專利名稱：光學(xué)掃描設(shè)備和包括該光學(xué)掃描設(shè)備的成像設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本公開涉及一種將從光源照射的光掃描到曝光對象的光學(xué)掃描設(shè)備以及一種包括該光學(xué)掃描設(shè)備的成像設(shè)備。
背景技術(shù)：
在打印介質(zhì)上再現(xiàn)圖像的電子照相成像設(shè)備，如復(fù)印機(jī)、打印機(jī)和傳真機(jī)等中，通常采用用于將從光源照射的光掃描到曝光對象的光學(xué)掃描設(shè)備。
光學(xué)掃描設(shè)備可包括光源、前掃描光學(xué)系統(tǒng)、光學(xué)偏轉(zhuǎn)器和掃描光學(xué)系統(tǒng)。光源根據(jù)圖像信號照射光，照射的光在通過前掃描光學(xué)系統(tǒng)的同時被整形為具有預(yù)定光束直徑的平行光或者略微會聚的光。然后，光入射到光學(xué)偏轉(zhuǎn)器上。入射到光學(xué)偏轉(zhuǎn)器上的光根據(jù)光學(xué)偏轉(zhuǎn)器的操作被偏轉(zhuǎn)并掃描到掃描光學(xué)系統(tǒng)上，然后在通過掃描光學(xué)系統(tǒng)的同時在光的像差被補(bǔ)償之后被聚焦到曝光對象表面上。
多面鏡設(shè)備通常用作光學(xué)偏轉(zhuǎn)器，在多面鏡設(shè)備中，具有多個鏡面的多面鏡被安裝為通過例如主軸電機(jī)旋轉(zhuǎn)。響應(yīng)于對更高速度成像的不斷需求，近來，正在進(jìn)行將振動型微鏡裝置用作光學(xué)偏轉(zhuǎn)器以實現(xiàn)更高掃描速度的各種嘗試。
當(dāng)入射到光學(xué)偏轉(zhuǎn)器的鏡面上的光沿著曝光對象表面的主掃描方向被反射和掃描時，入射光和反射光存在于與主掃描方向的平面相同的平面上。為了防止入射光和反射光彼此干擾，入射光入射在鏡面上以傾斜預(yù)定角度。預(yù)定的入射角應(yīng)大于單側(cè)掃描角(a)，這導(dǎo)致當(dāng)入射光的光束直徑為D時，鏡面在主掃描方向上的長度為D/cosa或更長。當(dāng)鏡子的尺寸增大時，轉(zhuǎn)動慣量增大，這需要更大的驅(qū)動力來使得光學(xué)偏轉(zhuǎn)器旋轉(zhuǎn)。因此，期望設(shè)計一種小尺寸的鏡面。

發(fā)明內(nèi)容
本公開提供一種光學(xué)掃描設(shè)備，所述光學(xué)掃描設(shè)備包括能夠?qū)崿F(xiàn)減小的鏡面的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器。還公開了一種采用該光學(xué)掃描設(shè)備的成像設(shè)備。
根據(jù)一方面， 一種光學(xué)偏轉(zhuǎn)器可包括驅(qū)動鏡，被構(gòu)造為進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，所述驅(qū)動鏡具有使入射光偏轉(zhuǎn)的偏轉(zhuǎn)表面；多個光柵，形成在偏轉(zhuǎn)表面上，用
度和在負(fù)級衍射的光的強(qiáng)度彼此不同的形狀。由驅(qū)動鏡的旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的偏轉(zhuǎn)光的軌跡形成的主掃描線基本上可以是直線。
根據(jù)另一方面， 一種光學(xué)掃描設(shè)備可包括光源，用于產(chǎn)生光；光學(xué)偏轉(zhuǎn)器，可包括偏轉(zhuǎn)表面，所述光學(xué)偏轉(zhuǎn)器被可旋轉(zhuǎn)地驅(qū)動，以使從光源接收的光偏轉(zhuǎn)。入射在偏轉(zhuǎn)表面上的光可與隨著光學(xué)偏轉(zhuǎn)器旋轉(zhuǎn)而由光學(xué)偏轉(zhuǎn)器偏轉(zhuǎn)的光的軌跡形成的主掃描線垂直，并且當(dāng)偏轉(zhuǎn)表面位于中立位置時，所述入射在偏轉(zhuǎn)表面上的光可沿著與主掃描線垂直的副掃描方向與偏轉(zhuǎn)表面的法線形成角度e (e邦)。由驅(qū)動鏡的旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的偏轉(zhuǎn)光的軌跡形成的主掃描線基本上是直線。
根據(jù)另一方面， 一種光學(xué)掃描設(shè)備可包括光源，用于產(chǎn)生光；前掃描光學(xué)單元，被布置為從光源接收光，所述前掃描光學(xué)單元被構(gòu)造為將從光源接收的光整形為預(yù)定形狀；光學(xué)偏轉(zhuǎn)器，包括被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動的偏轉(zhuǎn)表面，所述光學(xué)偏轉(zhuǎn)器被構(gòu)造為使從前掃描光學(xué)單元接收的光偏轉(zhuǎn)；掃描光學(xué)單元，被布置為從光學(xué)偏轉(zhuǎn)器接收偏轉(zhuǎn)光，所述掃描光學(xué)單元被構(gòu)造為對光學(xué)偏轉(zhuǎn)器偏轉(zhuǎn)的光的像差進(jìn)行補(bǔ)償，以將所述光聚焦在曝光對象上。入射在偏轉(zhuǎn)表面上的光可與當(dāng)偏轉(zhuǎn)表面位于中立位置時偏轉(zhuǎn)表面的法線平行，并且入射在偏轉(zhuǎn)表面上的光可與掃描光學(xué)單元的光軸形成角度P (p邦)。
根據(jù)另一方面， 一種成像設(shè)備可包括感光對象；光學(xué)掃描設(shè)備，用于將光照射到感光對象上以形成靜電潛像；顯影單元，將調(diào)色劑供應(yīng)給形成在感光對象上的靜電潛像，以將感光對象上的靜電潛像顯影。
根據(jù)另一方面， 一種光學(xué)偏轉(zhuǎn)器裝置可包括驅(qū)動鏡，被構(gòu)造為進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，所述驅(qū)動鏡具有使入射在其上的入射光偏轉(zhuǎn)的偏轉(zhuǎn)表面；多個衍射光柵，形成在偏轉(zhuǎn)表面上，所述多個衍射光柵被布置為使得入射光的第m級衍射在與偏轉(zhuǎn)表面基本垂直的方向上被偏轉(zhuǎn)，m是非零的整數(shù)。
所述多個衍射光柵可被布置為滿足±m(xù).X = p.sm(eD)，其中，X是入射光
m級衍射的衍射角。
所述多個衍射光柵可被這樣布置，使得入射光通過所述多個衍射光柵的第m級衍射的光強(qiáng)度大于入射光通過所述多個衍射光柵的任何其它級衍射的光強(qiáng)度。
根據(jù)另 一方面， 一種用于在曝光對象上沿著主掃描線來掃描光的光學(xué)掃描設(shè)備可包括光源，用于產(chǎn)生光；光學(xué)偏轉(zhuǎn)器單元；掃描光學(xué)單元，被布置在光學(xué)偏轉(zhuǎn)器單元和曝光對象之間，以從光學(xué)偏轉(zhuǎn)器單元接收偏轉(zhuǎn)光，所述掃描光學(xué)單元被構(gòu)造為將所述光聚焦在曝光對象上。所述光學(xué)偏轉(zhuǎn)器單元可包括驅(qū)動鏡，被構(gòu)造為進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，所述驅(qū)動鏡具有偏轉(zhuǎn)表面，偏轉(zhuǎn)表面
偏轉(zhuǎn)表面上，所述多個衍射光柵被布置為使得入射光的第m級衍射在與偏轉(zhuǎn)表面基本垂直的方向上被偏轉(zhuǎn)，m是非零的整數(shù)。
驅(qū)動鏡還可被構(gòu)造為在旋轉(zhuǎn)的同時進(jìn)行振動，所述多個衍射光柵被布置為與驅(qū)動鏡的旋轉(zhuǎn)軸基本平行，入射光在與主掃描線平行的方向上與掃描光學(xué)單元的光軸形成角度p,角度P大于零，所述多個衍射光柵被布置為滿足p=mlsinP，其中，p是所述多個衍射光柵中的相鄰光柵之間的距離，X是入射光的波長。入射光通過所述多個衍射光柵的第m級衍射的光強(qiáng)度可大于入射光通過所述多個衍射光柵的任何其它級衍射的光強(qiáng)度。


通過下面參照附圖對本公開的一些實施例進(jìn)行詳細(xì)描述，本公開的各種特點和優(yōu)點將會變得更加清楚，其中
圖1是顯示根據(jù)實施例的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器的示意性結(jié)構(gòu)的示圖；圖2是顯示根據(jù)另一實施例的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器的示意性結(jié)構(gòu)的示圖；圖3和圖4是顯示光學(xué)偏轉(zhuǎn)器的比較示例的示圖5和圖6是分別顯示被圖1和圖2中所示的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器采用的光柵衍射的光的示圖7是顯示根據(jù)另一實施例的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器的示意性結(jié)構(gòu)的示圖；圖8是顯示根據(jù)另一實施例的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器的示意性結(jié)構(gòu)的示圖； 圖9是顯示根據(jù)另 一 實施例的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器的示意性結(jié)構(gòu)的示圖； 圖IOA顯示了根據(jù)實施例的光學(xué)掃描設(shè)備的光學(xué)構(gòu)造； 圖IOB顯示了沿著光軸截取的圖10A中的光學(xué)掃描設(shè)備的截面圖； 圖11是顯示根據(jù)另一實施例的光學(xué)掃描設(shè)備的光學(xué)構(gòu)造的示圖； 圖12是顯示根據(jù)實施例的成像設(shè)備的示意性構(gòu)造的示圖。
具體實施例方式
現(xiàn)在將詳細(xì)描述本發(fā)明的實施例，其示例在附圖中示出，其中，相同的 標(biāo)號表示相同的部件。盡管采用詳細(xì)的結(jié)構(gòu)和部件來描述實施例以幫助全面 理解這些實施例的各種應(yīng)用和優(yōu)點，但是明顯的是，不用這些詳細(xì)的細(xì)節(jié)， 也可實施這些實施例。另外，將不詳細(xì)描述公知的功能或結(jié)構(gòu)，以避免在不 必要的細(xì)節(jié)使說明書模糊。還應(yīng)注意，在附圖中，特征的尺寸不是真實的尺 寸，而是為了更好的理解可以被夸大。
圖1是顯示根據(jù)實施例的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器10的示意性結(jié)構(gòu)的示圖。光學(xué)偏轉(zhuǎn) 器10將入射光偏轉(zhuǎn)，并且可在圍繞旋轉(zhuǎn)軸12樞轉(zhuǎn)的同時進(jìn)行振動，從而偏 轉(zhuǎn)光形成軌跡(trace)。光學(xué)偏轉(zhuǎn)器10具有形成直線軌跡(諸如主掃描線S)的結(jié) 構(gòu)。光學(xué)偏轉(zhuǎn)器10可包括驅(qū)動鏡14，驅(qū)動器(未示出)使得驅(qū)動鏡14旋轉(zhuǎn)。 光柵16形成在驅(qū)動鏡14的表面(即，偏轉(zhuǎn)表面)上。在下文中，當(dāng)討論關(guān)于偏 轉(zhuǎn)表面的角度時，這樣的偏轉(zhuǎn)表面指的是在形成光柵16之前的表面或不考慮 光柵16的表面。每個光柵16對入射光進(jìn)行衍射，并且具有例如非對稱形狀， 從而使得在正級衍射的光和在負(fù)級衍射的光的各自強(qiáng)度彼此不同。具體地講， 選擇光柵16的形狀，使得在與垂直于偏轉(zhuǎn)表面的方向?qū)?yīng)的級衍射的光的強(qiáng) 度增大。光柵16的長度方向可與主掃描線S平行，并且光柵16的形狀可以 是例如圖1所示的閃耀型(blazetype)。然而，光柵16的形狀不限于閃耀型， 可采用其它形狀。
根據(jù)實施例，驅(qū)動鏡14可具有這樣一種結(jié)構(gòu)，在該結(jié)構(gòu)中，光柵16形 成在微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)鏡的表面上。例如，可使用硅基底以超小尺寸大批量 生產(chǎn)MEMS鏡。驅(qū)動器(未示出)可以是使用磁驅(qū)動方法、靜電驅(qū)動方法、電 磁驅(qū)動方法等來使得驅(qū)動鏡14樞轉(zhuǎn)和振動的設(shè)備。例如，當(dāng)采用磁驅(qū)動方法 時，永》茲體附著在與偏轉(zhuǎn)表面相對的表面14a上，其中，在偏轉(zhuǎn)表面上形成光柵16。通過使用時間變化磁場產(chǎn)生設(shè)備(例如，電磁體)在放置永磁體的部 分形成時間變化磁場，從而驅(qū)動鏡14根據(jù)由磁場變化而導(dǎo)致的磁力變化進(jìn)行 樞轉(zhuǎn)和振動。驅(qū)動MEMS鏡的各種方法對本領(lǐng)域普通技術(shù)人員是公知的，因 此對這些各種方法的詳細(xì)描述不是必要的。
參照圖1，入射光Li在與主掃描線S垂直的副掃描方向(z)上，以相對于 偏轉(zhuǎn)表面的法線N的角度e入射到驅(qū)動鏡14上。法線N處于中立位置 (neutralized position),該中立位置是光學(xué)偏轉(zhuǎn)器10的振動范圍內(nèi)的中心值的 位置。副掃描方向(z)是與主掃描方向(y)垂直的方向。入射光Li的大部分在與 垂直于偏轉(zhuǎn)表面的方向?qū)?yīng)的級被光柵16衍射和偏轉(zhuǎn)。驅(qū)動鏡14通過一個 或多個驅(qū)動器(未示出)圍繞樞轉(zhuǎn)軸12樞轉(zhuǎn)，并且在方向A上振動。因此，偏 轉(zhuǎn)光Lr的軌跡形成主掃描線S。即，由于驅(qū)動鏡14樞轉(zhuǎn)和振動，所以驅(qū)動 鏡14上的入射光Li在不同方向被偏轉(zhuǎn)。當(dāng)偏轉(zhuǎn)光Lr聚焦在聚焦表面(未示出) 上時，光點沿著偏轉(zhuǎn)方向形成的軌跡形成主掃描線S。主掃描線S可以是圖1 所示的直線。
圖2是顯示根據(jù)另一實施例的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器20的示意性結(jié)構(gòu)的示圖。光學(xué) 偏轉(zhuǎn)器20與圖1所示的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器10的差別在于光柵18的形狀不同。每個 光柵18具有非對稱形狀，從而使得在正級衍射的光的強(qiáng)度和在負(fù)級衍射的光 的強(qiáng)度彼此不同。具體地講，選擇每個光柵18的形狀，使得在與垂直于偏轉(zhuǎn) 表面的方向?qū)?yīng)的級衍射的光的強(qiáng)度增大。例如，光柵18的長度方向可與主 掃描線S平行，并且每個光柵18可被形成為臺階形。
當(dāng)入射光Li沿著與主掃描線S垂直的方向入射到驅(qū)動鏡14上，并且在 副掃描方向z上與偏轉(zhuǎn)表面的法線N形成角度e時，入射光Li的大部分在與 垂直于偏轉(zhuǎn)表面的方向?qū)?yīng)的級被光柵18衍射和偏轉(zhuǎn)。隨著驅(qū)動鏡14振動 并同時圍繞樞轉(zhuǎn)軸12樞轉(zhuǎn)，偏轉(zhuǎn)光Lr的軌跡形成主掃描線S的直線。
將參照圖3至圖6來描述確定分別在圖1和圖2中顯示的光柵16和光柵 18的形狀的示例。
圖3顯示了光學(xué)偏轉(zhuǎn)器30，作為與光學(xué)偏轉(zhuǎn)器10和20的比較示例，在 光學(xué)偏轉(zhuǎn)器30上沒有形成光柵。當(dāng)入射光Li以相對于偏轉(zhuǎn)表面19的法線N
的角度e入射時，入射光Li以與入射角e相同的角度e被反射。由于光學(xué)偏
轉(zhuǎn)器30振動并同時圍繞樞轉(zhuǎn)軸12樞轉(zhuǎn)，所以被光學(xué)偏轉(zhuǎn)器30反射的光的軌 跡形成曲線S。在這種情況下，聚焦表面(未示出)上的軌跡仍然是曲線S,因此，會需要用于對曲率進(jìn)行補(bǔ)償?shù)母郊庸鈱W(xué)結(jié)構(gòu)，這會增加包含光學(xué)偏轉(zhuǎn)器
30的光學(xué)系統(tǒng)的復(fù)雜度。
如圖4所示，可在偏轉(zhuǎn)表面19上形成光柵，從而反射光的軌跡不是曲線 形狀。圖4顯示了光學(xué)偏轉(zhuǎn)器40，作為與光學(xué)偏轉(zhuǎn)器10和20的比較示例， 光學(xué)偏轉(zhuǎn)器40上的光柵15是二元型(binary type)。以入射角e入射的光Li 在各個方向被衍射。在零級衍射的光的衍射角與入射角e相同，在土l級衍射 的光以相對于零級衍射光的角度0d被衍射。根據(jù)相鄰光柵15的間距(p)和入 射光Li的波長(人)，由下面的等式1確定衍射角eD。
土m.入=p.sin(0D) (1)
其中，m表示衍射級。
因此，如果相鄰光柵15的間距(p)被設(shè)置為具有合適的值，則在特定級 衍射的光可在與驅(qū)動鏡14基本垂直的方向上被反射。例如，如果間距(p)被設(shè) 置為p=A7sme，則在-1級衍射的光被垂直地導(dǎo)向表面14a。
可由光柵15的深度d來確定衍射光的強(qiáng)度。如圖4所示，當(dāng)光柵15是 二元型時，在+m級衍射的光的強(qiáng)度和在-m級衍射的光的強(qiáng)度彼此相等，在 這種情況下，在期望的級衍射的光的光學(xué)效率不會超過50%。
使得在正級衍射的光的強(qiáng)度與在負(fù)級衍射的光的強(qiáng)度彼此不同的光柵的
圖5示出了圖1中所示的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器IO采用的光柵16衍射的光。相鄰 的閃耀型光柵16的間距p被調(diào)整，使得在-1級衍射的光基本垂直于驅(qū)動鏡 14,并且光柵16的深度d被調(diào)整，以提高在-1級衍射的光的效率。采用上述 結(jié)構(gòu)，以入射角e入射在驅(qū)動鏡14的偏轉(zhuǎn)表面上的光L的大部分可在-1級 被衍射，即，在與偏轉(zhuǎn)表面垂直的方向上被衍射。
圖6示出了根據(jù)實施例的圖2中所示的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器20采用的光柵18衍 射的光。相鄰的臺階型光柵18的間距p被調(diào)整，使得在-1級衍射的光基本垂 直于驅(qū)動鏡14,并且光柵18的深度d以及臺階的數(shù)量被調(diào)整，以提高在-1 級衍射的光的光學(xué)效率。以入射角e入射在驅(qū)動4竟14上的光Li的大部分可 在-1級被衍射，即，在與偏轉(zhuǎn)表面垂直的方向上^皮書亍射。例如，對于具有4 個臺階的每個光柵18,當(dāng)每個臺階的深度是(n+0.75)x(X/2)時(其中，n是l或 更大的整數(shù))，在-1級衍射的光的光學(xué)效率為大約81%。
圖7是顯示根據(jù)另一實施例的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器50的示意性結(jié)構(gòu)的示圖。光學(xué)偏轉(zhuǎn)器50包括多面鏡52和光柵54,多面鏡52具有多個偏轉(zhuǎn)表面，在所述 多個偏轉(zhuǎn)表面上分別形成光柵54。光學(xué)偏轉(zhuǎn)器50與分別在圖1和圖2中顯 示的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器10和20的差別在于，多面鏡52用作驅(qū)動鏡14。然而，如 上所述，與光學(xué)偏轉(zhuǎn)器10和20類似，可選擇光柵54的形狀，使得在與垂直 于偏轉(zhuǎn)表面的方向?qū)?yīng)的級衍射的光的強(qiáng)度增大。即，光柵54的長度方向可 與主掃描線S的方向平行，每個光柵54的形狀例如可以是圖1所示的閃耀型 或圖2所示的臺階型。當(dāng)光Li相對于偏轉(zhuǎn)表面的法線N以副掃描方向z上的 角度e入射到多面鏡52上時(法線N位于中立位置，與主掃描線S垂直)，入 射光Li的大部分在與垂直于偏轉(zhuǎn)表面的方向?qū)?yīng)的級被光柵54衍射。多面 鏡52安裝在主軸電機(jī)(未示出)上，在箭頭A所示的方向上旋轉(zhuǎn)，因此，偏轉(zhuǎn) 光Lr的軌跡形成主掃描線S的直線。
入射光Li沿著與主掃描方向y垂直的方向入射在偏轉(zhuǎn)表面上，并且在副 掃描方向z上與偏轉(zhuǎn)表面的法線N形成角度e (e#0)。被光學(xué)偏轉(zhuǎn)器50偏轉(zhuǎn) 的光Lr與偏轉(zhuǎn)表面垂直，因此，入射光Li和偏轉(zhuǎn)光Lr位于不同的平面。根 據(jù)光學(xué)偏轉(zhuǎn)器的振動或旋轉(zhuǎn)，在主掃描方向y上在入射光Li和偏轉(zhuǎn)表面之間 形成的最大角度需要不超過a/2(其中，a是單側(cè)掃描角)，并且偏轉(zhuǎn)表面在主 掃描方向y的最大長度需要不超過大約D/cos(a/2)(其中，D是入射光的光束 直徑)。單側(cè)掃描角a指的是，當(dāng)光學(xué)偏轉(zhuǎn)器50形成預(yù)定長度范圍的主掃描 線S時，被光學(xué)偏轉(zhuǎn)器50偏轉(zhuǎn)朝向主掃描線S兩端的光束所形成的角度的一 半。采用上述各種結(jié)構(gòu)，偏轉(zhuǎn)表面的尺寸可被形成為小于傳統(tǒng)光學(xué)偏轉(zhuǎn)器的 偏轉(zhuǎn)表面的尺寸，傳統(tǒng)光學(xué)偏轉(zhuǎn)器需要具有長度為D/cos(a)或更大的偏轉(zhuǎn)表 面，對于該偏轉(zhuǎn)表面，入射光Li和偏轉(zhuǎn)光LH立于同一平面。
圖8是顯示根據(jù)另一實施例的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器60的示意性結(jié)構(gòu)的示圖。光學(xué) 偏轉(zhuǎn)器60可包括驅(qū)動鏡14和光柵26，光柵26形成在驅(qū)動鏡14的偏轉(zhuǎn)表面 上。每個光柵26被這樣形成，使得每個光柵26的長度方向與主掃描線S垂 直，并且按照與先前實施例的原理相同的原理選擇每個光柵26的形狀。即， 選擇每個光柵26的形狀，使得在特定級衍射的光的光學(xué)效率被提高，并且所 述形狀可以是例如閃耀型或臺階型。相鄰的閃耀型光柵或臺階型光柵的間距、 閃耀型光柵或臺階型光柵的深度或者臺階型光柵的臺階數(shù)量可被適當(dāng)?shù)卣{(diào) 整，以增大在期望的級衍射的光的強(qiáng)度。
參照圖8，當(dāng)光學(xué)偏轉(zhuǎn)器60位于中立位置時，入射光Li垂直于偏轉(zhuǎn)表面而入射。這里，中立位置表示的是，光學(xué)偏轉(zhuǎn)器60位于光學(xué)偏轉(zhuǎn)器60的 振動范圍內(nèi)的中心值的位置。當(dāng)沒有形成光柵26時，入射光按照與入射方向 相同的方向被反射。然而，由于光柵26形成在偏轉(zhuǎn)表面上，所以入射光Li 在沿著主掃描線S的方向上被偏轉(zhuǎn)。另外，根據(jù)光學(xué)偏轉(zhuǎn)器60的振動，偏轉(zhuǎn) 光的軌跡形成主掃描線S的直線。
圖9是顯示根據(jù)另一實施例的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器70的示意性結(jié)構(gòu)的示圖。光學(xué) 偏轉(zhuǎn)器70包括多面鏡52,多面鏡52具有多個偏轉(zhuǎn)表面，在所述多個偏轉(zhuǎn)表 面上形成光柵64。當(dāng)前實施例的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器70與圖8所示的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器60 的差別在于，多面鏡52用作驅(qū)動鏡。然而，與圖8中的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器60類似， 也可對光柵64進(jìn)行選擇，以提高在特定級衍射的光的光學(xué)效率。即，光柵 64被形成為使得每個光柵64的長度方向與主掃描線S垂直，并且每個光柵 64的形狀可以是例如閃耀型或臺階型，但是也可使用其它光柵形狀。垂直入 射在偏轉(zhuǎn)表面上的入射光Li在沿著主掃描線S的方向上被光柵64衍射。另 外，根據(jù)光學(xué)偏轉(zhuǎn)器70的振動，偏轉(zhuǎn)光Lr的軌跡形成主掃描線S的直線。
由于圖8和圖9中的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器60和70分別具有入射光Li和偏轉(zhuǎn)光 Lr位于同一平面的光學(xué)布置，所以光學(xué)偏轉(zhuǎn)器60和70可有利地與傳統(tǒng)光學(xué) 掃描設(shè)備或成像設(shè)備的現(xiàn)有光學(xué)布置一起被使用。另外，由于偏轉(zhuǎn)表面中形 成的光柵，因此光學(xué)布置可被這樣配置，使得當(dāng)偏轉(zhuǎn)表面位于中立位置時， 光垂直入射在偏轉(zhuǎn)表面上。因此，當(dāng)偏轉(zhuǎn)表面正被樞轉(zhuǎn)時，光在偏轉(zhuǎn)表面上 的入射角可^f皮減小，并且偏轉(zhuǎn)表面的尺寸也可被減小。
上述光學(xué)偏轉(zhuǎn)器在偏轉(zhuǎn)表面上具有光柵，其中，光柵被形成為提高在特 定級衍射的光的效率。光學(xué)偏轉(zhuǎn)器不限于特定數(shù)量的偏轉(zhuǎn)表面或偏轉(zhuǎn)表面的 驅(qū)動方法。此外，上述特性可一皮應(yīng)用于例如包括4企流計4竟(galvanometer mirror) 的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器，因此這些特性的應(yīng)用不僅僅限于上述MEMS鏡或多面鏡52。
圖IOA顯示了光學(xué)掃描設(shè)備100的光學(xué)構(gòu)造，圖IOB顯示了沿著光軸截 取的光學(xué)掃描設(shè)備100的截面圖。參照圖IOA和圖10B,光學(xué)掃描設(shè)備100 可包括光源110和光學(xué)偏轉(zhuǎn)器140，還可包括前掃描光學(xué)單元120和掃描光 學(xué)單元160。光路轉(zhuǎn)換構(gòu)件130可被布置在前掃描光學(xué)單元120和光學(xué)偏轉(zhuǎn) 器140之間。
光源110通過控制器(未示出)被接通/斷開，以產(chǎn)生與圖像信號相應(yīng)的光， 并將該光照射到曝光對象的 一部分上，在曝光對象上將形成例如靜電潛像。光源110可由例如邊沿發(fā)射二極管、垂直腔面發(fā)射激光器(VCSEL)或發(fā)光裝 置(LED)形成，而沒有限制。
前掃描光學(xué)單元120對從光源IIO發(fā)射的光束進(jìn)行整形。前掃描光學(xué)單 元120可包括例如準(zhǔn)直透鏡122，用于將光束整形為平行光或會聚光；柱 面透鏡124，用于在副掃描方向(z方向)上將準(zhǔn)直透鏡122整形的光束進(jìn)行聚 焦。
光路轉(zhuǎn)換構(gòu)件130轉(zhuǎn)換光路，使得從前掃描光學(xué)單元120發(fā)射的光朝向 光學(xué)偏轉(zhuǎn)器140行進(jìn)，然后入射在光學(xué)偏轉(zhuǎn)器140上。當(dāng)光通過光路轉(zhuǎn)換構(gòu) 件130時，光的光路被轉(zhuǎn)換為與主掃描線S的方向垂直，以在副掃描方向上 與光學(xué)偏轉(zhuǎn)器140的偏轉(zhuǎn)表面的法線N形成角度e。光路轉(zhuǎn)換構(gòu)件130僅僅 被描述為光學(xué)掃描設(shè)備的實施方式的示意性示例，對于光學(xué)掃描設(shè)備100不 是必須被包含的。例如，光源110和/或前掃描光學(xué)單元120可被這樣布置， 使得從光源IIO發(fā)射的光以上述入射角直接入射在光學(xué)偏轉(zhuǎn)器140上，而不 用通過光路轉(zhuǎn)換構(gòu)件130。
光學(xué)偏轉(zhuǎn)器140包括旋轉(zhuǎn)的偏轉(zhuǎn)表面，并且將由前掃描光學(xué)單元120整 形的光束進(jìn)行偏轉(zhuǎn)。分別在圖1、圖2、圖7中顯示的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器10、 20、 50可用作光學(xué)偏轉(zhuǎn)器140。如上所述，在與主掃描方向垂直的方向上并且在
偏轉(zhuǎn)表面垂直的方向上被光學(xué)偏轉(zhuǎn)器140偏轉(zhuǎn)，其中，偏轉(zhuǎn)表面的法線位于 中立位置。另外，根據(jù)光學(xué)偏轉(zhuǎn)器140的振動，由光學(xué)偏轉(zhuǎn)器140偏轉(zhuǎn)的光 的軌跡在曝光對象(未示出)上形成主掃描線S。
掃描光學(xué)單元160可采用例如f-e透鏡，以使用主掃描方向(y方向)和副 掃描方向(z方向)上的不同放大率來對由光學(xué)偏轉(zhuǎn)器140偏轉(zhuǎn)的光的像差進(jìn)行 補(bǔ)償，從而將偏轉(zhuǎn)光Lr聚焦在曝光對象上。f-e透鏡可包括至少一個塑料非 球面透鏡，但是不限于財圖中顯示的透鏡的數(shù)量和形狀。
在掃描光學(xué)單元160和曝光對象之間還可布置同步檢測傳感器或聚焦 鏡，在曝光對象上形成主掃描線S。同步檢測傳感器產(chǎn)生用于將主掃描方向 同步的同步信號，聚焦鏡轉(zhuǎn)換通過掃描光學(xué)單元160的光的光路，使得光向 曝光對象行進(jìn)。
圖11是顯示根據(jù)另一實施例的光學(xué)掃描設(shè)備200的光學(xué)構(gòu)造的示圖。光 學(xué)掃描設(shè)備200可包括光源110、前掃描光學(xué)單元120、光學(xué)偏轉(zhuǎn)器150以及掃描光學(xué)單元160。光學(xué)掃描設(shè)備200與圖10A中的光學(xué)掃描設(shè)備100的差 別在于，光學(xué)偏轉(zhuǎn)器150上的入射光Li和被光學(xué)偏轉(zhuǎn)器150偏轉(zhuǎn)的光Lr位 于同一平面。因此，分別參照圖8和圖9所描述的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器60和70可用 作光學(xué)偏轉(zhuǎn)器150。入射光Li與位于中立位置的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器150的偏轉(zhuǎn)表面 垂直，并且與掃描光學(xué)單元160的光軸形成角度(3(P邦)。角度P可大于單側(cè)掃 描角a。形成在光學(xué)偏轉(zhuǎn)器150的偏轉(zhuǎn)表面上的相鄰光柵的間距p可由等式 p-m士sin(3確定，其中，衍射級是m。如上所述，形成在光學(xué)偏轉(zhuǎn)器150的偏 轉(zhuǎn)表面上的光柵使得垂直入射在光學(xué)偏轉(zhuǎn)器150的偏轉(zhuǎn)表面上的光沿著掃描 光學(xué)單元160的光軸的方向偏轉(zhuǎn)。
圖12是顯示根據(jù)實施例的成像設(shè)備300的示意性構(gòu)造的示圖。成像設(shè)備 300可包括感光鼓320;光學(xué)掃描設(shè)備310，將光照射在感光鼓320上，以 在感光鼓320上形成靜電潛像；顯影單元340，將調(diào)色劑供應(yīng)給形成在感光 鼓320上的靜電潛像，以將感光鼓320上的靜電潛像顯影。
感光鼓320僅僅是感光構(gòu)件的示例，感光構(gòu)件可以是任何其它形狀和/ 或構(gòu)造，并且例如可通過在圓柱形金屬管的外周表面上形成預(yù)定厚度的感光 層而^皮制造。充電偏壓一皮施加到充電輥330上，充電輥330通過例如旋轉(zhuǎn)地 接觸感光鼓320來將感光鼓320的表面充電到均勻的電勢。光學(xué)掃描設(shè)備310 被控制器305控制，并且將根據(jù)圖像信息調(diào)制的光L照射到被充電為具有均 勻電勢的感光鼓320上，以在感光鼓320上形成靜電潛像。例如，分別參照 圖IOA和圖11所描述的光學(xué)掃描設(shè)備100和200可用作光學(xué)掃描設(shè)備310。 顯影單元340可包括顯影輥342和調(diào)色劑容器344。容納在調(diào)色劑容器344 中的調(diào)色劑可被附著到顯影輥342上，并且可被傳送到感光鼓320和顯影輥 342彼此面對的顯影壓印區(qū)。然后，調(diào)色劑通過施加到顯影輥342上的顯影 偏壓被附著到形成在感光鼓320上的靜電潛像上。轉(zhuǎn)印偏壓可被施加到面對 感光鼓320的轉(zhuǎn)印輥350上。輸送輥360將記錄介質(zhì)(例如， 一張紙P)輸送到 轉(zhuǎn)印輥350和感光鼓320彼此面對的轉(zhuǎn)印壓印區(qū)。附著到感 光鼓320上的調(diào) 色劑圖像通過例如施加到轉(zhuǎn)印輥350上的轉(zhuǎn)印偏壓的靜電引力被轉(zhuǎn)印到紙P 上。轉(zhuǎn)印到紙P上的調(diào)色劑圖像通過從定影輥370和加壓輥380施加的熱和 壓力被定影在紙P上，然后完成了打印操作。纟氏P通過排放輥390從成像設(shè) 備300被排出。
雖然參照本發(fā)明的一些實施例在特定的細(xì)節(jié)具體顯示和描述了本發(fā)明，但是對本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員明顯的是，在不脫離由權(quán)利要求限定其范圍的 本發(fā)明的原理和精神的情況下，可以對這些實施例進(jìn)行各種改變。
權(quán)利要求
1、一種光學(xué)偏轉(zhuǎn)器，包括驅(qū)動鏡，被構(gòu)造為進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，所述驅(qū)動鏡具有使入射光偏轉(zhuǎn)的偏轉(zhuǎn)表面；多個光柵，形成在偏轉(zhuǎn)表面上，用于對入射光進(jìn)行衍射，所述多個光柵中的每個具有使得在正級衍射的光的強(qiáng)度和在負(fù)級衍射的光的強(qiáng)度彼此不同的形狀，其中，隨著驅(qū)動鏡旋轉(zhuǎn)由驅(qū)動鏡的偏轉(zhuǎn)表面偏轉(zhuǎn)的光的軌跡形成的主掃描線基本上是直線。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器，其中，所述多個光柵中的每個的 長度方向與主掃描線平行。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器，其中，所述多個光柵中的每個的 長度方向與主掃描線垂直。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器，其中，所述多個光柵包括閃耀型 光柵和臺階型光柵中的至少 一種。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器，其中，驅(qū)動鏡包括微機(jī)電系統(tǒng)鏡。
6、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器，其中，驅(qū)動鏡包括具有多個偏轉(zhuǎn) 表面的多面鏡，其中，所述多個光柵形成在所述多個偏轉(zhuǎn)表面中的每個上。
7、 一種光學(xué)掃描設(shè)備，包括 光源，用于產(chǎn)生光；光學(xué)偏轉(zhuǎn)器，包括偏轉(zhuǎn)表面，所述光學(xué)偏轉(zhuǎn)器被可旋轉(zhuǎn)地驅(qū)動，以使從 光源接收的光偏轉(zhuǎn)，其中，來自光源的入射在偏轉(zhuǎn)表面上的光與隨著光學(xué)偏轉(zhuǎn)器旋轉(zhuǎn)而由光 學(xué)偏轉(zhuǎn)器偏轉(zhuǎn)的光的軌跡形成的主掃描線垂直，并且當(dāng)偏轉(zhuǎn)表面位于中立位 置時，所述來自光源的入射在偏轉(zhuǎn)表面上的光沿著與主掃描線垂直的副掃描方向與偏轉(zhuǎn)表面的法線形成角度e， e邦，主掃描線基本上是直線。
8、 根據(jù)權(quán)利要求7所述的光學(xué)掃描設(shè)備，還包括 前掃描光學(xué)單元，布置在光源和光學(xué)偏轉(zhuǎn)器之間，所述前掃描光學(xué)單元被構(gòu)造和布置為將來自光源的光整形為預(yù)定形狀；掃描光學(xué)單元，布置在光學(xué)偏轉(zhuǎn)器和曝光對象之間，其中，在曝光對象 上形成主掃描線，所述掃描光學(xué)單元被構(gòu)造和布置為對光學(xué)偏轉(zhuǎn)器偏轉(zhuǎn)的光的像差進(jìn)行補(bǔ)償，以將光學(xué)偏轉(zhuǎn)器偏轉(zhuǎn)的光聚焦在曝光對象上。
9、 根據(jù)權(quán)利要求7所述的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，偏轉(zhuǎn)表面具有光柵，所 述光柵被成形和布置為使得在正級衍射的光的強(qiáng)度和在負(fù)級衍射的光的強(qiáng)度 彼此不同。
10、 根據(jù)權(quán)利要求9所述的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，光柵的長度方向與主 掃描線平行。
11、 根據(jù)權(quán)利要求9所述的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，光柵是閃耀型光柵和 臺階型光lt中的一種。
12、 根據(jù)權(quán)利要求7所述的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，光學(xué)偏轉(zhuǎn)器包括微機(jī) 電系統(tǒng)鏡裝置、多面鏡裝置和檢流計鏡裝置中的任何一種。
13、 根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學(xué)掃描設(shè)備，還包括 光路轉(zhuǎn)換構(gòu)件，布置在前掃描光學(xué)單元和光學(xué)偏轉(zhuǎn)器之間，所述光路轉(zhuǎn)換構(gòu)件用于轉(zhuǎn)換從前掃描光學(xué)單元發(fā)射的光的光路，使得發(fā)射的光朝向光學(xué) 偏轉(zhuǎn)器行進(jìn)并入射在光學(xué)偏轉(zhuǎn)器上。
14、 一種光學(xué)掃描設(shè)備，包括 光源，用于產(chǎn)生光；前掃描光學(xué)單元，被布置為從光源接收光，所述前掃描光學(xué)單元被構(gòu)造 為將從光源接收的光整形為預(yù)定形狀；光學(xué)偏轉(zhuǎn)器，包括被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動的偏轉(zhuǎn)表面，所述光學(xué)偏轉(zhuǎn)器被構(gòu)造為使 從前掃描光學(xué)單元^妄收的光偏轉(zhuǎn)；掃描光學(xué)單元，被布置為從光學(xué)偏轉(zhuǎn)器接收偏轉(zhuǎn)光，所述掃描光學(xué)單元 被構(gòu)造為對光學(xué)偏轉(zhuǎn)器偏轉(zhuǎn)的光的像差進(jìn)行補(bǔ)償，以將所述光聚焦在曝光對其中，入射在偏轉(zhuǎn)表面上的光與當(dāng)偏轉(zhuǎn)表面位于中立位置時偏轉(zhuǎn)表面的 法線平行，入射在偏轉(zhuǎn)表面上的光與掃描光學(xué)單元的光軸形成角度p, p邦。
15、 根據(jù)權(quán)利要求14所述的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，偏轉(zhuǎn)表面具有光柵， 所述光柵被成形和布置為使得在正級衍射的光的強(qiáng)度和在負(fù)級衍射的光的強(qiáng) 度彼此不同。
16、 根據(jù)權(quán)利要求15所述的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，光柵的長度方向與主 掃描線垂直。
17、 根據(jù)權(quán)利要求15所述的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，光柵是閃耀型光柵和臺階型光柵中的一種。
18、 根據(jù)權(quán)利要求14所述的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，光學(xué)偏轉(zhuǎn)器包括微機(jī) 電系統(tǒng)鏡裝置、多面鏡裝置和檢流計鏡裝置中的任何一種。
19、 一種成像設(shè)備，包括 感光對象；光學(xué)掃描設(shè)備，用于將光照射到感光對象上以形成靜電潛像，所述光學(xué) 掃描設(shè)備包括光源，用于產(chǎn)生光；光學(xué)偏轉(zhuǎn)器，包括偏轉(zhuǎn)表面，所述光學(xué)偏轉(zhuǎn)器被可旋轉(zhuǎn)地驅(qū)動，以 使從光源接收的光偏轉(zhuǎn)；其中，來自光源的入射在偏轉(zhuǎn)表面上的光與隨著光學(xué)偏轉(zhuǎn)器旋轉(zhuǎn)而 由光學(xué)偏轉(zhuǎn)器偏轉(zhuǎn)的光的軌跡形成的主掃描線垂直，并且當(dāng)偏轉(zhuǎn)表面位于中 立位置時，所述來自光源的入射在偏轉(zhuǎn)表面上的光沿著與主掃描線垂直的副掃描方向與偏轉(zhuǎn)表面的法線形成角度e, 9^0,主掃描線基本上是直線；顯影單元，將調(diào)色劑供應(yīng)給形成在感光對象上的靜電潛像，以將感光對 象上的靜電潛像顯影。
20、 一種成像設(shè)備，包括 感光對象；光學(xué)掃描設(shè)備，用于將光照射到感光對象上以形成靜電潛像，所述光學(xué) 掃描設(shè)備包括光源，用于產(chǎn)生光；前掃描光學(xué)單元，被布置為從光源接收光，所述前掃描光學(xué)單元被 構(gòu)造為將從光源接收的光整形為預(yù)定形狀；光學(xué)偏轉(zhuǎn)器，包括被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動的偏轉(zhuǎn)表面，所述光學(xué)偏轉(zhuǎn)器被構(gòu)造為使從前掃描光學(xué)單元接收的光偏轉(zhuǎn)；掃描光學(xué)單元，被布置為從光學(xué)偏轉(zhuǎn)器接收偏轉(zhuǎn)光，所述掃描光學(xué) 單元被構(gòu)造為對光學(xué)偏轉(zhuǎn)器偏轉(zhuǎn)的光的像差進(jìn)行補(bǔ)償，以將所述光聚焦在曝 光對象上；其中，入射在偏轉(zhuǎn)表面上的光與當(dāng)偏轉(zhuǎn)表面位于中立位置時偏轉(zhuǎn)表 面的法線平行，入射在偏轉(zhuǎn)表面上的光與掃描光學(xué)單元的光軸形成角度(3， 卩邦；顯影單元，將調(diào)色劑供應(yīng)給形成在感光對象上的靜電潛像，以將感光對 象上的靜電潛像顯影。
21、 一種光學(xué)偏轉(zhuǎn)器裝置，包括驅(qū)動鏡，被構(gòu)造為進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，所述驅(qū)動鏡具有使入射在其上的入射光偏 轉(zhuǎn)的偏轉(zhuǎn)表面；多個衍射光柵，形成在偏轉(zhuǎn)表面上，所述多個衍射光柵被布置為使得入 射光的第m級衍射在與偏轉(zhuǎn)表面基本垂直的方向上被偏轉(zhuǎn)，m是非零的整數(shù)。
22、 根據(jù)權(quán)利要求21所述的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器裝置，其中，所述多個衍射光柵 ^皮布置為滿足士m'X = p'sin(eD),離，eD是入射光的第m級4汙射的衍射角。
23、 根據(jù)權(quán)利要求21所述的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器裝置，其中，入射光通過所述多 個衍射光柵的第m級衍射的光強(qiáng)度大于入射光通過所述多個衍射光柵的任何 其它級衍射的光強(qiáng)度。
24、 根據(jù)權(quán)利要求21所述的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器裝置，其中，驅(qū)動鏡還被構(gòu)造為 在旋轉(zhuǎn)的同時進(jìn)行振動，隨著驅(qū)動鏡旋轉(zhuǎn)，入射光的第m級衍射形成沿著主 掃描線的光的軌跡，主掃描線基本上是直線。
25、 根據(jù)權(quán)利要求21所述的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器裝置，其中，所述多個衍射光柵 被布置為與驅(qū)動鏡的旋轉(zhuǎn)軸基本平行。
26、 根據(jù)權(quán)利要求21所述的光學(xué)偏轉(zhuǎn)器裝置，其中，所述多個衍射光柵 包括閃耀型光柵和臺階型光柵中的 一種。
27、 一種用于在曝光對象上沿著主掃描線來掃描光的光學(xué)掃描設(shè)備，包括光源，用于產(chǎn)生光； 光學(xué)偏轉(zhuǎn)器單元，包括驅(qū)動鏡，被構(gòu)造為進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，所述驅(qū)動鏡具有偏轉(zhuǎn)表面，偏轉(zhuǎn)表面多個衍射光柵，形成在偏轉(zhuǎn)表面上，所述多個衍射光柵被布置為使 得入射光的第m級衍射在與偏轉(zhuǎn)表面基本垂直的方向上被偏轉(zhuǎn)，m是非零的整數(shù)。
28、 根據(jù)權(quán)利要求27所述的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，所述多個衍射光柵被布置為滿足土ml = p.sin(6D),離，eD是入射光的第m級衍射的衍射角。
29、 根據(jù)權(quán)利要求28所述的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，入射光通過所述多個它級衍射的光強(qiáng)度。
30、 根據(jù)權(quán)利要求29所述的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，驅(qū)動鏡還被構(gòu)造為在 旋轉(zhuǎn)的同時進(jìn)行振動，所述多個衍射光柵被布置為與驅(qū)動鏡的旋轉(zhuǎn)軸基本垂直，入射光沿著與主掃描線垂直的方向與法線形成角度e，角度e大于零，所述法線是當(dāng)偏轉(zhuǎn)表面處于中立狀態(tài)時垂直于偏轉(zhuǎn)表面的線，中立狀態(tài)是偏轉(zhuǎn) 表面位于所述偏轉(zhuǎn)表面的振動運(yùn)動范圍的中點的狀態(tài)，隨著驅(qū)動鏡旋轉(zhuǎn)，入 射光的第m級衍射沿著主掃描線形成光的軌跡，主掃描線基本上是直線。
31、 根據(jù)權(quán)利要求27所述的光學(xué)掃描設(shè)備，還包括 掃描光學(xué)單元，被布置在光學(xué)偏轉(zhuǎn)器單元和曝光對象之間，以從光學(xué)偏轉(zhuǎn)器單元接收偏轉(zhuǎn)光，所述掃描光學(xué)單元被構(gòu)造為將所述光聚焦在曝光對象 上，其中，驅(qū)動鏡還被構(gòu)造為在旋轉(zhuǎn)的同時進(jìn)行振動，所述多個衍射光柵被 布置為與驅(qū)動鏡的旋轉(zhuǎn)軸基本平行，入射光在與主掃描線平行的方向上與掃 描光學(xué)單元的光軸形成角度P，角度P大于零，所述多個衍射光柵被布置為滿是入射光的波長。
32、 根據(jù)權(quán)利要求31所述的光學(xué)掃描設(shè)備，其中，入射光通過所述多個 衍射光柵的第m級衍射的光強(qiáng)度大于入射光通過所述多個衍射光柵的任何其 它級衍射的光強(qiáng)度。
全文摘要
提供一種光學(xué)掃描設(shè)備和包括該光學(xué)掃描設(shè)備的成像設(shè)備。光學(xué)偏轉(zhuǎn)器包括驅(qū)動鏡，驅(qū)動鏡被驅(qū)動進(jìn)行旋轉(zhuǎn)并具有使入射光偏轉(zhuǎn)的偏轉(zhuǎn)表面。多個光柵形成在偏轉(zhuǎn)表面上，每個光柵具有使得在正級衍射的光的強(qiáng)度和在負(fù)級衍射的光的強(qiáng)度彼此不同的形狀。根據(jù)驅(qū)動鏡的旋轉(zhuǎn)由偏轉(zhuǎn)光的軌跡形成的主掃描線是直線。光學(xué)偏轉(zhuǎn)器用于具有光源的光學(xué)掃描設(shè)備。在用于在曝光對象上形成靜電潛像的成像設(shè)備中使用該光學(xué)掃描設(shè)備。
文檔編號G03G15/00GK101551519SQ200910004818
公開日2009年10月7日 申請日期2009年1月19日 優(yōu)先權(quán)日2008年4月3日
發(fā)明者崔祐碩, 鄭澤成 申請人:三星電子株式會社