專利名稱：顯影輥、顯影裝置及圖像形成裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及將在外周面具有凹凸部而向潛像擔持體輸送色粉的顯影 輥、具有顯影輥的顯影裝置及具備顯影裝置的圖像形成裝置的技術領域。
背景技術：
以往，在用非磁性成分色粉對靜電潛像進行顯影的顯影裝置中，在顯 影輥上通過摩擦帶電對色粉賦予電荷。作為該顯影輥，已知在外周面具有 凹凸部、并且凸部的表面是平坦或幾乎平坦的顯影輥(例如，參照專利文
獻l)。在該凹凸部，使色粉在顯影輥上高效地摩擦帶電。如圖7 (a)所 示，顯影輥a是由基件b和通過電鍍等覆蓋該基件b的表面的表面層c 構成。特開2007-121948號公報
一般，未圖示的色粉供給輥和色粉限定構件與顯影輥a抵接。此外， 作為覆蓋色粉母粒子的外添加劑之一 ，使用硬度高的二氧化硅。
另一方面，在基件b的外周面上形成由基件凹部m及基件凸部e形成 的多個基件凹凸部。并且，基件凸部e的前端的基件平坦部f的側邊g 大致形成邊緣。此外，在表面層c的外周面也形成由凹部h及凸部i形成 的多個凹凸部。并且，表面層c的凸部i的頂端的平坦部j的側邊k也大 致形成邊緣。
然而，通過圖像形成，由色粉供給輥、色粉限定構件或色粉粒子使 表面層產生磨耗。此時，由于在表面層c的凸部i的側邊k形成邊緣，所 以使表面層c的此邊緣部局部地磨耗。由此，若圖像形成次數增多，則如 圖7 (b)所示，顯影輥a的凸部i的表面層c圓形彎曲而削減。并且， 由于凸部i的平坦部j的側邊k形成邊緣，所以若凸部i的表面層c彎曲 磨耗，則基件凸部e的基件平坦部f的側邊會提前露出。若基件b的一部 分露出，則顯影輥a的色粉帶電性降低而不能進行良好的顯影。此外，對基件b使用廉價的Fe系材料時存在成為腐蝕的原因的問題。由于該基件 b提前露出而使顯影輥a到了使用壽命，所以顯影輥a的耐久性有改良的 余地。并且，即使當凸部i的側邊k不完全成為邊緣時，對位于側邊k 的部分也由于選擇性的磨耗而產生同樣的問題。

發(fā)明內容
本發(fā)明是鑒于這樣的情況而提出，其目的在于，提供即使形成凹凸部， 也能夠通過使耐久性進一步提高而經過長時間進行良好顯影的顯影輥、顯 影裝置及圖像形成裝置。
用于解決上述課題的第1解決方法，根據本發(fā)明的顯影輥、顯影裝置、 及圖像形成裝置，基件凸部由彎曲凸面所形成。即，在基件凸部中不存在 邊緣部。并且，圖像形成次數增多，凸部的表面層幾乎仿照基件凸部的彎 曲凸面而彎曲磨耗。因此，即使表面層磨耗，也不會提前露出基件的基件 凸部，顯影輥的耐久性有效地提高。由此，能夠經過長時間而良好地維持 顯影輥的色粉帶電性。此外，通過對基件使用廉價的Fe系材料，能夠長 時間來防止基件的腐蝕。
此外，通過將多個基件凹部的彎曲凹面和與這些凹部相鄰接的多個基 件凸部的彎曲凸面形成沿顯影輥的圓周方向及軸方向都接連而彎曲的波 面形狀，能夠進一步有效地提高顯影輥的耐久性。特別是，在有效提高顯 影輥的耐久性上，優(yōu)選將基件的凹凸部的連續(xù)的波面形狀作成正弦波形 狀。
另一方面，根據具有本發(fā)明的顯影輥的顯影裝置，能夠對潛像擔持體 的靜電潛像經過長時間而良好地進行顯影。進而，具備此顯影裝置的圖像 形成裝置可經過長時間而形成穩(wěn)定的良好畫質的圖像。
用于解決所述課題的第2解決方法，根據本發(fā)明的顯影輥、顯影裝置、
及圖像形成裝置，表面層的厚度小于凸部的平坦部的側邊的所述最大偏移 量，并且基件的凹凸部的深度的二分之一的線上的基件凸部的寬度設定為 同線上的基件凹部的寬度以上。由此，能夠隨著此磨耗的發(fā)展來抑制凸部 的平坦部一側的表面層的局部的偏磨耗。因此，能夠使凸部的平坦部一側 的表面層彎曲磨耗成正弦波形狀。其結果，即使圖像形成經過較長時間而使表面層磨耗，也可抑制基件提前露出。由此，顯影輥的耐久性更有效地 提高。其結果，能夠經過長時間而良好地維持顯影輥的色粉帶電性。此外，
通過對基件使用廉價的Fe系材料，可經過長時間而防止基件25a的腐蝕。 并且，由于基于局部的磨耗的對表面層的偏磨耗的抑制而使表面層
的磨耗面積增大，所以可降低表面層的磨耗速度。因此，能夠進一步延遲
基件的邊緣部的露出，可進一步延長顯影輥的使用壽命。
此外，根據具有本發(fā)明的顯影輥的顯影裝置，因為還能夠經過長時
間來抑制基件的露出，所以可對潛像擔持體的靜電潛像經過長時間進行良
好的顯影。
而且，由表面層磨耗而使表面層的磨耗面變得更光滑。但是，由于 表面層是彎曲磨耗成正弦波形狀，所以色粉限定刮板與顯影輥的接觸面積 會減少下去，因此可抑制由于與顯影輥的緊貼而引起的色粉限定刮板的聲 音(咔咔聲)或色粉限定刮板的顫動。
而且，在外添加劑中使用了較硬的二氧化硅的色粉，通過使用相對 于色粉母粒子的二氧化硅覆蓋率是100%以上的色粉，不僅在色粉母粒子 的表面存在很多二氧化硅，而且游離二氧化硅也變多，所以凸部的表面層 的磨耗速度相對變得更快。因此，即使在使用二氧化硅覆蓋率100%以上 的色粉的顯影裝置中使用本發(fā)明的顯影輥，也能夠更有效地提高顯影輥的 耐久性。
另一方面，根據具有本發(fā)明的顯影輥的顯影裝置，能夠經過長時間 而良好地顯影潛像擔持體的靜電潛像。進而，具備該顯影裝置的圖像形成 裝置可經過長時間形成穩(wěn)定的良好畫質的圖像。


是模式地表示本發(fā)明的圖像形成裝置的實施方式的一個示例的 示意圖。是模式地表示圖1中表示的顯影裝置的剖視圖。 [圖3] (a)是模式地表示顯影輥、色粉供給輥和色粉限定部件的圖， (b)是沿著(a)的niB-niB線的局部剖視圖，(c)是只表示(b)的基 件的局部剖視圖。[圖4] (a)是表示顯影輥的凹凸部的尺寸的圖，(b)是說明色粉粒徑
比顯影輥的凹凸部的深度更大時的顯影輥的磨耗的過程的圖。
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上的色粉粒子的舉動的圖，(b)是表示(a)的顯影輥的磨耗狀態(tài)的圖。 (a)是顯影輥的圖3 (a)的局部放大剖視圖，(b)是表示(a) 的顯影輥的磨耗狀態(tài)的示意圖。(a)是說明以往的顯影輥的凸部的徑向的膨出部的部分剖視圖， (b)是說明(a)的凸部的磨耗的局部剖視圖。 (a)是模式地表示顯影輥、色粉供給輥和色粉限定部件的圖， (b)是沿著(a)的IIIB-IIIB線的局部剖視圖，(c)是只表示(b)的基 件的局部剖視圖。 (a)是表示顯影輥的凹凸部的尺寸的圖，(b)是說明色粉粒徑 比顯影輥的凹凸部的深度更大時的顯影輥的磨耗的過程的示意圖。
具體實施例方式
以下，使用附圖對用于實施本發(fā)明的最優(yōu)選的方式進行說明。 圖1是模式地表示本發(fā)明的圖像形成裝置的實施方式的一個示例的 示意圖。
在裝置主體2內具有在圖1中設置為能沿順時針的旋轉方向a旋轉 的潛像擔持體即感光體3。位于該感光體3的外周附近，設置了帶電裝置 4。此外，在感光體3的外周附近，分別從帶電裝置4向感光體3的旋轉 方向a按順序配置了顯影裝置即旋轉顯影單元5、 一次復制裝置6、以及 清理裝置7。旋轉顯影單元5具有黃色用的顯影裝置5Y、洋紅色用的顯影 裝置5M、青色用的顯影裝置5C和黑色用的顯影裝置5K。而且，這些各顯 影裝置5Y、 5M、 5C、 5K由以中心軸為中心、沿旋轉方向P (在圖1中， 逆時針旋轉)能旋轉的轉輪5a可裝卸地支撐。而且，在帶電裝置4和清 理裝置7的下方配置了曝光裝置8。
而且，圖像形成裝置1具有中間復制介質即無端帶狀的中間復制帶9。 該中間復制帶9掛在帶驅動輥10和從動輥11上。對帶驅動輥10傳遞未 圖示的電機的旋轉驅動力。然后，通過帶驅動輥IO，中間復制帶9用一次復制裝置6， 一邊與裝置主體2壓接， 一邊沿旋轉方向Y (在圖1中， 逆時針旋轉)旋轉。
在中間復制帶9的帶驅動輥10 —側設置了二次復制裝置12。此外， 在曝光裝置8的下方，設置了收納復制紙等薄片狀的復制材料(未圖示， 相當于本發(fā)明的復制介質)的復制材料盒13。而且，在從復制材料盒13 向二次復制裝置12的復制材料輸送路徑14上，位于二次復制裝置12的 附近，設置了撿拾輥15和門(gate)輥對16。
在二次復制裝置12的上方設置了定影裝置17。該定影裝置17具有 加熱輥18、與該加熱輥壓接的加壓輥19。而且，在裝置主體2的上部設 置了排復制材料盤20。此外，在定影裝置17和排復制材料盤20之間設 置了排復制材料輥對21。
在這樣構成的本例子的圖像形成裝置1中，在由帶電裝置4帶電為 一樣的感光體3上，通過曝光裝置8的例如激光L等，例如首先形成黃色 的靜電潛像。感光體3的黃色的靜電潛像由通過轉輪5a的旋轉而定位在 圖示的顯影位置上的黃色用的顯影裝置5Y的黃色的色粉來進行顯影。這 樣，在感光體3上形成黃色的色粉像。該黃色色粉像通過一次復制裝置6 被復制到中間復制帶9上。復制后，在感光體3上殘留的色粉由清理裝置 7的清理刮板等掃落而回收。
接著，在與所述同樣由帶電裝置4再帶電為一樣的感光體3上，通 過曝光裝置8，形成洋紅色的靜電潛像。該洋紅色的靜電潛像由定位在顯 影位置的洋紅色用的顯影裝置5M的洋紅色色粉來進行顯影。該感光體3 上的洋紅色色粉像通過一次復制裝置6，與黃色色粉像顏色重疊地復制到 中間復制帶9上。復制后，在感光體3上殘留的色粉由清理裝置7回收。 以后，關于青色和黑色，也同樣，分別在感光體3依次形成色粉像，這些 色粉像依次分別與先復制的色粉像顏色重疊地復制到中間復制帶9上。這 樣，在中間復制帶9上形成彩色的色粉像。同樣，復制后，在感光體3 上殘留的各色粉分別由清理裝置7回收。
復制到中間復制帶9上的彩色的色粉像由二次復制裝置12復制到從 復制材料盒13通過復制材料輸送路徑14輸送來的復制材料上。這時，復 制材料通過門輥對16，與中間復制帶9的彩色的色粉像時刻一致地被輸送到二次復制裝置12上。
在復制材料上定影的色粉像由定影裝置12的加熱輥18和加壓輥19 加熱、加壓定影。這樣形成圖像的復制材料通過復制材料輸送路徑14被 輸送，由排復制材料輥對21排出到排復制材料盤20，并收納。
下面，說明本例子的圖像形成裝置l的特征部分的結構。
本例子的圖像形成裝置1的各色的顯影裝置5Y、 5M、 5C、 5K都具有 完全相同的結構。因此，在以下顯影裝置5Y、 5M、 5C、 5K的說明中，省 略各色的符號Y、 M、 C、 K來進行說明。這時，為了與旋轉顯影單元5區(qū) 別，對顯影裝置賦予符號5'。
圖2是沿著與本例子的實施方式的顯影裝置的縱向正交的方向的剖 視圖。本例子的顯影裝置5'形成為長的容器狀。如圖2所示，該顯影裝 置5'與所述專利文獻1中記載的顯影裝置同樣，在長的機架22上具有 色粉收納部23、色粉供給輥24、顯影輥25、色粉限定構件26。這些色粉 收納部23、色粉供給輥24、顯影輥25、色粉限定構件26沿顯影裝置5' 的縱向(在圖2中與紙面正交的方向)延伸設置。
色粉收納部23由分隔壁27劃分為2個的第1和第2色粉收納部23a、 23b。這時，色粉收納部23在圖2中作為第1和第2色粉收納部23a、 23b 的上部彼此連通的連通部23c而形成。在該狀態(tài)下，通過分隔壁27來抑 制第1和第2色粉收納部23a、 23b之間的色粉28的移動。如果旋轉顯影 單元5的轉輪5a旋轉，而使顯影裝置5'變?yōu)榕c圖2所示的狀態(tài)上下相 反的狀態(tài)，則分別收納在第1和第2色粉收納部23a、 23b中的色粉28 就移動到連通部23c—側。如果轉輪5a進一步旋轉而使顯影裝置5'變 為圖2所示的狀態(tài)，則色粉28就再移動到第1和第2色粉收納部23a、 23b —側。據此，以前收納在第1色粉收納部23a內的色粉28的一部分 移動到第2色粉收納部23b內，此外，以前收納在第2色粉收納部23b 內的色粉28的一部分移動到第1色粉收納部23a內，色粉收納部23內的 色粉28被混合攪拌。該色粉28是用外添加劑覆蓋該色粉母粒子的非磁性 成分色粉。這時，在本發(fā)明中，作為外添加劑，至少使用二氧化硅。
在第1色粉收納部23a內的圖2的下部，以在圖2中能順時針旋轉 的方式設置色粉供給輥24。此外，在機架22的外部，以在圖2中能逆時針旋轉的方式設置了顯影輥25。而且，顯影輥25接近(非接觸)感光體 3而設置。此外，通過機架22的開口 22a，以規(guī)定的抵接壓力與色粉供給 輥24抵接。而且，色粉限定構件26設置在機架22上。該色粉限定構件 26在比顯影輥25和色粉供給輥24的壓印(nip)部(抵接部)更靠顯影 輥25的旋轉方向下游一側的位置上與顯影輥25抵接。據此，色粉限定構 件26限定從色粉供給輥24對顯影輥25供給的色粉28的層厚度。因此， 由色粉限定構件26限定的色粉28由顯影輥25向感光體3輸送。然后， 由顯影輥25輸送的色粉28以非接觸方式將感光體3的靜電潛像進行顯 影，在感光體3上形成各色的色粉像。 實施例1
如圖3 (a)所示，在顯影輥25的外周面，與所述專利文獻1記載的 顯影輥同樣，形成網眼狀的凹凸圖案。在本例子的顯影輥25中，作為該 凹凸圖案，在該外周面的軸向規(guī)定位置上經全周形成溝29。這時，溝29 由接連成相對于顯影輥25的軸向以規(guī)定角(在圖示例中，45°，但是并不 局限于此)傾斜的螺旋狀而形成并且具有規(guī)則性的規(guī)定數量的第1傾斜溝 29a、和接連成與這些第1傾斜溝29a的傾斜相反向而傾斜的螺旋狀的規(guī) 定數量的第2傾斜溝29b構成。這些第1和第2傾斜溝29a、 29b都沿它 們的傾斜方向以規(guī)定間距間隔P并且沿軸向以規(guī)定寬度W形成。另外，第 1和第2傾斜溝29a、 29b的各傾斜角和各間距都能彼此不同。
如圖3 (b)所示，顯影輥25由基件25a、和形成在該基件25a的外 周面上的表面層25b構成?；?5a由5056鋁合金或6063鋁合金等鋁系 或STKM等鐵系等金屬材料的套筒構成。此外，表面層25b由在基件25a 上進行的鍍鎳系或鍍鉻系等的鍍層構成。
如圖3 (c)所示，在顯影輥25的基件25a的外周面，分別通過輥壓 成形加工，形成用于構成第1和第2傾斜溝29a、 2%的第1和第2傾斜 基件溝29a' 、 29b'。該基件的第l和第2傾斜基件溝29a' 、 29b'的
加工方法能采用以往公知的加工方法。因此，省略該加工方法的說明。而 且，在基件25a的外周面形成由第l和第2傾斜基件溝29a' 、 29b'包 圍的規(guī)定數量的島狀的基件凸部30'。另外，在本發(fā)明中，基件凸部30 '是從第1和第2傾斜基件溝29a' 、 29b'的底部看向外方突出而稱為凸部。
第l傾斜基件溝29a'，沿著其傾斜方向形成正弦波形狀的彎曲凹部， 并且與該第l傾斜基件溝29a'相鄰接的基件凸部30'也沿著其傾斜方向 形成正弦波形狀的彎曲凸部。此外，與基件凸部30'相鄰接的第2傾斜 基件溝29b'也沿著其傾斜方向形成正弦波形狀的彎曲凹部。而且，與該 第2傾斜基件溝29b'相鄰接的基件凸部30'也沿著其傾斜方向形成正弦 波形狀的彎曲凸部。如此，由第l和第2傾斜基件溝29a' 、 29b'形成 的基件凹部和與該基件凹部相鄰接的基件凸部30'的彎曲凸面分別沿它 們的傾斜方向接連而形成由彎曲的正弦波形狀構成的波面形狀。
并且，通過在形成了第l和第2傾斜基件溝29a' 、 29b'和基件凸 部30'的基件25a的外周面進行非電解電鍍鎳等電鍍，在基件25a的表 面形成表面層25b。此時，表面層25b的第1和第2傾斜溝29a、 29b分 別按著第1和第2傾斜基件溝29a' 、 29b'的樣子而形成彎曲凹面，并 且表面層25b的凸部30按著基件凸部30'的樣子形成彎曲凸部。然后， 形成第1和第2傾斜溝29a、 29b的彎曲凹面和與這些第1和第2傾斜溝 29a、29b相鄰接的凸部30的彎曲凸面接連彎曲的正弦波形狀的波面形狀。 如此，由第l和第2傾斜溝29a、 29b和凸部30，在顯影輥25的外周面 形成凹凸部(即，凸部及凹部)。
另一方面，本發(fā)明者針對所述的如圖7 (b)所示顯影輥25的表面層 25b以彎曲的磨耗形狀磨耗的現象，進一步一邊進行耐久實驗一邊進行了 研究。另外，用三維測定用激光顯微鏡KeyenceVK-9500測定了該磨耗的 形狀。實驗中使用的圖像形成裝置是SEIKO EPSON公司制造的LP9000C 的打印機。而且，代替該打印機中使用的顯影輥，使用了以下的顯影輥 25。此時，為了將該顯影輥25變?yōu)槟苁褂茫瑢EIKO EPSON公司制造的 LP9000C的打印機進行了改造。耐久實驗的圖像形成條件是LP9000C的打 印機的標準的圖像形成條件。
對顯影輥25的基件25a使用STKM材料，對基件25a加工凹凸部之 前，通過無心(centerless)加工，進行了基件25a的表面精加工。接著， 作為表面層25b，通過非電解鍍鎳-磷(Ni-P)，在基件表面形成了厚度3 ym的鍍層。此時，如圖4(a)所示，顯影輥25的凹凸部是凹凸深度(從溝29a、 29b的底部到凸部.30的上面的高度)為6 m，凹凸間距為100 um，在凹凸深度的1/2線上的凸部30的寬度為60ym，在凹凸深度的1/2 線上的凹部(溝29a、 29b)的寬度為40um。
此外，色粉供給輥24由氨基甲酸乙酯發(fā)泡輥形成，對于顯影輥25， 以切入量1.5mm進行了設置。而且，色粉限定構件26由氨基甲酸乙酯橡 膠構成的刮板構成，對于顯影輥25，以抵接壓力40g/cm進行了設置。
而且，使用的色粉是2種色粉。其中之一的色粉是在用粉碎法制作的 聚酯粒子中適量內添CCA、 WAX、顏料而構成色粉母粒子，并且在色粉母 粒子中外添20nm的小粒徑二氧化硅、40nm的中粒徑二氧化硅、及30nm 二氧化鈦，平均粒徑D50是8.5ym的大粒徑色粉。另一個色粉是在用粉 碎法制作的聚酯粒子中適量內添CCA、 WAX、顏料而構成色粉母粒子，并 且在色粉母粒子中外添20nm的小粒徑二氧化硅、40nm的中粒徑二氧化硅、 lOOnm的大粒徑二氧化硅、和30nm 二氧化鈦，平均粒徑D50是6. 5 u m的 大粒徑色粉。
然后，在LP9000C的標準圖像形成條件下，在A4普通紙，用單色的 圖像占有率5%的文字圖案進行了耐久圖像形成實驗。作為該實驗的結果， 在使用了所述的最初的大粒徑色粉的情況下，在圖4 (b)中以實線所表 示的具有初始輪廓的凸部30的表面層25b的四周的上端側邊部，隨著圖 像形成次數的增加而磨耗成以虛線所示彎曲的輪廓，隨著圖像形成次數進 一步增加，如以單點劃線所示，成為凸部30的表面層25b的平坦面30a 磨耗成進一步彎曲的輪廓的傾向。凸部30的如此彎曲的磨耗輪廓，在使 用了所述第2種大粒徑色粉的情況下，也成為磨耗成同樣的彎曲的輪廓的 傾向。
若對此磨耗輪廓進行細致的研究，則知道圖4 (b)中所表示的彎曲 的磨耗輪廓，是色粉粒徑(D50粒徑；體積50%的平均粒徑)在比顯影輥 25的凹凸深度大(色粉粒徑>顯影輥25的凹凸深度)時產生的傾向。
認為其理由如下所示。在圖5 (a)中，伴隨著顯影輥25的旋轉，通 過與顯影輥25分別壓接的色粉供給輥24和色粉限定構件26，位于凸部 30的平坦面30a的色粉粒子分別移動到第1和第2傾斜溝29a、 29b內。 此時，由于色粉粒子的平均粒徑比凹凸部的深度大，所以移動到第l和第2傾斜溝29a、 29b內的色粉28的粒子幾乎成為一層。進而，伴隨顯影輥 25的旋轉，位于第1和第2傾斜溝29a、 29b的色粉粒子移動到凸部30 的平坦面30a。此外，位于凸部30的平坦面30a的色粉粒子移動到第1 和第2傾斜溝29a、 29b。此時，色粉粒子會對凸部30的表面層25b的四 周的上端側邊的邊緣部施加相對較大的負重。由此，如圖5 (b)所示， 由于色粉粒子的表面的比較硬的外添加劑，表面層25b的表面及四周的上 端側邊部經過長時間漸漸被磨耗成彎曲狀。
另外，圖5 (a)及(b)與圖3 (b)同樣，是沿著第1和第2傾斜溝 29a、 29b的傾斜方向的剖視圖。因此，這些顯影輥25的部分截面與顯影 輥25的旋轉方向不同。因此，位于第l傾斜溝29a的色粉粒子移動到凸 部30的平坦面30a上，然后，平坦面30a上的色粉移動到與該平坦面30a 相鄰接的第l和第2傾斜溝29a、 29b雙方。此外，位于第2傾斜溝29a 的色粉粒子移動到凸部30的平坦面30a上，然后，平坦面30a上的色粉 移動到與該平坦面30a相鄰接的第1和第2傾斜溝29a、 29b雙方。 接著，針對本發(fā)明的顯影輥25的具體例進行說明。 對顯影輥25的基件25a使用STKM材料，在對基件25a加工凹凸部之 前，通過無心加工進行了基件25a的表面精加工。接著，如圖6 (a)所 示由輥壓成形加工在表面上形成了基件凹凸深度(從基件凹部的底到基件 凸部的上面的高度)d'為8ym、基件凹凸間距p為150um的正弦波形
狀的彎曲形狀的凹凸部。
作為表面層25b，通過非電解電鍍鎳-磷(Ni-P)，在基件表面形成了 厚度為3um的電鍍層。此時的表面層25b的凹凸深度(從凹部的底到凸 部30的上面的高度)d是8um。
然后，使用該顯影輥25，使用所述的LP9000C的打印機來進行了與 所述相同的耐久實驗。此時，使用的色粉是所述的平均粒徑D50是8.5 ym的大粒徑色粉。此時，色粉的平均粒徑D50是8.5um，比表面層25b 的凹凸深度d的8um大。因此，表面層25b的磨耗成為與圖5 (b)中表
示的示例同樣彎曲的磨耗輪廓。
此時，表面層25b的凹凸部及基件25a的凹凸部是正弦波形狀的彎曲 形狀而沒有側邊的邊緣，所以通過經過長時間的圖像形成，表面層25b幾乎沿著此正弦波形狀的彎曲形狀而彎曲磨耗。因此，基件25a的凸部 30'不提前露出。并且，若圖像形成經過更長時間而進行，則如圖6 (b) 所示，基件25a的凸部30'的頂部附近的表面層25b相對較大地磨耗而 使凸部30'的頂部露出。由此，顯影輥25到了使用壽命。此時，第l和 第2傾斜溝29a、 29b的表面層25b的磨耗小于凸部30'的頂部的表面層 25b的磨耗。
如此，根據此示例的顯影輥25，由彎曲凸面形成基件凸部30'，并且 由彎曲凸面形成表面層25b的凸部30。 g卩，在基件凸部30'上不存在邊 緣部。并且，隨著圖像形成次數增多，凸部30的表面層25b幾乎仿照基 件凸部30'的彎曲凸面而彎曲磨耗。因此，即使表面層25b磨耗，基件 25a的基件凸部30'也不提前露出。由此，更有效地提高顯影輥25的耐 久性。其結果，可經過長時間來良好地維持顯影輥25的色粉帶電性。此 外，通過對基件25a使用廉價的Fe系材料，可經過長時間來防止基件25a 的腐蝕。
此外，通過將多個基件凹部(第l和第2傾斜基件溝29a' 、 29b') 的彎曲凹面和與這些凹部相鄰接的多個基件凸部30'的彎曲凸部形成為 在顯影輥25的圓周方向及軸向上都接連而彎曲的波面形狀，可進一步有 效地提高顯影輥25的耐久性。特別是，在有效地提高顯影輥的耐久性上 優(yōu)選將基件25a的凹凸部的波面形狀形成為正弦波形狀。
根據具有此顯影輥25的顯影裝置5'，可經過長時間良好地顯影感 光器3的靜電潛像。此外，色粉28的平均粒徑(D50的平均粒徑)通過 使用比顯影輥25的凹凸部的深度大的色粉28，能夠使凸部30的表面層 25b更有效地彎曲磨耗。由此，可經過更長時間來抑制基件25a的露出。
另外，在本發(fā)明中，第2傾斜溝29b的軸方向的間隔和數量沒必要都 與第l傾斜溝29a的這些間隔和數量一定相同，也可以不同。此外，第l 和第2傾斜溝29a、 29b的數量能設置為1以上的任意的數量。
此外，當在外添加劑中使用了相對較硬的二氧化硅的色粉、且使用了 相對于色粉母粒子的二氧化硅覆蓋率為100%以上的色粉時，在色粉母粒 子的表面不僅存在很多二氧化硅，而且游離二氧化硅也變多，所以凸部 30的表面層25b的磨耗速度變得更快。雖然這樣的色粉大多使用于在非磁性成分非接觸顯影中需要流動性的情況，但在使用二氧化硅覆蓋率
100%以上的色粉的顯影裝置5'中，即便使用此示例的顯影輥25，也可更 有效地提高顯影輥25的耐久性。
另一方面，具有該顯影裝置5'的圖像形成裝置l可經過長時間而形 成穩(wěn)定的良好畫質的圖像。
進而，雖然所述的示例適用于具有旋轉顯影單元5的圖像形成裝置1， 但本發(fā)明不限定于此。本發(fā)明，例如也可適用于圖像形成單元串聯(lián)配置的 圖像形成裝置、4周期的圖像形成裝置、單色圖像形成裝置、或從潛像擔 持體向復制材料(相當于本發(fā)明的復制介質)直接復制色粉像的圖像形成 裝置(即不具有中間復制介質的圖像形成裝置)等、包含設置至少具有凹 凸部的顯影輥的顯影裝置的任何樣的圖像形成裝置。主要是，本發(fā)明在技 術方案所記載的事項的范圍內可適用于任何樣的圖像形成裝置。
第2實施例
如圖8 (a)所示，在顯影輥25的外周面，形成與所述專利文獻l中 記載的顯影輥相同的網眼狀的凹凸圖案。在此示例的顯影輥25中作為該 凹凸圖案，在其外周面的軸向規(guī)定位置上經全周形成溝29。此時，溝29 由接連成相對于顯影輥25的軸向以規(guī)定角(圖示例中是45。，但不限于 此)傾斜的螺旋狀而形成并且具有規(guī)則性的規(guī)定數量的第1傾斜溝29a、 和接連成與這些第1傾斜溝29a的傾斜相反向而傾斜的螺旋狀的規(guī)定數 量的第2傾斜溝29b構成。這些第1及第2傾斜溝29a、 29b，都沿它們 的傾斜方向以規(guī)定的間距間隔P并且沿軸向規(guī)定寬度W形成。并且，第l 及第2傾斜溝29a、 29b的各傾斜角及各間距都可彼此不同。
如圖8 (b)所示，顯影輥25由基件25a、和形成于該基件25a外周 面的表面層25b構成?；?5a由5056鋁合金或6063鋁合金等的鋁系或 STKM等的鐵系等的金屬材料的套筒構成。并且，表面層25b是由在基件 25a上實施了鍍鎳系或鍍鉻系等的鍍層構成。
如圖8 (c)所示，在顯影輥25的基件25a的外周面，通過用于構成 第1及第2傾斜溝29a、 29b的第1及第2傾斜基件溝29a' 、 29b'分別 通過輥壓成形加工而形成。該基件的第1及第2傾斜基件溝29a' 、 2% '的加工方法可采用以往公知的加工方法。因此，省略該加工方法的說明。并且，在基件25a的外周面形成了由第l及第2傾斜基件溝29a' 、 29b '所包圍的規(guī)定數量的島狀的基件凸部30'。并且，在本發(fā)明中，基件 凸部30'從第l及第2傾斜基件溝29a' 、29b'的底部看是向外突出的， 所以稱為凸部。
如圖8 (c)和圖9 (a)所示，基件凸部30'的頂部形成于基件平坦 部30a'。各基件凸部30'的基件平坦部30a'的形狀為當第1和第2 傾斜基件溝29a' 、29b'的傾斜角為45。、并且將它們的間距p設定為彼 此相同時，呈現正方形，當第1和第2傾斜基件溝29a' 、 29b'的傾斜 角為45°以外的角度、并且將它們的間距p設定為彼此相同時，呈現菱形。 此外，各基件凸部30'的基件平坦部30a'的形狀為當第1和第2傾斜 基件溝29a' 、 29b'的傾斜角為45° 、并且將它們的間距p設定為彼此不 同時，呈現長方形，當第l和第2傾斜基件溝29a' 、 29b'的傾斜角為 45度以外的角度、并且將它們的間距p設定為彼此不同時，呈現平行四 邊形。而且，基件平坦部30a'無論是哪種四邊形形狀，基件凸部30'的 基件平坦部30a' —側將其四周的側壁傾斜，而形成截頭四棱錐形狀。此 時，基件平坦部30 a'的四邊的側邊都形成邊緣部30b'。
第1和第2傾斜基件溝29a' 、 29b'，分別形成沿著它們的傾斜方 向的正弦波形狀凹面的彎曲凹面。如圖9 (b)所示，基件25a的凹凸部 的深度d (凸部30'的高度)的二分之一的線S上的基件凸部30'的寬 度L'設定為同線S上的第1和第2傾斜基件溝29a' 、 29b'(即，基件 凹部)的寬度L2以上(L,^L2)。而且，基件凸部30'的基件平坦部30a '，位于在圖9 (b)中接連成第1和第2傾斜基件溝29a' 、 29b'的正 弦波形狀的彎曲凹部、并且以間距P形成深度d的假設的正弦波形狀面 30c'(相當于本發(fā)明的波面形狀以及正弦波形狀凸面)時的該正弦波形 狀面30c'的頂部。并且，基件凸部30'的截頭四棱錐形狀的四周的側壁， 分別第1和第2傾斜基件溝29a' 、 29b'的正弦波形狀的彎曲凹部的四 周的側壁接連而形成。此時，基件凸部30'的截頭四棱錐形狀的四周的 側壁與正弦波形狀的四周的側壁接連的點是正弦波形狀面30c'的拐點 (與線5的交點)。
通過對第l和第2傾斜基件溝29a' 、 29b'、形成基件凸部30'的基件25a的外周面實施鍍鎳系非電解電鍍等的電鍍，在基件25a的表面形 成表面層25b。在該表面層25b形成與第1和第2傾斜基件溝29a' 、 29b '、基件凸部30'分別相同形狀的第1和第2傾斜溝29a、 29b、凸部30。 在凸部30的頂部形成四邊形的平坦部30a，即使基件平坦部30a'是任何 四邊形形狀，該平坦部30a的四邊的側邊也都形成為邊緣部30b。此外， 在基件25a形成表面層25b的狀態(tài)下，凸部30的平坦部30a—側，是其
四周的側壁傾斜而形成截頭四棱錐形狀。并且，截頭四棱錐形狀的四周的 側壁，分別與第1和第2傾斜溝29a、 29b的正弦波形狀的四周的側壁相
接連而形成。
而且，在該示例的顯影輥25中，表面層25b的厚度t，設定為大于 圖9 (b)中表示的平坦部30a的四邊的側邊的邊緣部30 b'與正弦波形 狀面30c'的最大偏移量x (x〈t)。作為最大偏移量可以是從邊緣部30b '向假設正弦波形狀面30c'垂下垂線，并設為該線部分的長度。此外， 當從邊緣部30 b'不明確時或在邊緣部30 b'形成R形狀時連結假設正 弦波形狀的各點的垂線與凸部30的外形交叉的點的線部分的長度之中， 只要將最大的長度作為最大偏移量來采用即可。
另一方面，本發(fā)明者，針對所述的如圖7 (b)所示顯影輥25b的表 面層25b以彎曲的磨耗形狀進行磨耗的現象，進一步通過進行耐久實驗而 進行了研究。并且，該磨耗的形狀，通過三維測定用激光顯微鏡即Keyence VK-9500進行了測定。實驗中所使用的圖像形成裝置，是SEIKO EPSON公 司制造的LP9000C的打印機。而且，代替該打印機中使用的顯影輥，使用 了以下的顯影輥25。此時，為了將該顯影輥25變?yōu)槟苁褂?，對SEIKO EPSON 公司制造的LP9000C的打印機進行了改造。耐久實驗的圖像形成條件是 LP9000C的打印機的標準的圖像形成條件。
對顯影輥25的基件25a使用STKM材料，在對基件25a加工凹凸部 之前，通過無心加工，進行了基件25a的表面精加工。接著，通過輥壓成 形加工，形成了第1和第2傾斜基件溝29a' 、 29b'。接著，作為表面 層25b，通過非電解電鍍鎳-磷(Ni-P)，在基件表面形成了厚度3um的 鍍層。此時，如圖4 (a)所示，顯影輥25的凹凸部是凹凸深度(從溝29a、 29b的底部到凸部30的上面的高度)為6um，凹凸間距為100"m，在凹凸深度的1/2線上的凸部30的寬度為60um，在凹凸深度的1/2線上的 凹部(溝29a、 29b)的寬度為40um。
此外，色粉供給輥24由氨基甲酸乙酯發(fā)泡輥形成，相對于顯影輥25， 以切入量1.5mm進行了設置。而且，色粉限定構件26由氨基甲酸乙酯橡 膠構成的刮板構成，且相對于顯影輥25，以抵接壓力40g/cm進行了設置。
而且，使用的色粉是2種色粉。其中之一的色粉是在用粉碎法制作 的聚酯粒子中適量內添CCA、 WAX、顏料而構成色粉母粒子，并且在該色 粉母粒子中外添20nm的小粒徑二氧化硅、40nm的中粒徑二氧化硅、以及 30nm二氧化鈦，平均粒徑D50是8.5um大粒徑色粉。另一個色粉是在用 粉碎法制作的聚酯粒子中適量內添CCA、 WAX、顏料來構成色粉母粒子， 并且在該色粉母粒子中外添20nm的小粒徑二氧化硅、40nm的中粒徑二氧 化硅、100nm的大粒徑二氧化硅、及30nm二氧化鈦，平均粒徑D50是6. 5 um的大粒徑色粉。
然后，在LP9000C的標準圖像形成條件下，在A4普通紙上，用單色 的中間色調25%進行了耐久圖像形成實驗。該實驗的結果，當使用了所述 最初的大粒徑色粉時，圖4 (b)中以實線所表示的具有初始輪廓的凸部 30的表面層25b的四周的上端側邊部會成為如下傾向，即隨著圖像形成 次數的增加如虛線所示磨耗成彎曲的輪廓，并隨著圖像形成次數的進一步 增加如點劃線所示凸部30的表面層25b的平坦面30a磨耗成進一步彎曲 的輪廓。凸部30的如此彎曲的磨耗輪廓，即使在使用了所述第2的大粒 徑色粉時，也成為磨耗成同樣的彎曲的輪廓的傾向。
若針對該磨耗輪廓進行細致的研究，則可知圖4 (b)中所表示的彎 曲的磨耗輪廓是色粉粒徑(D50粒徑；體積50%的平均粒徑)大于顯影輥 25的凹凸深度(色粉粒徑〉顯影輥25的凹凸深度)時產生的傾向。
認為其理由如下所示。在圖5 (a)中，伴隨著顯影輥25的旋轉，通 過與顯影輥25分別壓接的色粉供給輥24和色粉限定構件26，位于凸部 30的平坦面30a的色粉粒子分別移動到第1和第2傾斜溝29a、 29b內。 此時，由于色粉粒子的平均粒徑大于凹凸部隊深度，所以移動到第l和第 2傾斜溝29a、 29b的色粉28的粒子幾乎成為一層。進而，伴隨顯影輥25 的旋轉，位于第1和第2傾斜溝29a、 2%的色粉粒子移動到凸部30的平坦面30a。并且，位于凸部30的平坦面30a的色粉粒子移動到第1和第2 傾斜溝29a、 29b。此時，色粉粒子會對凸部30的表面層25b的四周的上 端側邊的邊緣部施加相對較大的負重。為此，如圖5 (b)所示，由于色 粉粒子的表面的比較硬的外添加劑，表面層25b的表面及四周的上端側邊 部經過長時間而漸漸被磨耗成彎曲狀。
另外，圖5 (a)和(b)與圖8 (b)同樣，是沿著第1和第2傾斜溝 29a、 29b的傾斜方向的剖視圖。因此，這些顯影輥25的部分截面與顯影 輥25的旋轉方向不同。因此，位于第l傾斜溝29a的色粉粒子移動到凸 部30的平坦面30a上，此后，平坦面30a上的色粉移動到與該平坦面30a 相鄰接的第1和第2傾斜溝29a、 2%雙方。此外，位于第2傾斜溝29b 的色粉粒子移動到凸部30的平坦面30a上，此后，平坦部30a上的色粉 移動到與該平坦面30a相鄰接的第l和第2傾斜溝29a、 29b雙方。對于
其他示例也同樣。
接著，針對本發(fā)明的顯影輥25的具體例進行說明。 對顯影輥25的基件25a使用STKM材料，在對基件25a加工凹凸部之 前，通過無心加工，進行了基件25a的表面精加工。接著，如圖9 (b) 所示通過輥壓成形加工在表面形成凹凸部。此時，將基件凹部29a' 、 2% '(基件凸部30'的基件凹部的底部側)形成為正弦波形狀。此外，使 平坦部30a'位于形成與這些基件凹部29a' 、29b'的正弦波形狀接連的 正弦波形狀面30c'時的此正弦波形狀面30c'的頂部，并將基件凸部30 '的平坦部30 a'側形成為截頭四棱錐形狀。然后，分別與正弦波形狀 的彎曲凹部29a' 、 29b'的四周的側壁接連而形成了截頭四棱錐形狀的 四周的側壁。此時，基件凸部30'的截頭四棱錐形狀的四周的側壁與正 弦波形狀的四周的側壁接連的點是正弦波形狀面30 c'的拐點。并且， 這樣形成的凹凸部，基件凹凸深度(從基件凹部的底到基件凸部的上面的 高度)d為8um，基件凹凸間距p為150ym。此外，所述最大偏移量x 是2um。
作為表面層25b，通過非電解電鍍鎳-磷(Ni-P)，在基件表面形成了 厚度t為3um的鍍層(即x〈t)。此時的表面層25b的凹凸深度(從凹部 的底到凸部30的上面的高度)也是8ym。然后，采用該顯影輥25，使用所述LP9000C打印機來進行與上述相 同的耐久實驗。此時，所使用的色粉是上述的平均粒徑D50是8.5um的 大粒徑色粉。此情況下，色粉的平均粒徑D50是8.5um，大于表面層25b 的凹凸深度d的8um。因此，表面層25b的磨耗成為與圖4 (b)中表示 的示例相同的彎曲的磨耗輪廓。此時，由于在凸部的表面層25b的平坦部 30a的四周的側邊部形成了邊緣部，所以平坦部30a的四周的側邊部比所 述的磨耗輪廓更圓地彎曲磨耗。
此時，表面層25b的平坦部30a的邊緣部局部地偏磨耗。但是，由于 表面層25b的厚度t小于平坦部30a的四周的側邊部的邊緣部的所述的偏 移量x，所以基件25a的基件凸部30'的邊緣部不會提前露出。并且，由 于基件25a的凹凸部的深度d(凸部30'的高度)的二分之一的線S上的 基件凸部30'的寬度L,設定為同線S上的第l及第2傾斜基件溝29a'、 29b'(即，基件凹部)的寬度"以上(L,^ L2)，所以若圖像形成經過 長時間，則表面層25b逐漸仿照正弦波形狀面30 c'而彎曲磨耗成大致 正弦波形狀。其結果，凸部30的頂部(相當于平坦部30a)或凸部30的 傾斜的側壁等的凸部30整體，分散地接受來自色粉供給輥24、色粉限定 刮板26、色粉粒子的負重，從而抑制表面層25b的局部的偏磨耗。并且， 通過抑制基于局部的磨耗的偏磨耗，表面層25b的磨耗面積增大，所以表 面層25b的磨耗速度降低。因此，基件25a的邊緣部的露出進一步延遲。 然后，如圖9 (c)所示，基件25a的凸部30'的頂部附近的表面層25b 相對較大地磨耗而會露出凸部30'的頂部。由此，顯影輥25到了使用壽 命。此時，第1以及第2傾斜溝29a、 2%的表面層25b的磨耗與凸部30 '的頂部的表面層25b的磨耗相比更少。 -
如此，根據此示例的顯影輥25，表面層25b的厚度t大于平坦部30a 的四周的側邊部的邊緣部的所述偏移量x，并且由于基件25a的凹凸部的 深度d (凸部30'的高度)的二分之一的線S上的基件凸部30'的寬度 L,設定為同線S上的第l及第2傾斜基件溝29a' 、 29b'(即，基件凹 部)的寬度L2以上，所以可隨著此磨耗的進展來抑制凸部30的平坦部30a 側的表面層25b的局部偏磨耗。因此，能夠使凸部30的平坦部30a側的 表面層25b彎曲磨耗成正弦波形狀。其結果，圖像形成經過比較長時間即使表面層25b磨耗，也可抑制基件25a的提前露出。由此，顯影輥25的 耐久性更有效地提高。其結果，能夠經過長時間良好地維持顯影輥25的 色粉帶電性。此外，通過對基件25a使用廉價的Fe系材料，可經過長時 間防止基件25a的腐蝕。
而且，通過基于局部的磨耗抑制表面層25b的偏磨耗，表面層25b的 磨耗面積增大，所以能夠降低表面層25b的磨耗速度。因此，可進一步推 遲基件25a的邊緣部的露出，可進一步延長顯影輥25的使用壽命。
而且，通過表面層25b磨耗，表面層25b的磨耗面變得更光滑。但是， 由于表面層25b彎曲磨耗成正弦波形狀，所以色粉限定刮板26與顯影輥 25的接觸面積減少下去，因此可抑制由于與顯影輥25的貼緊而引起的色 粉限定刮板26的聲音(咔咔聲)或色粉限定刮板26的振顫。
根據具有該顯影輥25的顯影裝置5'，可經過長時間良好地顯影感 光體3的靜電潛像。由此，可經過更長時間抑制基件25a的露出。此外， 通過使用平均粒徑(D50的平均粒徑)大于顯影輥25的凹凸部的深度的 色粉28，提高色粉粒子移動時的色粉粒子的轉動性。因此，能夠對凸部 30的表面層25b更有效地彎曲磨耗。由此，可經過更長時間抑制基件25a 的露出。另一方面，具有該顯影裝置5'的圖像形成裝置l可經過長時間 形成穩(wěn)定的濃度的良好畫質的圖像。
另外，在本發(fā)明中，第2傾斜溝29b的軸向的間隔和數量沒必要與 第1傾斜溝29a的該間隔和數量一定相同，也可以不同。此外，第1和第 2傾斜溝29a、 2%的數量能設置為1以上的任意的數量。
此外，當在外添加劑中使用了比較硬的二氧化硅的色粉、且使用了 相對于色粉母粒子的二氧化硅覆蓋率為100%以上的色粉時，因為在色粉 母粒子的表面存在很多的二氧化硅，所以凸部30的表面層25b的磨耗速 度變得更快。因此，在使用二氧化硅覆蓋率為100%以上的色粉的顯影裝 置5'中，即使使用本例子的顯影輥25，也能更有效地提高顯影輥25的 耐久性。
而且，由第1和第2傾斜基件溝29a' 、 29b'構成的基件凹部沒必 要--定形成正弦波形狀?；疾磕芤云渌鼜澢嫘纬桑苄纬删哂衅教?面的底部的反截頭四棱錐形狀。這時，在所述的拐點(基件凹凸部的深度的大致1/2的位置)，以與基件凸部的截頭四棱錐形狀接連的方式形成。
而且，在所述的例子中，在具有旋轉顯影單元5的圖像形成裝置1中 進行了應用，但是本發(fā)明并不局限于此。本發(fā)明例如也能夠在圖像形成單 元串聯(lián)配置的圖像形成裝置、4周期的圖像形成裝置、單色的圖像形成裝 置、或者將色粉像從潛像擔持體直接向復制材料(相當于本發(fā)明的復制介 質)復制的圖像形成裝置(即不具有中間復制介質的圖像形成裝置)等包 含設置至少具有凹凸部的顯影輥的顯影裝置的圖像形成裝置中應用。本發(fā) 明在技術方案記載的范圍內能在任意的圖像形成裝置中應用。
權利要求
1.一種顯影輥，至少具有基件，其具有在外周面的規(guī)定區(qū)域形成的基件凹部和基件凸部；和表面層，其形成在該基件的外周面，并且在外周面具有與所述基件凹部和所述基件凸部分別對應的凹部和凸部，所述基件凸部由彎曲凸面所形成。
2. 根據權利要求1所述的顯影輥，其特征在于，所述基件凹部由彎曲凹面所形成，所述基件凹部的彎曲凹面和與該基件凹部鄰接的所述基件凸部的彎 曲凸面連續(xù)連接，所述凹部的彎曲凹面和與該凹部鄰接的所述凸部的彎曲凸面形成為 連續(xù)彎曲的波面形狀。
3. 根據權利要求2所述的顯影輥，其特征在于， 所述波面形狀是正弦波形狀。
4. 根據權利要求1 3中的任意一項所述的顯影輥，其特征在于， 所述表面層的所述凸部由彎曲凸面所形成，所述表面層的所述凹部由彎曲凹面所形成。
5. 根據權利要求1 4中的任意一項所述的顯影輥，其特征在于， 所述表面層通過非電解電鍍來形成。
6. 根據權利要求1 5中的任意一項所述的顯影輥，其特征在于， 所述基件凹部是由螺旋狀地連續(xù)的溝槽所形成。
7. —種顯影裝置，至少具有 顯影輥，其將色粉向潛像擔持體輸送； 色粉供給輥，其與該顯影輥抵接，供給所述色粉；和 色粉限定構件，其與所述顯影輥抵接，限定向所述潛像擔持體輸送的色粉的量，所述顯影輥是權利要求1 6中的任意一項所述的顯影輥， 所述色粉的平均粒徑比所述顯影輥的所述凹部的深度更大。
8. 根據權利要求7的所述的顯影裝置，其特征在于，所述色粉是由外添加劑覆蓋了色粉母粒子的非磁性成分色粉，作為所 述外添加劑至少使用二氧化硅，并且此二氧化硅的覆蓋率是100%以上。
9. 一種圖像形成裝置，至少具有 潛像擔持體，其至少形成靜電潛像；顯影裝置，其用非接觸顯影通過色粉將所述靜電潛像進行顯影，而在所述潛像擔持體上形成色粉像；和復制裝置，其將所述潛像擔持體的色粉像復制到復制介質上，所述顯影裝置是權利要求7或8所述的顯影裝置。
10. —種顯影輥，至少具有基件，其具有在外周面的規(guī)定區(qū)域形成的基件凹部和基件凸部；和表面層，其形成在該基件的外周面，并且在外周面具有與所述基件凹 部和所述基件凸部分別對應的凹部和凸部，所述基件凸部的頂部形成于基件平坦部，并且該基件平坦部形成為位 于假設的波面形狀的頂部，所述假設的波面形狀是指在以連結了相鄰的凸 部的中心的線所截斷的截面上，將凸部與凹部進行了連結彎曲，所述表面層的厚度設定為大于所述基件凸部的來自所述假設的波面 形狀的最大偏移量，與所述基件凹凸部的深度的二分之一的線相對應的所述基件凸部的 寬度設定為大于與所述線對應的所述基件凹部的寬度。
11. 一種顯影輥，至少具有基件，其具有在外周面的規(guī)定區(qū)域形成的基件凹部和基件凸部；和表面層，其形成在該基件的外周面，并且在外周面具有與所述基件凹 部和所述基件凸部分別對應的凹部和凸部，在以連結了與所述凹凸相鄰的凸部的中心的線所截斷的截面上，對由 凹凸深度和凹凸間距所規(guī)定的假設的正弦波形狀進行擬定，所述表面層的厚度設定為大于所述基件凸部的來自所述假設的正弦 波形狀的最大偏移量，與所述基件凹凸部的深度的二分之一的線相對應的所述基件凸部的 寬度設定為大于與所述線對應的所述基件凹部的寬度。
12. 根據權利要求10或11中所述的顯影輥，其特征在于，所述表面層通過非電解電鍍來形成。
13. 根據權利要求10 12中的任意一項所述的顯影輥，其特征在于， 所述基件凹部是由螺旋狀地連續(xù)的溝槽所形成。
14. 根據權利要求10 13中的任意一項所述的顯影輥，其特征在于， 所述基件凹凸是由輥壓成形加工而形成。
15. —種顯影裝置，至少具有 顯影輥，其將色粉向潛像擔持體輸送； 色粉供給輥，其與所述顯影輥抵接，供給所述色粉； 色粉限定構件，其與所述顯影輥抵接，限定向所述潛像擔持體輸送的色粉的量；所述顯影輥是權利要求1 5中的任意一項所述的顯影輥， 所述色粉的平均粒徑比所述顯影輥的所述凹部的深度更大。
16. 根據權利要求15所述的顯影裝置，其特征在于， 所述色粉是由外添加劑覆蓋了色粉母粒子的非磁性成分色粉，作為所述外添加劑至少使用二氧化硅，并且此二氧化硅的覆蓋率是100%以上。
17. —種圖像形成裝置，至少具有潛像擔持體，其至少形成靜電潛像；顯影裝置，其用非接觸顯影通過色粉將所述靜電潛像進行顯影，而在所述潛像擔持體上形成色粉像；和復制裝置，其將所述潛像擔持體的色粉像復制到復制介質上， 所述顯影裝置是權利要求15或16所述的顯影裝置。
全文摘要
本發(fā)明提供一種顯影輥，即使形成凹凸部，也可通過進一步提高顯影輥的耐久性而經過長時間進行良好的顯影。顯影輥(25)至少具有具有在外周面的規(guī)定區(qū)域所形成的基件凹部(第1以及第2傾斜基件溝(29a′、29b′))和基件凸部(30′)的基件(25a)；和在該基件25a的外周面形成的、并且在外周面具有與基件凹部和基件凸部相對應的凹部(第1以及第2傾斜溝(29a、29b))以及凸部(30)的表面層(25b)，基件凸部30′由彎曲凸面形成，并且凸部(30)的表面層(25b)由彎曲凸面形成。
文檔編號G03G15/08GK101515144SQ20091000493
公開日2009年8月26日 申請日期2009年2月20日 優(yōu)先權日2008年2月20日
發(fā)明者前田將宏, 山田陽一, 福元貴智, 鈴木淳一 申請人:精工愛普生株式會社