕刻處理，根據(jù)需要進一步進行物理研磨而使之變薄。然而，在玻璃基板的表面形成顯示裝置用部件之前進行蝕刻處理等而使玻璃基板變薄時，玻璃基板的強度降低，撓曲量也變大。因此產(chǎn)生不能通過現(xiàn)有的生產(chǎn)線進行處理的問題。另外，在玻璃基板的表面形成顯示裝置用部件后進行蝕刻處理等而使玻璃基板變薄時，在玻璃基板的表面形成顯示裝置用部件的過程中，存在在玻璃基板的表面形成的微細的損傷表面化的問題，即存在產(chǎn)生侵蝕孔的問題。因此，以解決這樣的問題為目的，提出了如下的方法等使板厚薄的玻璃基板(以下也稱為“薄板玻璃基板”)與其他的支承玻璃基板貼合而作為層疊體，在該狀態(tài)下實施用于制造顯示裝置的規(guī)定處理，然后，將薄板玻璃基板和支承玻璃基板分離。例如在專利文獻1中，記載了一種將薄板玻璃基板和支承玻璃基板層疊而構(gòu)成的薄板玻璃層疊體，其特征在于，將所述薄板玻璃基板和所述支承玻璃基板經(jīng)由具有易剝離性及非粘接性的有機硅樹脂層而層疊。并且，這樣的玻璃層疊體能夠使用滾軋、沖壓而壓接，或采用真空層壓法、真空沖壓法而進行制造。專利文獻1 國際公開第2007/018028號小冊子

發(fā)明內(nèi)容
在形成專利文獻1中記載的玻璃層疊體的情況下，通常應用真空層疊沖壓法，即如下方法在將支承玻璃基板和薄板玻璃基板經(jīng)由樹脂層而暫時層疊的狀態(tài)下設置沖壓機，抽成真空后進行沖壓。但是，存在即使進行沖壓也會在薄板玻璃基板和樹脂層之間殘留氣泡而不能完全去除的問題。特別是薄板玻璃基板的尺寸較大時變得顯著。作為上述情況的對策，可考慮如下方法例如將薄板玻璃基板吸附于上側(cè)的加壓單元而保持，在支承玻璃基板和薄板玻璃基板之間保持間隙，在該狀態(tài)下使兩基板存在的空間為真空，然后使兩基板接觸而進行沖壓。但是，該情況下，利用真空吸附法不能使薄板玻璃基板吸附于加壓單元而保持。因此雖然利用靜電吸附法進行保持，但基于以往提出的靜電吸附法的基板保持方法，是使用面形狀的靜電吸附墊保持玻璃基板的方法，這樣的靜電吸附元件向玻璃基板面的接觸遍及較廣的范圍。因此，存在對該玻璃基板面產(chǎn)生損傷等的可能性。在后工序中在該玻璃基板面上形成顯示器的器件，但若存在損傷等則形成困難。本發(fā)明鑒于上述的問題而做出。即，其目的在于，提供一種裝置，該裝置能夠抑制因向玻璃基板間混入的氣泡、塵埃等異物導致的玻璃缺陷的產(chǎn)生，并且不產(chǎn)生侵蝕孔而通過現(xiàn)有的生產(chǎn)線進行處理，能夠簡單且經(jīng)濟地制造在薄板玻璃基板的顯示器件形成面上幾乎不存在阻礙該顯示器件的形成的損傷、污垢等的層疊玻璃基板。另外，其目的在于提供一種使用了該裝置的層疊玻璃基板的制造方法。本發(fā)明人為了解決上述課題反復進行了認真研究，完成了本發(fā)明。本發(fā)明涉及以下的(1) (11)。(1) 一種玻璃基板層疊裝置，用于層疊兩張玻璃基板，具備構(gòu)成為吸附支承上方的玻璃基板的上方基板支承單元；構(gòu)成為載置支承下方的玻璃基板的下方基板支承單元； 構(gòu)成為使包含所述上方基板支承單元和所述下方基板支承單元之間的空間為氣密狀態(tài)的密封單元；及構(gòu)成為對由所述上方基板支承單元、所述下方基板支承單元及所述密封單元包圍的所述空間內(nèi)進行減壓的減壓單元，所述上方基板支承單元的下表面具有下述(A)、 (B)及(C)中的任一種形狀的基板吸附單元(A)矩形框形狀的基板吸附單元；(B)由矩形框和將構(gòu)成該矩形的四條邊中的相對的1組或2組邊分別連接的直線或曲線構(gòu)成的形狀的基板吸附單元；(C)由彼此交叉的多條直線或曲線構(gòu)成的形狀的基板吸附單元。(2)如上述(1)所述的玻璃基板層疊裝置，還具有構(gòu)成為朝向下方對上方的玻璃基板的上表面噴吹壓縮空氣的壓縮空氣供給單元。(3)如上述(1)或( 所述的玻璃基板層疊裝置，所述基板吸附單元的寬度為 20mm以下。(4)如上述(1) (3)中任一項所述的玻璃基板層疊裝置，所述基板吸附單元具有靜電吸附元件或粘接部件。(5)如上述(4)所述的玻璃基板層疊裝置，所述靜電吸附元件的電極保持用基材為聚酰亞胺類薄膜。(6) 一種層疊玻璃基板的制造方法，使用上述(1) (5)中任一項所述的玻璃基板層疊裝置，將薄板玻璃基板及支承玻璃基板這2張玻璃基板層疊，使利用所述上方基板支承單元具有的所述基板吸附單元吸附的所述薄板玻璃基板和載置于所述下方基板支承單元上且在上表面具有樹脂層的所述支承玻璃基板相對，利用所述減壓單元對由所述上方基板支承單元、所述下方基板支承單元及所述密封單元包圍的空間內(nèi)進行減壓，然后，使所述薄板玻璃基板和所述支承玻璃基板接觸，通過加壓使2張玻璃基板隔著所述樹脂層而層疊。(7)如上述(6)所述的層疊玻璃基板的制造方法，使所述薄板玻璃基板和所述支承玻璃基板接觸后，利用所述壓縮空氣供給單元朝向下方對所述薄板玻璃基板的上表面噴吹壓縮空氣。(8)如上述(6)或(7)所述的層疊玻璃基板的制造方法，使所述薄板玻璃基板和所述支承玻璃基板接觸后，在由所述上方基板支承單元、所述下方基板支承單元及所述密封單元包圍的所述空間內(nèi)或其他的加壓裝置內(nèi)進行0. 1 IMPa的范圍的加壓處理。(9)如上述(6) (8)中任一項所述的層疊玻璃基板的制造方法，設所述薄板玻璃基板的上表面面積為&、所述基板吸附單元和所述薄板玻璃基板之間的接觸面積為S1時， 滿足關(guān)系式0. 02 ( S1ZS0彡0. 1。(10)如上述(6) (9)中任一項所述的層疊玻璃基板的制造方法，所述基板吸附單元具有靜電吸附元件，所述靜電吸附元件相對于所述薄板玻璃基板的吸附力在施加電壓 IkV下為40mN/cm2以上。(11)如上述(6) (10)中任一項所述的層疊玻璃基板的制造方法，所述樹脂層由選自丙烯酸類樹脂、聚烯烴類樹脂、聚氨酯類樹脂及有機硅類樹脂中的至少一種構(gòu)成。發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明，能夠提供一種裝置，該裝置能夠抑制因向玻璃基板間混入的氣泡、塵埃等異物導致的玻璃缺陷的產(chǎn)生，并且不產(chǎn)生侵蝕孔而通過現(xiàn)有的生產(chǎn)線進行處理，能夠簡單且經(jīng)濟地制造在薄板玻璃基板的顯示器件形成面上幾乎不存在阻礙該顯示器件的形成的損傷、污垢等的層疊玻璃基板。另外，能夠提供使用了該裝置的層疊玻璃基板的制造方法。


圖1(a) (C)是本發(fā)明的層疊裝置的優(yōu)選實施例的剖面圖。圖2是本發(fā)明的層疊裝置的優(yōu)選實施例的一部分的俯視圖。圖3(a) (C)是本發(fā)明的層疊裝置的優(yōu)選實施例的靜電吸附元件的俯視圖。圖4是比較例的靜電吸附元件的俯視圖。
具體實施例方式以下對本發(fā)明進行詳細說明。首先對本發(fā)明的層疊裝置進行說明，然后對本發(fā)明的制造方法進行說明。以下對本發(fā)明的層疊裝置進行說明。本發(fā)明的層疊裝置是用于層疊兩張玻璃基板的玻璃基板層疊裝置，具備構(gòu)成為吸附支承上方的玻璃基板的上方基板支承單元；構(gòu)成為載置支承下方的玻璃基板的下方基板支承單元；構(gòu)成為使包含上述上方基板支承單元和上述下方基板支承單元之間的空間為氣密狀態(tài)的密封單元；及構(gòu)成為對由上述上方基板支承單元、上述下方基板支承單元及上述密封單元包圍的上述空間內(nèi)進行減壓的減壓單元，上述上方基板支承單元的下表面具有特定形狀的基板吸附單元。列舉本發(fā)明的層疊裝置的優(yōu)選實施例，使用附圖進行說明。圖1、圖2是表示作為本發(fā)明的層疊裝置的優(yōu)選實施例的層疊裝置10的圖。圖 1(a) (c)是剖面圖，圖2是從下側(cè)僅觀察作為上方基板支承單元的上平臺12 (未吸附薄板玻璃基板M的狀態(tài))看到的圖。在圖2中將與支柱13及密封件16的連接部分省略。在圖1中，層疊裝置10具備作為上方基板支承單元的上平臺12 ；作為下方基板支承單元的下平臺14 ；及作為密封單元的密封件16，還具備未圖示的減壓單元。另外，在圖1中，上平臺12吸附薄板玻璃基板M，下平臺14將支承玻璃基板20固定。支承玻璃基板20的上表面具有樹脂層22，下表面與下平臺14接觸。為了便于說明，將上平臺12吸附的玻璃基板作為“薄板玻璃基板M”，但上平臺12 對于不是“板厚薄的玻璃基板”的玻璃基板也能夠吸附。對層疊裝置10的下平臺14進行說明。下平臺14是能夠?qū)⒉ＡЩ逶诖笾滤降臓顟B(tài)下進行保持的工作臺，下平臺14 自身設置為大致水平。另外，下平臺14能夠在其上表面固定玻璃基板。使下平臺14和上平臺12靠近而將兩張玻璃基板壓接時，對載置于工作臺上的玻璃基板施加力，但此時下平臺14能夠以玻璃基板不動的程度固定保持玻璃基板。圖1 (a) (c)表示在下平臺14的上表面固定保持具有樹脂層22的支承玻璃基板20的狀態(tài)。在此，下平臺14的與支承玻璃基板20接觸的面、即載置支承玻璃基板20的下平臺14的上表面優(yōu)選不是水平面而是例如梨皮狀的面。另外，在層疊裝置10中，用于使由上平臺12、下平臺14及密封件16包圍的空間 30減壓的減壓孔145形成于下平臺14。對層疊裝置10的上平臺12進行說明。上平臺12由支柱13支承，在下平臺14的上側(cè)以與下平臺14相對的方式大致水平地設置。另外，上平臺12能夠經(jīng)由支柱13以保持為與下平臺14相對的狀態(tài)沿上下方向移動。圖1(b)是表示從圖1(a)的狀態(tài)使上平臺12向下方向移動而密封件16的下端與下平臺14相接的狀態(tài)。另外，圖1(c)表示從圖1(b)的狀態(tài)進一步使上平臺12向下方向移動而使薄板玻璃基板M和支承玻璃基板20經(jīng)由樹脂層22緊貼的狀態(tài)。在圖1所示的實施方式中，僅使上平臺12沿上下方向移動而使薄板玻璃基板M 和支承玻璃基板20經(jīng)由樹脂層22緊貼，但本發(fā)明不限于此，也可以僅使下平臺14沿上下方向移動而緊貼，也可以使上平臺12及下平臺14兩者沿上下方向移動而緊貼。上平臺12在其下表面的一部分具有作為基板吸附單元的靜電吸附元件121，能夠利用未圖示的裝置對靜電吸附元件121施加電壓。施加電壓后能夠利用靜電力將玻璃基板 (薄板玻璃基板24)吸附于靜電吸附元件121的下表面。在此，能夠?qū)⒈“宀ＡЩ錗保持為與在下平臺14的上表面載置的支承玻璃基板20大致平行的狀態(tài)進行吸附。另外，吸附于靜電吸附元件121的薄板玻璃基板M存在撓曲的情況，因此如圖1 所示，優(yōu)選在薄板玻璃基板M的上表面和上平臺12的下表面之間形成空間123。存在空間 123的情況下，需要在上平臺12上形成連接空間123和后述的空間30的通氣孔125。這是因為，可與空間30同樣地在空間123內(nèi)也形成減壓狀態(tài)。靜電吸附元件121的電極保持用基材只要能夠吸附玻璃基板就沒有限制，例如能夠使用以往公知的基材。例如能夠使用有機薄膜類、陶瓷類。另外，在使薄板玻璃基板M 和支承玻璃基板20緊貼時對靜電吸附元件121施加壓縮應力，因此優(yōu)選有機薄膜類，優(yōu)選聚酰亞胺類薄膜。另外，靜電吸附元件121的形狀被限定，例如為如圖2所示的矩形框狀的形狀。這樣的矩形框狀的靜電吸附元件121在薄板玻璃基板對的顯示器件形成面(即，不與樹脂層緊貼的主面)上幾乎不形成阻礙該顯示器件的形成的損傷、污垢等。這是因為在玻璃基板的表面形成顯示器件時，通常在玻璃基板的最外殼部分不形成顯示器件。為這樣的矩形框狀時，即使薄板玻璃基板M為較大的基板(例如IOOOmmX 1000mm、厚度0. 4mm的玻璃板)， 也能夠利用靜電吸附元件進行吸附。本發(fā)明的層疊裝置的上方基板支承單元及下方基板支承單元優(yōu)選為能夠?qū)盈B這樣的大小的2張玻璃基板的大小。另外，靜電吸附元件121的寬度(圖2中用“X”表示的長度)優(yōu)選為20mm以下， 較優(yōu)選為Imm 15mm，進一步優(yōu)選為3mm 8mm，更優(yōu)選為5mm左右。為這樣的寬度時，靜電吸附元件121能夠比較容易地吸附薄板玻璃基板24。另外，為這樣的寬度時，由于能夠從薄板玻璃基板切出的顯示器等的數(shù)量較多，故而優(yōu)選。另外，靜電吸附元件121的形狀除了圖2所示的矩形框狀的形狀外也可以為例如圖3(a) (c)所示的形狀。圖3(a)是由矩形框和將構(gòu)成該矩形的4條邊中的相對的1組邊的中央連接的直線構(gòu)成的形狀。圖3(b)是由矩形框和將構(gòu)成該矩形的4條邊中的相對的2組邊的各中央連接的直線構(gòu)成的形狀。圖3 (c)是由彼此正交的兩條直線構(gòu)成的形狀。在此，在本發(fā)明的層疊裝置中，對于靜電吸附元件121的形狀，也可以是圖3(a)中的“將1組邊的中央連接的直線”不是“中央”的形狀，另外也可以為不是“直線”而是“曲線”的形狀。另外，在圖3(b)、(c)中也同樣。另夕卜，圖3(c)中的“2條直線”也可以為3條以上的直線，也可以不是“2條直線正交”而是“兩條直線交叉”的形狀。切出薄板玻璃基板而形成的顯示器等的形狀為矩形的情況下，與“曲線”相比優(yōu)選“直線”。這是因為能夠切出的顯示器等的數(shù)量較多。顯示器等的形狀不是矩形的情況下，存在優(yōu)選“曲線”的情況。在本發(fā)明的層疊裝置中基板吸附單元除了上述靜電吸附元件外也可以是粘接部件。作為粘接部件，具體可列舉有機硅樹脂制粘接部件、丙烯酸樹脂制粘接部件、聚氨酯樹脂制粘接部件、天然橡膠類粘接部件等。對層疊裝置10的密封件16進行說明。密封件16存在于上平臺12及下平臺14的側(cè)面?zhèn)?。從而，能夠通過上平臺12、下平臺14、密封件16形成氣密空間30?？臻g30為包含上平臺12和下平臺14之間部分的空間的空間。在層疊裝置10中，密封件16的上端固定在上平臺12上，通過使上平臺12靠近下平臺14，能夠使密封件16的下端與下平臺14相接而形成氣密空間30。在圖1(a)中，沒有形成空間30，但使上平臺12從圖1 (a)的狀態(tài)向下方向移動而密封件16的下端與下平臺 14相接時，如圖1(b)所示形成空間30。另外，如圖1(b)所示，能夠保持吸附于上平臺12 的靜電吸附元件121的薄板玻璃基板M和樹脂層22分離的狀態(tài)而直接形成氣密空間30。如圖1(b)所示，形成空間30后，能夠經(jīng)由減壓孔145利用減壓單元使空間30的內(nèi)部減壓。使空間30的內(nèi)部形成減壓狀態(tài)后，經(jīng)由通氣孔125使空間123的內(nèi)部也形成相同程度的減壓狀態(tài)。作為本發(fā)明的層疊裝置的優(yōu)選實施例，可列舉上述的層疊裝置10。本發(fā)明的層疊裝置優(yōu)選還具備構(gòu)成為朝向下方對上方的玻璃基板的上表面噴吹壓縮空氣的壓縮空氣供給單元。例如在具有上述圖2所示的形狀的基板吸附單元的層疊裝置10中，上平臺12具有壓縮空氣供給單元時，例如在圖1(c)的狀態(tài)下，通過從上方朝向下方對薄板玻璃基板M 的上表面的重心附近噴吹壓縮空氣，能夠使薄板玻璃基板M和樹脂層22更加緊貼，因此優(yōu)選。上方基板支承單元具有多個壓縮空氣供給單元(未圖示)，優(yōu)選能夠向上方的玻璃基板的上表面的多個部位噴吹壓縮空氣。構(gòu)成本發(fā)明的層疊裝置的各部分的材質(zhì)、大小等沒有特別限定，例如可以與以往公知的真空沖壓裝置同樣。 接著，對本發(fā)明的制造方法進行說明。本發(fā)明的制造方法是使用上述本發(fā)明的層疊裝置來將薄板玻璃基板及支承玻璃基板這兩張玻璃基板層疊的層疊玻璃基板的制造方法，其中，使利用上述上方基板支承單元具有的上述基板吸附單元吸附的上述薄板玻璃基板和載置于上述下方基板支承單元上且在上表面具有樹脂層的上述支承玻璃基板相對，利用上述減壓單元對由上述上方基板支承單元、上述下方基板支承單元及上述密封單元包圍的空間內(nèi)進行減壓，然后，使上述薄板玻璃基板和上述支承玻璃基板接觸，通過加壓使2張玻璃基板隔著上述樹脂層而層疊。在本發(fā)明的制造方法中，優(yōu)選首先將薄板玻璃基板吸附于上方基板支承單元具有的基板吸附單元。吸附的方法沒有限定，但若例如為使用作為優(yōu)選實施例的層疊裝置10的情況，則可列舉如下方法首先將薄板玻璃基板M載置于下平臺14的上表面，接著使上平臺12下降，使靜電吸附元件121和薄板玻璃基板M緊貼，施加靜電吸附元件121而吸附薄板玻璃基板M后，使上平臺12上升。在此，載置薄板玻璃基板M的下平臺14的表面的水平度及平滑度較高時，薄板玻璃基板M和下平臺14的表面緊貼，難以利用靜電吸附元件 121保持吸附薄板玻璃基板M的狀態(tài)直接使上平臺12上升，因此不優(yōu)選。因此，優(yōu)選下平臺14的上表面為梨皮狀，或在上表面的一部分具有槽。另外，優(yōu)選靜電吸附元件121相對于薄板玻璃基板M的吸附力在施加電壓IkV下為40mN/cm2以上。這是因為吸附變得更牢固。另外，靜電吸附元件的吸附能力是按照導體>半導體>>絕緣體的順序能力降低，特別是無堿玻璃比鈉鈣玻璃的吸附能力更低，如上所述吸附能力在施加電壓IkV下為 40mN/cm2以上、優(yōu)選60mN/cm2以上、進而優(yōu)選80mN/cm2以上時，即使薄板玻璃基板M為無堿玻璃也能夠利用上方基板支承單元容易地進行保持，因此優(yōu)選。薄板玻璃基板自身的特性、制造方法等如后所述。在本發(fā)明的制造方法中，優(yōu)選如上所述將薄板玻璃基板吸附于基板吸附單元后， 在下方基板支承單元上載置支承玻璃基板。在此，預先在支承玻璃基板的上表面形成樹脂層，載置時以樹脂層成為上側(cè)的方式將支承玻璃基板載置在下方基板支承單元上。并且，如圖1(a)所示，使薄板玻璃基板和支承玻璃基板相對。樹脂層及支承玻璃基板自身的特性、制造方法等如后所述。在本發(fā)明的制造方法中，如上所述使薄板玻璃基板和支承玻璃基板相對后，利用上方基板支承單元、下方基板支承單元及密封單元形成氣密空間。例如如圖1(b)所示，通過使上平臺12下降而使密封件16的下端緊貼于下平臺14的上表面，而能夠形成氣密空間 30。在此氣密空間是指以空氣不從外部進入內(nèi)部的程度進行密閉的空間。接著，利用減壓單元，對由上方基板支承單元、下方基板支承單元及密封單元包圍的空間內(nèi)進行減壓。例如在圖1(b)所示的狀態(tài)下，經(jīng)由減壓孔145利用公知的減壓裝置對空間30的內(nèi)部進行減壓。在此，空間123也經(jīng)由通氣孔125減壓。由此，薄板玻璃基板M能夠保持大致水平狀態(tài)。由于若不存在通氣孔125則產(chǎn)生空間123和空間30之間的氣壓差，因此薄板玻璃基板M存在變形的可能性。接著，使薄板玻璃基板和支承玻璃基板接觸并進行加壓。例如能夠如圖1 (C)所示通過使上平臺12下降而進行。在此，設薄板玻璃基板的上表面面積為&、設基板吸附單元和薄板玻璃基板的接觸面積為S1時，優(yōu)選滿足關(guān)系式0. 02 ^ S^S0 ^ 0. 1，更優(yōu)選滿足0. 025 ^ S1ZS0 ^ 0. 08， 進一步優(yōu)選滿足0. 03 ( S1ZiSci ( 0. 06。這是因為，若為這樣的范圍，則能夠比較容易地利用基板吸附單元吸附薄板玻璃基板，另外，能夠從薄板玻璃基板切出的顯示器等的數(shù)量較多。在此，優(yōu)選在使薄板玻璃基板和支承玻璃基板接觸后，利用壓縮空氣供給單元，朝向下方對薄板玻璃基板的上表面噴吹壓縮空氣。即，優(yōu)選對薄板玻璃基板和支承玻璃基板進行加壓的同時，或在加壓后，利用壓縮空氣供給單元朝向下方對薄板玻璃基板的上表面噴吹壓縮空氣。這是因為基于基板吸附單元的薄板玻璃基板的吸附變得更牢固。另外，本發(fā)明的制造方法，優(yōu)選使上述氣密空間30為加壓狀態(tài)，促進薄板玻璃基板對和樹脂層22的緊貼。另外，也可以不使上述氣密空間30為加壓狀態(tài)，而是暫時從層疊裝置10取出使薄板玻璃基板M和樹脂層22緊貼而成的層疊玻璃基板，向另外的加壓裝置內(nèi)放入該層疊玻璃基板，對該加壓裝置內(nèi)進行加壓，從而促進薄板玻璃基板M和樹脂層22 的緊貼。施加的壓力優(yōu)選為0. 1 IMPa，更優(yōu)選為0. 1 0. 6MPa。施加的壓力小于0. IMPa 時不能充分獲得促進緊貼的效果，故而不優(yōu)選。另外，施加的壓力超過IMPa時需要新設置大型的加壓裝置，因而不經(jīng)濟。另外，優(yōu)選在樹脂層的表面緊貼薄板玻璃基板時，充分地清洗薄板玻璃基板的表面，在清潔度高的環(huán)境下進行層疊。即使在樹脂層和薄板玻璃基板之間混入異物，由于樹脂層變形，因此也不會對薄板玻璃基板的表面的平坦性造成影響，但清潔度越高則所述平坦性變得越良好，故而優(yōu)選。利用這樣的本發(fā)明的制造方法，能夠獲得將2張玻璃基板經(jīng)由樹脂層層疊而成的層疊玻璃。在以下將這樣的層疊玻璃也稱為“本發(fā)明的層疊玻璃基板”。對本發(fā)明的層疊玻璃基板進行說明。本發(fā)明的層疊玻璃基板中，薄板玻璃基板和樹脂層通過非常接近的相對的固體分子間的范德瓦耳斯力引起的力、即緊貼力而與樹脂層緊貼。該情況下，能夠保持為使支承玻璃基板和薄板玻璃基板層疊的狀態(tài)。另外，本發(fā)明的層疊玻璃基板是利用本發(fā)明的制造方法進行制造的，因此使薄板玻璃基板和固定有樹脂層的支承玻璃基板不含有氣泡地層疊。另外，本發(fā)明的層疊玻璃基板在薄板玻璃基板的顯示器件形成面上幾乎不存在阻礙該顯示器件的形成的損傷、污垢等。對本發(fā)明的層疊玻璃基板的薄板玻璃基板進行說明。薄板玻璃基板的厚度、形狀、大小、物理性質(zhì)(熱收縮率、表面形狀、耐化學品性等)、組成等沒有特別限定，例如可以與以往的LCD、0LED等顯示裝置用的玻璃基板相同。薄板玻璃基板優(yōu)選為TFT陣列用玻璃基板。薄板玻璃基板的厚度優(yōu)選小于0. 7mm,更優(yōu)選為0. 5mm以下，進而優(yōu)選為0. 4mm以下。另外，優(yōu)選為0. 05mm以上，更優(yōu)選為0. 07mm以上，進一步優(yōu)選為0. Imm以上。
薄板玻璃的形狀沒有限定，但優(yōu)選為矩形。薄板玻璃的大小沒有限定，但例如在矩形的情況下可以為100 2000mmX 100 2000mm，更優(yōu)選為 500 IOOOmmX 500 1000mm。薄板玻璃的厚度及大小中，厚度以使用激光聚焦位移計測定面內(nèi)9個點得到的值的平均值表示，大小是指使用鋼尺分別計測短邊/長邊得到的值。后述的支承玻璃基板的厚度及大小也同樣。即使是這樣的厚度及大小，本發(fā)明的層疊玻璃基板也能夠容易地剝離薄板玻璃基板和支承玻璃基板。薄板玻璃基板的熱收縮率、表面形狀、耐化學品性等特性也沒有特別限定，根據(jù)制造的顯示裝置的種類而不同。另外，優(yōu)選薄板玻璃基板的熱收縮率較小。具體而言，優(yōu)選使用作為熱收縮率的指標的線膨脹系數(shù)為200X10_7°C以下的薄板玻璃基板。更優(yōu)選所述線膨脹系數(shù)為 100X10-7/oC以下，進而優(yōu)選為45X 10_7°c以下。其理由是因為熱收縮率較大時不能制成高精細的顯示裝置。在本發(fā)明中線膨脹系數(shù)是指由JIS R3102(1995年)規(guī)定的內(nèi)容。薄板玻璃基板的組成例如與堿性玻璃、無堿玻璃同樣即可。其中，由于熱收縮率較小，優(yōu)選為無堿玻璃。對本發(fā)明的層疊玻璃基板的支承玻璃基板進行說明。支承玻璃基板經(jīng)由樹脂層支承薄板玻璃基板，加強薄板玻璃基板的強度。支承玻璃基板的厚度、形狀、大小、物理性質(zhì)(熱收縮率、表面形狀、耐化學品性等)、組成等沒有特別限定。支承玻璃基板的厚度沒有特別限定，但優(yōu)選為能夠通過現(xiàn)有的生產(chǎn)線處理的厚度。例如優(yōu)選為0. 1 1. Imm的厚度，更優(yōu)選為0. 3 0. 8mm，進一步優(yōu)選為0. 4 0. 7mm。例如，現(xiàn)有的生產(chǎn)線設計為處理厚度0. 5mm的基板，薄板玻璃基板的厚度為0. Imm 的情況下，使支承玻璃基板的厚度和樹脂層的厚度之和為0. 4mm。另外，最一般的情況是現(xiàn)有的生產(chǎn)線設計為處理厚度0. 7mm的玻璃基板，但例如薄板玻璃基板的厚度若為0. 4mm，則使支承玻璃基板的厚度和樹脂層的厚度之和為0. 3mm。支承玻璃基板的厚度優(yōu)選比所述薄板玻璃基板厚。支承玻璃基板的形狀沒有限定，但優(yōu)選為矩形。支承玻璃基板的大小沒有限定，但優(yōu)選為與上述薄板玻璃基板相同程度，優(yōu)選比上述玻璃基板稍大(縱方向或橫方向分別為0. 05 IOmm程度的大小)。理由是因為容易保護上述薄板玻璃基板的端部不與顯示裝置用面板制造時的定位銷等定位裝置接觸、及能夠更容易地進行薄板玻璃基板和支承玻璃基板的剝離。支承玻璃基板可以是線膨脹系數(shù)與上述薄板玻璃基板實質(zhì)上相同，也可以不同。 如果實質(zhì)上相同，則對本發(fā)明的層疊玻璃基板進行熱處理時，在薄板玻璃基板或支承玻璃基板上難以產(chǎn)生翹曲，故而優(yōu)選。薄板玻璃基板和支承玻璃基板的線膨脹系數(shù)之差優(yōu)選為300 X 10_7°C以下，更優(yōu)選為100X10_7°C以下，進一步優(yōu)選為50X10_7°C以下。支承玻璃基板的組成例如與堿性玻璃、無堿玻璃同樣即可。其中，由于熱收縮率較小，優(yōu)選為無堿玻璃。對本發(fā)明的層疊玻璃基板的樹脂層進行說明。在本發(fā)明的層疊玻璃基板中，樹脂層固定于上述支承玻璃基板的一個主面(以下稱為支承玻璃基板的“第一主面”。另外，存在將另一個主面稱為“第二主面”的情況。)。并且，樹脂層雖然與上述薄板玻璃基板的一個主面(以下稱為薄板玻璃基板的“第一主面”。 另外，存在將另一個主面稱為“第二主面”的情況。)緊貼，但能夠容易地剝離。即樹脂層相對于上述薄板玻璃基板具有易剝離性。在本發(fā)明的層疊玻璃基板中，認為樹脂層與薄板玻璃基板不是利用粘接劑具有的粘接力附著，認為是利用固體分子間的范德瓦耳斯力引起的力、即緊貼力附著。樹脂層的厚度沒有特別限定。優(yōu)選為1 100 μ m,更優(yōu)選為5 30 μ m，進一步優(yōu)選為7 20 μ m。這是因為樹脂層的厚度為這樣的范圍時，薄板玻璃基板和樹脂層的緊貼變得充分。另外，這是因為即使夾有氣泡、異物，也能夠抑制薄板玻璃基板的歪斜缺陷的產(chǎn)生。另外，樹脂層的厚度過厚時，形成需要時間及材料，因此不經(jīng)濟。在此，樹脂層的厚度是指使用激光聚焦位移計測定面內(nèi)9點得到的值的平均值。樹脂層也可以由2層以上構(gòu)成。該情況下，“樹脂層的厚度”是指全部的層的總計厚度。另外，樹脂層由2層以上構(gòu)成的情況下，形成各層的樹脂的種類也可以不同。對于樹脂層，優(yōu)選樹脂層的表面相對于上述薄板玻璃基板的第一主面的表面張力為30mN/m以下，更優(yōu)選為25mN/m以下，進一步優(yōu)選為22mN/m以下。這是因為，如果為這樣的表面張力，則能夠更容易地與薄板玻璃基板剝離，同時與薄板玻璃基板的緊貼也變得充分。另外，樹脂層優(yōu)選由玻璃轉(zhuǎn)移點比室溫(25°C左右)低的材料或不具有玻璃轉(zhuǎn)移點的材料構(gòu)成。這是因為，可成為非粘接性的樹脂層，更具有易剝離性，能夠更容易地與薄板玻璃基板剝離，同時與薄板玻璃基板的緊貼也充分。另外，樹脂層優(yōu)選具有耐熱性。這是因為，例如在上述薄板玻璃基板的第二主面上形成顯示裝置用部件的情況下，將具有樹脂層的層疊玻璃基板供于熱處理。另外，樹脂層的彈性模量過高時與薄板玻璃基板的緊貼性變低，故而不優(yōu)選。另外，彈性模量過低時易剝離性變低，因此不優(yōu)選。形成樹脂層的樹脂的種類沒有特別限定。例如可列舉丙烯酸樹脂、聚烯烴類樹脂、 聚氨酯樹脂及有機硅樹脂。也可混合使用兩種類的樹脂。其中優(yōu)選有機硅樹脂。這是因為有機硅樹脂耐熱性優(yōu)良且相對于薄板玻璃基板的易剝離性優(yōu)良。有機硅樹脂層例如即使在 400°C左右下處理1小時左右，易剝離性也幾乎不劣化，從這一方面也優(yōu)選。另外，這是因為，有機硅樹脂與支承玻璃基板表面的硅烷醇基發(fā)生縮合反應，因此容易將有機硅樹脂層固定在支承玻璃基板的表面(第一主面)上。另外，樹脂層即使在有機硅樹脂中也優(yōu)選由剝離紙用有機硅構(gòu)成，優(yōu)選為其固化物。剝離紙用有機硅以在分子內(nèi)包含有直鏈狀的聚二甲基硅氧烷的有機硅為主劑。使用催化劑、光聚合引發(fā)劑等使包含該主劑和交聯(lián)劑的組成物固化于上述支承玻璃基板的表面 (第一主面)而形成的樹脂層具有優(yōu)良的易剝離性，故而優(yōu)選。另外，由于柔軟性較高，因而即使在薄板玻璃基板和樹脂層之間混入氣泡、塵埃等異物，也能夠抑制薄板玻璃基板的歪斜缺陷的產(chǎn)生，故而優(yōu)選。這樣的剝離紙用有機硅根據(jù)其固化機理分類成縮合反應型有機硅、加成反應型有機硅、紫外線固化型有機硅及電子束固化型有機硅，但都能夠使用。這其中優(yōu)選加成反應型有機硅。這是因為固化反應容易進行，形成樹脂層時易剝離性的程度良好，耐熱性也高。另外，剝離紙用有機硅在形式上存在溶劑型、乳劑型及無溶劑型，任何類型均可使用。這其中優(yōu)選無溶劑型。這是因為在生產(chǎn)率、安全性、環(huán)境特性方面優(yōu)良。另外，由于在形成樹脂層時的固化時，即在加熱固化、紫外線固化或電子束固化時，不含有產(chǎn)生發(fā)泡的溶劑，因此在樹脂層中難以殘留氣泡。另外，作為剝離紙用有機硅，具體而言作為市場出售的商品名或型號，列舉 KNS-320A、KS-847 (均為信越有機硅公司制)、TPR6700 (GE東芝有機硅公司制)、乙烯基聚硅氧烷“8500”(荒川化學工業(yè)株式會社制)和聚甲基聚硅氧烷“12031”(荒川化學工業(yè)株式會社制)的組合、乙烯基有機硅“11364”(荒川化學工業(yè)株式會社制)和聚甲基聚硅氧烷 “12031”(荒川化學工業(yè)株式會社制)的組合、乙烯基硅“11365”(荒川化學工業(yè)株式會社制)和聚甲基聚硅氧烷“12031”(荒川化學工業(yè)株式會社制)的組合等。KNS-320A、KS-847 及TPR6700為預先含有主劑和交聯(lián)劑的有機硅。另外，形成樹脂層的有機硅樹脂優(yōu)選具有有機硅樹脂層中的成分難以向薄板玻璃基板轉(zhuǎn)移的性質(zhì)，即具有低有機硅轉(zhuǎn)移性。在支承玻璃基板的表面(第一主面)上形成樹脂層的方法沒有特別限定。例如可列舉將薄膜狀的樹脂粘接在支承玻璃基板的表面上的方法。具體而言，可列舉如下方法為了給予與薄膜的表面之間的高粘接力，對支承玻璃基板的表面進行表面改性處理(底涂處理)，從而粘接于支承玻璃基板的第一主面。例如，可例示出提高硅烷偶聯(lián)劑之類的化學上的緊貼力的化學方法(底涂劑處理)、如火焰處理那樣使表面活性基增加的物理方法、如噴砂處理那樣通過使表面的粗糙度增加而增加拉伸的機械性處理方法等。另外，可列舉例如利用公知的方法將作為樹脂層的樹脂組成物涂敷于支承玻璃基板的第一主面上的方法。作為公知的方法，可列舉噴涂法、模涂法、旋涂法、浸涂法、輥涂法、 棒涂法、網(wǎng)版印刷法、凹版涂布法?？蓮倪@些方法中根據(jù)樹脂組成物的種類適宜選擇。例如，在將無溶劑型的剝離紙用有機硅作為樹脂組成物使用的情況下，優(yōu)選模涂法、旋涂法或網(wǎng)版印刷法。另外，將樹脂組成物涂敷于支承玻璃基板的第一主面上的情況下，其涂敷量優(yōu)選為1 100g/m2，更優(yōu)選為5 20g/m2。例如形成由加成反應型有機硅構(gòu)成的樹脂層的情況下，將包括在分子內(nèi)含有直鏈狀的聚二甲基硅氧烷的有機硅(主劑)、交聯(lián)劑及催化劑的樹脂組成物通過上述的網(wǎng)版印刷法等公知的方法涂敷在支承玻璃基板上，然后進行加熱固化。加熱固化條件也根據(jù)催化劑的配合量而不同，例如在相對于主劑及交聯(lián)劑的100質(zhì)量份的總計量配合2質(zhì)量份的鉬系催化劑的情況下，使其在大氣中在50°C 250°C下反應，優(yōu)選在100°C 200°C下反應。另外，該情況下的反應時間為5 60分鐘，優(yōu)選為10 30分鐘。為了形成具有低有機硅轉(zhuǎn)移性的有機硅樹脂層，優(yōu)選以在有機硅樹脂層中不殘留未反應的有機硅成分的方式盡可能進行固化反應。為上述的反應溫度及反應時間時，可在有機硅樹脂層中不殘留未反應的有機硅成分，故而優(yōu)選。在比上述反應時間過長或反應溫度過高的情況下，有機硅樹脂的氧化分解同時產(chǎn)生，生成低分子量的有機硅成分，有機硅轉(zhuǎn)移性可能變高。以在有機硅樹脂層中不殘留未反應的有機硅成分的方式盡可能地進行固化反應，能夠使加熱處理后的剝離性良好，故而也優(yōu)選。另外，例如在使用剝離紙用有機硅制造樹脂層的情況下，將涂敷在支承玻璃基板上的剝離紙用有機硅加熱固化而形成有機硅樹脂層之后，利用使用了本發(fā)明的層疊裝置的本發(fā)明的制造方法，在支承玻璃基板的有機硅樹脂形成面上層疊薄板玻璃基板。通過使剝離紙用有機硅加熱固化，有機硅樹脂固化物與支承玻璃基板的表面化學性結(jié)合。另外，通過錨固效果使有機硅樹脂層與支承玻璃基板的表面結(jié)合。通過這些作用將有機硅樹脂層牢固地固定在支承玻璃基板上。能夠使用這樣的本發(fā)明的層疊玻璃基板制造帶支承體的顯示裝置用面板。該帶支承體的顯示裝置用面板在本發(fā)明的層疊玻璃基板的所述薄板玻璃基板的第二主面上還具有顯示裝置用部件。該帶支承體的顯示裝置用面板能夠通過在本發(fā)明的層疊玻璃基板的所述薄板玻璃基板的第二主面上形成顯示裝置用部件而獲得。通過本發(fā)明的制造方法獲得的本發(fā)明的層疊玻璃基板在薄板玻璃基板的顯示器件形成面上基本不存在阻礙該顯示器件的形成的損傷、污垢等，因此能夠沒有問題地形成顯示裝置用部件。顯示裝置用部件是指以往的IXD、OLED等顯示裝置用玻璃基板在其表面上具有的發(fā)光層、保護層、陣列、彩色濾光片、液晶、由ITO構(gòu)成的透明電極、空穴注入層、空穴輸送層、發(fā)光層、電子輸送層等各種電路圖案等。所述帶支承體的顯示裝置用面板優(yōu)選在本發(fā)明的層疊玻璃基板的薄板玻璃基板的第二主面上形成TFT陣列(以下僅稱為“陣列”)。所述帶支承體的顯示裝置用面板中還包括，例如在薄板玻璃基板的第二主面上形成有陣列的帶支承體的顯示裝置用面板上還貼合了形成有彩色濾光片的其他玻璃基板 (例如0. 3mm以上程度的厚度的玻璃基板)的情況。另外，能夠從這樣的帶支承體的顯示裝置用面板獲得顯示裝置用面板。從帶支承體的顯示裝置用面板剝離固定于薄板玻璃基板和支承玻璃基板上的樹脂層，能夠獲得具有顯示裝置用部件及薄板玻璃基板的顯示裝置用面板。另外，能夠從這樣的顯示裝置用面板獲得顯示裝置。作為顯示裝置可列舉IXD、 OLED0作為LCD可列舉TN型、STN型、FE型、TFT型、MIM型。形成這樣的顯示裝置的方法沒有特別限定，可以與以往公知的方法相同。例如制造TFT-IXD作為顯示裝置時，可以與以往公知的在玻璃基板上形成陣列的工序、形成彩色濾光片的工序、將形成有陣列的玻璃基板和形成有彩色濾光片的玻璃基板貼合的工序(陣列/彩色濾光片貼合工序)等各種工序相同。更具體而言，作為通過這些工序?qū)嵤┑奶幚?，例如可以列舉純水清洗、干燥、成膜、抗蝕劑涂布、曝光、顯影、蝕刻及抗蝕劑去除。進而，作為在實施了陣列/彩色濾光片貼合工序后進行的工序，存在液晶注入工序及在實施了該處理后進行的注入口的密封工序，可列舉通過這些工序?qū)嵤┑奶幚怼Ａ硗?，以制造OLED的情況為例時，作為用于在薄板玻璃基板的第二主面上形成有機EL結(jié)構(gòu)體的工序，包括形成透明電極的工序、蒸鍍空穴注入層/空穴輸送層/發(fā)光層/電子輸送層等的工序、密封工序等各種工序，作為通過這些工序?qū)嵤┑奶幚?，具體而言例如可列舉成膜處理、蒸鍍處理、密封板的粘接處理等。實施例(實施例1)首先對縱720mm、橫600mm、板厚0. 4mm、線膨脹系數(shù)38 X 10—7°C的支承玻璃基板 (旭硝子株式會社制、商品名“AN100” )進行純水清洗、UV清洗而使表面清潔化。接著，作為用于形成樹脂層的樹脂，使用在兩末端具有乙烯基的直鏈狀聚有機硅氧烷(荒川化學工業(yè)株式會社制、商品名“8500”)、及在分子內(nèi)具有氫硅烷基的聚甲基聚硅氧烷(荒川化學工業(yè)株式會社制、商品名“12031”)。并且，將其與鉬系催化劑(荒川化學工業(yè)株式會社制、商品名“CAT12070”)混合而調(diào)制成混合物，以縱715mm、橫595mm的尺寸通過網(wǎng)版印刷機涂敷在上述支承玻璃基板上(涂敷量20g/m2)，在180°C下在大氣中加熱固化30分鐘而形成厚度20 μ m的有機硅樹脂層。在此，以氫硅烷基和乙烯基的摩爾比為1/1 的方式調(diào)整直鏈狀聚有機硅氧烷和聚甲基聚硅氧烷的混合比。鉬系催化劑相對于直鏈狀聚有機硅氧烷和聚甲基聚硅氧烷的總計100質(zhì)量份添加5質(zhì)量份。接著，對縱720mm、橫600mm、板厚0. 3mm、線膨脹系數(shù)38X 10_7°C的薄板玻璃基板 (旭硝子株式會社制、商品名“AN100”)的第一主面(在后面為與有機硅樹脂層接觸一側(cè)的面)進行純水清洗、UV清洗而使之清潔化。并且，使用真空加熱加壓裝置制造層疊玻璃基板。以下表示具體的方法。在此真空加熱加壓裝置如圖1、圖2所示，為將與米卡多特谷諾斯(MIKADO TECHN0S)公司制的真空加熱加壓裝置(MKP-200TV-WH-ST)的“基板吸附單元”相當?shù)牟糠肿兏鼮樘囟ㄐ螤畹牟考蟮恼婵占訜峒訅貉b置。使用圖1、圖2說明利用了真空加熱加壓裝置的具體的層疊玻璃基板的制造方法。在實施例1中使用的真空加熱加壓裝置(層疊裝置10)的靜電吸附元件(121)的形狀為如圖2所示的矩形框狀，寬度(X)為5mm。并且框的外形與薄板玻璃基板的外形大致一致。另外，該靜電吸附元件(巴川制紙公司制)為聚酰亞胺薄膜基體的靜電吸附元件，向薄板玻璃基板的吸附性為50mN/cm2/lkV。此時薄板玻璃基板的上表面面積&和基板吸附單元與所述薄板玻璃基板的接觸面積S1之比即S1Z^的值為0. 03。使用這樣的真空加熱加壓裝置在室內(nèi)(常溫下、常壓下)如下所述地制造層疊玻璃基板。首先，在下平臺(14)的規(guī)定位置以第二主面向上的方式設置上述薄板玻璃基板 04)。接著，使附著有上述靜電吸附元件(121)的上平臺(12)下降，在靜電吸附元件 (121)與薄板玻璃基板04)的第二主面相接時停止下降，對靜電吸附元件(121)施加2kV 的電壓。然后，使吸附靜電吸附元件(121)和薄板玻璃基板04)吸附。接著，以施加電壓的狀態(tài)使上平臺(12)上升20mm。然后，將具有樹脂層02)的支承玻璃基板00)以樹脂層0 成為上側(cè)的方式設置在規(guī)定的位置。接著，再次使上平臺(1 下降，在樹脂層0 和薄板玻璃基板04)的第一主面的間隔為3mm的狀態(tài)下停止。在該狀態(tài)下密封件(16)的下端與下平臺(14)的上表面相接， 在上下的平臺間形成氣密空間(30)。然后，將空間(30)的內(nèi)部抽成真空直到-IOOkPa為止。
接著，到薄板玻璃基板04)和靜電吸附元件(121)接觸為止，使上平臺(12)下降。在該狀態(tài)下，在薄板玻璃基板04)的第二主面上僅與靜電吸附元件(121)相接。另外， 在薄板玻璃基板04)的第二主面上從靜電吸附元件(121)施加300kN/m2的壓力。將該狀態(tài)保持10秒后，切斷施加電壓而破壞真空，使上平臺(12)上升，取出獲得的層疊玻璃基板 (“層疊玻璃基板1”)。在層疊玻璃基板1中，薄板玻璃基板04)及支承玻璃基板OO)經(jīng)由有機硅樹脂層0 不產(chǎn)生氣泡地緊貼，沒有凸狀缺陷，平滑性也良好。另外，在層疊玻璃基板1中，從支承玻璃基板OO)剝離薄板玻璃基板(M)，在暗室中照射高亮度燈而觀察薄板玻璃基板04)的第二主面時，確認為外周部5mm以外的面內(nèi)為完全沒有損傷/污垢等的良好的表面狀態(tài)。(比較例1)取代在實施例1中使用的圖2的形狀的靜電吸附元件(121)，除使用圖4所示的形狀的靜電吸附元件之外進行與實施例1同樣的操作，獲得層疊玻璃基板(“層疊玻璃基板 01”)。此時薄板玻璃基板的上表面面積&和基板吸附單元與所述薄板玻璃基板的接觸面積S1之比即S^S0的值為0. 97。在比較例1中使用的靜電吸附元件如圖4所示，安裝四個縱^5mm、橫355mm的矩形的靜電吸附元件。各間隔均設定為5mm。該靜電吸附元件(巴川制紙公司制)為聚酰亞胺薄膜基體的靜電吸附元件，向無堿玻璃的吸附性為10mN/cm2/lkV。在層疊玻璃基板01中，薄板玻璃基板及支承玻璃基板經(jīng)由有機硅樹脂層不產(chǎn)生氣泡地緊貼，沒有凸狀缺陷，平滑性也良好。然而，在層疊玻璃基板01中，將薄板玻璃基板從支承玻璃基板剝離，在暗室中照射高亮度燈而觀察薄板玻璃基板的第二主面時，確認在面內(nèi)存在薄的擦傷劃痕這樣的損傷。(比較例2)除了將在實施例1中使用的圖2的形狀的靜電吸附元件(121)的寬度從5mm減細至3mm以外，進行與實施例1同樣的操作，嘗試制作層疊玻璃基板02。此時薄板玻璃基板的上表面面積&和基板吸附單元與所述薄板玻璃基板的接觸面積S1之比即S1Z^的值為 0. 018。首先，使上平臺(12)下降，在靜電吸附元件(121)與薄板玻璃基板04)的第二主面相接時停止下降，對靜電吸附元件(121)施加2kV的電壓。然后，使靜電吸附元件(121) 和薄板玻璃基板04)吸附。接著，在施加電壓的狀態(tài)下使上平臺(1 上升20mm時，吸附力不足，薄板玻璃基板04)落下，不能繼續(xù)進行層疊工序。(比較例3)除了將在實施例1中使用的圖2的形狀的靜電吸附元件(121)的寬度從5mm增寬至20mm以外，進行與實施例1同樣的操作，獲得層疊玻璃基板03。此時薄板玻璃基板的上表面面積&和基板吸附單元與所述薄板玻璃基板的接觸面積S1之比即S1ZiSci的值為0. 12。(實施例2)在實施例2中，使用通過實施例1獲得的層疊玻璃基板1制造IXD。準備兩張層疊玻璃基板1，分別在從層疊玻璃基板的端部進入內(nèi)部IOmm的區(qū)域形成器件。一張供于陣列形成工序而在薄板玻璃基板的第二主面上形成陣列。剩余的一張供于彩色濾光片形成工序而在薄板玻璃基板的第二主面上形成彩色濾光片。使形成有陣列的層疊玻璃基板和形成有彩色濾光片的層疊玻璃基板經(jīng)由密封部件貼合后，逐個單面地對各層疊體的端部噴吹壓縮空氣和水的混合流體，然后將各支承玻璃基板分離。在分離后的薄板玻璃基板的表面上沒有發(fā)現(xiàn)與強度降低相關(guān)聯(lián)的損傷。接著，通過化學蝕刻處理使各薄板玻璃基板的厚度為0. 15mm。在化學蝕刻處理后的薄板玻璃基板的表面上沒有發(fā)現(xiàn)產(chǎn)生光學上成為問題的侵蝕孔。之后，切斷薄板玻璃基板，分割成縱51mmX橫38mm的168個單元后，實施液晶注入工序及注入口的密封工序而形成液晶單元。實施在形成的液晶單元上貼附偏光板的工序，接著實施模塊形成工序而獲得LCD。這樣獲得的LCD在特性上不產(chǎn)生問題。(比較例4)在比較例4中，使用通過比較例3獲得的層疊玻璃基板03來制造IXD。準備兩張層疊玻璃基板03，分別在從層疊玻璃基板的端部進入內(nèi)部25mm的區(qū)域形成器件。之后的方法是以與實施例2相同的方法制作液晶單元，但縱51mmX橫38mm的單元只能制成132個，與在實施例2中制成的168個相比，可從相同尺寸的基板制成的LCD 的效率降低20%以上。(實施例3)在實施例3中，使用在實施例1中獲得的層疊玻璃基板1、厚度0. 7mm的無堿玻璃基板(旭硝子株式會社制、商品名“AN-100”)來制造LCD。準備層疊玻璃基板1，將從層疊玻璃基板1的端部進入內(nèi)部IOmm的區(qū)域供于彩色濾光片形成工序，在層疊玻璃基板1的薄板玻璃基板的第二主面上形成彩色濾光片。另一方面，無堿玻璃基板供于陣列形成工序而在一個主面上形成陣列。使形成有彩色濾光片的層疊玻璃基板1、形成有陣列的無堿玻璃基板經(jīng)由密封部件貼合后，對層疊玻璃基板1側(cè)的端部噴吹壓縮空氣和水的混合流體，然后使支承玻璃基板分離。在分離后的薄板玻璃基板表面上沒有發(fā)現(xiàn)與強度降低相關(guān)聯(lián)的損傷。接著，使用激光切割器或劃線切斷法將分離了支承玻璃基板后的基板分割成縱 51mmX橫38mm的168個單元。然后，實施液晶注入工序及注入口的密封工序而形成液晶單元。實施在形成了的液晶單元上貼附偏光板的工序，接著實施模塊形成工序而獲得LCD。 這樣獲得的LCD在特性上沒有問題。(實施例4)在實施例4中，使用通過實施例1獲得的層疊玻璃基板1來制造0LED。對于從層疊玻璃基板1的端部進入內(nèi)部IOmm的區(qū)域，供于形成透明電極的工序、 形成輔助電極的工序、蒸鍍空穴注入層/空穴輸送層/發(fā)光層/電子輸送層等的工序、及將它們密封的工序，在層疊玻璃基板1的薄板玻璃基板上形成有機EL結(jié)構(gòu)體。接著對層疊體的端部噴吹壓縮空氣和水的混合流體，然后將支承玻璃基板分離。在分離后的薄板玻璃基板的表面上沒有發(fā)現(xiàn)與強度降低相關(guān)聯(lián)的損傷。接著，使用激光切割器或劃線切斷法切斷薄板玻璃基板，分割為縱41mmX橫30mm 的288個單元后，組裝形成有有機EL結(jié)構(gòu)體的玻璃基板和相對基板，實施模塊形成工序而制成0LED。這樣獲得的OLED在特性上沒有問題。
參照特定的實施方式對本發(fā)明詳細地進行了說明，但在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下能夠進行各種變更和修正，這對于本領(lǐng)域技術(shù)人員來說是顯而易見的。本申請基于2008年10月23日申請的日本專利申請2008-273081，在此將其內(nèi)容作為參照引入。工業(yè)實用性根據(jù)本發(fā)明，可提供一種能夠簡單且經(jīng)濟地制造層疊玻璃基板的裝置，對于該層疊玻璃基板，能夠抑制因向玻璃基板間混入的氣泡、塵埃等異物導致的玻璃缺陷的產(chǎn)生并不產(chǎn)生侵蝕孔地通過現(xiàn)有的生產(chǎn)線進行處理，在薄板玻璃基板的顯示器件形成面上幾乎不存在阻礙該顯示器件的形成的損傷、污垢等。另外，能夠提供一種使用了該裝置的層疊玻璃基板的制造方法。標號說明
10層疊裝置
12上平臺
121靜電吸附元件
123空間
125通氣孔
13支柱
14下平臺
145減壓孔
16密封件
20支承玻璃基板
22樹脂層
24薄板玻璃基板
30空間
X靜電吸附元件的寬度
權(quán)利要求
1.一種玻璃基板層疊裝置，用于層疊兩張玻璃基板，具備構(gòu)成為吸附支承上方的玻璃基板的上方基板支承單元；構(gòu)成為載置支承下方的玻璃基板的下方基板支承單元；構(gòu)成為使包含所述上方基板支承單元和所述下方基板支承單元之間的空間為氣密狀態(tài)的密封單元；及構(gòu)成為對由所述上方基板支承單元、所述下方基板支承單元及所述密封單元包圍的所述空間內(nèi)進行減壓的減壓單元，所述上方基板支承單元的下表面具有下述(A)、(B)及(C)中的任一種形狀的基板吸附單元(A)矩形框形狀的基板吸附單元；(B)由矩形框和將構(gòu)成該矩形的四條邊中的相對的1組或2組邊分別連接的直線或曲線構(gòu)成的形狀的基板吸附單元；(C)由彼此交叉的多條直線或曲線構(gòu)成的形狀的基板吸附單元。
2.如權(quán)利要求1所述的玻璃基板層疊裝置，還具有構(gòu)成為朝向下方對上方的玻璃基板的上表面噴吹壓縮空氣的壓縮空氣供給單元。
3.如權(quán)利要求1或2所述的玻璃基板層疊裝置，所述基板吸附單元的寬度為20mm以下。
4.如權(quán)利要求1 3中任一項所述的玻璃基板層疊裝置，所述基板吸附單元具有靜電吸附元件或粘接部件。
5.如權(quán)利要求4所述的玻璃基板層疊裝置，所述靜電吸附元件的電極保持用基材為聚酰亞胺類薄膜。
6.一種層疊玻璃基板的制造方法，使用權(quán)利要求1 5中任一項所述的玻璃基板層疊裝置，將薄板玻璃基板及支承玻璃基板這2張玻璃基板層疊，使利用所述上方基板支承單元具有的所述基板吸附單元吸附的所述薄板玻璃基板和載置于所述下方基板支承單元上且在上表面具有樹脂層的所述支承玻璃基板相對，利用所述減壓單元對由所述上方基板支承單元、所述下方基板支承單元及所述密封單元包圍的空間內(nèi)進行減壓，然后，使所述薄板玻璃基板和所述支承玻璃基板接觸，通過加壓使2張玻璃基板隔著所述樹脂層而層疊。
7.如權(quán)利要求6所述的層疊玻璃基板的制造方法，使所述薄板玻璃基板和所述支承玻璃基板接觸后，利用所述壓縮空氣供給單元朝向下方對所述薄板玻璃基板的上表面噴吹壓縮空氣。
8.如權(quán)利要求6或7所述的層疊玻璃基板的制造方法，使所述薄板玻璃基板和所述支承玻璃基板接觸后，在由所述上方基板支承單元、所述下方基板支承單元及所述密封單元包圍的所述空間內(nèi)或其他的加壓裝置內(nèi)進行0. 1 IMPa的范圍的加壓處理。
9.如權(quán)利要求6 8中任一項所述的層疊玻璃基板的制造方法，設所述薄板玻璃基板的上表面面積為Stl、所述基板吸附單元和所述薄板玻璃基板之間的接觸面積為S1時，滿足關(guān)系式0. 02 ^ S1ZX彡0. 1。
10.如權(quán)利要求6 9中任一項所述的層疊玻璃基板的制造方法，所述基板吸附單元具有靜電吸附元件，所述靜電吸附元件相對于所述薄板玻璃基板的吸附力在施加電壓IkV下為40mN/cm2以上。
11.如權(quán)利要求6 10中任一項所述的層疊玻璃基板的制造方法，所述樹脂層由選自丙烯酸類樹脂、聚烯烴類樹脂、聚氨酯類樹脂及有機硅類樹脂中的至少一種構(gòu)成。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種玻璃基板層疊裝置，該玻璃基板層疊裝置用于層疊2張玻璃基板，具備構(gòu)成為吸附支承上方的玻璃基板的上方基板支承單元；構(gòu)成為載置支承下方的玻璃基板的下方基板支承單元；構(gòu)成為使包含所述上方基板支承單元和所述下方基板支承單元之間的空間為氣密狀態(tài)的密封單元；及構(gòu)成為對由所述上方基板支承單元、所述下方基板支承單元及所述密封單元包圍的所述空間內(nèi)進行減壓的減壓單元，所述上方基板支承單元的下表面具有下述(A)、(B)及(C)中的任一種形狀的基板吸附單元(A)矩形框形狀的基板吸附單元；(B)由矩形框和將構(gòu)成該矩形的4條邊中的相對的1組或2組邊分別連接的直線或曲線構(gòu)成的形狀的基板吸附單元；及(C)由彼此交叉的多條直線或曲線構(gòu)成的形狀的基板吸附單元。
文檔編號G02F1/13GK102197005SQ200980142448
公開日2011年9月21日 申請日期2009年10月15日 優(yōu)先權(quán)日2008年10月23日
發(fā)明者伊藤泰則, 近藤聰 申請人:旭硝子株式會社