專利名稱：：濾色器及其制造方法以及液晶顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及濾色器(colorfilter)及其制造方法以及液晶顯示裝置。
背景技術(shù)：
：濾色器是液晶顯示器(LiquidCrystalDisplay:LCD)和固體攝像元件中不可缺少的構(gòu)成部件。例如，液晶顯示器逐漸用于電視機，液晶顯示器用濾色器與目前的筆記本電腦(laptopcomputer)用或監(jiān)視器(monitor)用濾色器相比，要求具有更高品質(zhì)的畫質(zhì)。另外，為了生產(chǎn)大型TV，基板尺寸擴大，對合格率提高及成本削減的需求變大。關(guān)于上述畫質(zhì)的提高，在濾色器制造時存在以下問題在黑矩陣(blackmatrix)與著色像素的邊界部分著色圖案凸起，因濾色器不平坦而導致畫質(zhì)下降(例如參照日本專利特開平9-113721號公報)。上述邊界部分的凸起有時會引起對比度(contrast)下降、顏色不均等。因此，以往在像素制作后對濾色器的表面進行研磨或在像素上形成保護(overcoat)層(以下有時也稱為"OC層")來應(yīng)對。但是，若進行研磨或形成OC層，則濾色器的制造工序增加，成本提高。此外，在研磨時，有時會產(chǎn)生濾色器受損等弊端，謀求能省略研磨工序和/或OC層形成工序的方法。針對于此，嘗試了通過減少黑矩陣的錐角(taperangle)來解決上述邊界部分的凸起問題(例如參照日本專利特開平9-113721號公報和日本專利特開2003-161826號公報)。在日本專利特開2003-161826號公報中，還通過噴墨(inkjet)法僅在黑矩陣框內(nèi)賦予著色組合物。但是，若采用日本專利特開平9-113721號公報中所述的方法，則需要大量工序以得到具有上述錐角的黑矩陣。具體而言，將黑矩陣形成用感光性黑色組合物在基板上涂布干燥后，再涂布正型抗蝕劑(positiveresist),調(diào)節(jié)該感光性黑色組合物與正型抗蝕劑的顯影速度，是費時費力的方法。而且，僅調(diào)節(jié)錐角時，抑制著色圖案凸起的效果不充分。此外，該技術(shù)并非針對lmxlm以上的大型基板。另一方面，在日本專利特開2003-161826號公報中，由于通過噴墨法在基板上賦予著色組合物來形成著色圖案，因此不適于抑制在通過著色組合物的涂布和/或轉(zhuǎn)印等來形成著色圖案時產(chǎn)生的黑矩陣與著色圖案重疊的重疊部分的著色圖案的凸起。在黑矩陣與著色像素的邊界部分，黑矩陣高于著色像素而產(chǎn)生高度差，濾色器不平坦，有時同樣會產(chǎn)生的畫質(zhì)下降的問題。
發(fā)明內(nèi)容鑒于上述情況，本發(fā)明的目的在于提供無需追加研磨或設(shè)置保護層等工序、用成本低且簡易的方法即可抑制在黑矩陣與著色像素的邊界部分著色圖案的凸起而得到高品質(zhì)圖像的濾色器及其制造方法以及液晶顯示裝置。<1>一種濾色器的制造方法，其具有黑矩陣形成工序，通過使用感光性黑色組合物在基板上形成感光性黑色組合物層，并將所述感光性黑色組合物層曝光以及將曝光后的所述感光性黑色組合物層顯影，來形成下述黑矩陣圖案，然后將形成的黑矩陣圖案烘烤，所述黑矩陣圖案位于從所述感光性黑色組合物層內(nèi)的上部端向所述基板的法線方向延伸的線與所述感光性黑色組合物層內(nèi)的下部端之間在黑矩陣寬度方向上的距離為-3.0iam+3.(Vm范圍的位置；禾口著色圖案形成工序，通過在烘烤后的形成有黑矩陣的所述基板上，使用感光性著色組合物形成感光性著色組合物層，將所述感光性著色組合物層曝光，將曝光后的所述感光性著色組合物層顯影，將顯影后的所述感光性著色組合物層烘烤，來形成著色圖案，其中，該烘烤后的、該著色圖案與所述黑矩陣相重疊的重疊部在黑矩陣寬度方向上的長度為1.(Him12jam。<2>根據(jù)<1>所述的濾色器的制造方法，其中，在上述基板上形成的上述感光性黑色組合物層的厚度為0.2pm2.2^im。<3>根據(jù)<1>所述的濾色器的制造方法，其中，在上述黑矩陣形成工序中的上述顯影中，顯影溫度為2(TC35X:,顯影時間為20秒120秒。<4>根據(jù)<3>所述的濾色器的制造方法，其中，上述顯影溫度為2(TC30°C，上述顯影時間為30秒70秒。<5>根據(jù)<1>所述的濾色器的制造方法，其中，上述黑矩陣形成工序中在上述感光性黑色組合物層形成工序后并在上述曝光工序前還含有預(yù)烘烤工序。<6>根據(jù)<5〉所述的濾色器的制造方法，其中，所述預(yù)烘烤工序中的預(yù)烘烤溫度為65。C12(TC。<7>根據(jù)<5>所述的濾色器的制造方法，其中，所述預(yù)烘烤中的預(yù)烘烤時間為50秒300秒。<8>根據(jù)<1>所述的濾色器的制造方法，其中，在上述著色圖案形成工序中的上述曝光中，隔著掩模圖案進行曝光，曝光圖案與黑矩陣的交疊部分在黑矩陣寬度方向上的長度為3.0pm8.(Him。<9>根據(jù)<8>所述的濾色器的制造方法，其中，在上述著色圖案形成工序中的上述顯影中，顯影溫度為2(TC35"C，顯影時間為20秒120秒。<10〉根據(jù)<8>所述的濾色器的制造方法，其中，在上述著色圖案形成工序中，曝光圖案與黑矩陣的交疊部分在黑矩陣寬度方向上的上述長度為2.(Him10(im，上述顯影溫度為2(TC35t:，上述顯影時間為20秒120秒。<11>根據(jù)<10>所述的濾色器的制造方法，其中，上述長度為3.(Him8.0nm，上述顯影溫度為2(TC3(TC，顯影時間為30秒70秒。<12>根據(jù)<1>所述的濾色器的制造方法，其中，上述重疊部距離基板表面最遠的部分與上述重疊部以外的部分之間在基板的法線方向上的距離為0.5(im以下。<13>根據(jù)<1>所述的濾色器的制造方法，其中，感光性著色組合物層的層厚為0.5jLim3.0pm。<14>一種濾色器，其是用<1><13>中任一項所述的濾色器的制造方法制造的濾色器，具有黑矩陣與著色圖案相重疊的重疊部，上述重疊部在黑矩陣寬度方向的長度為1.0^im12^im。<15>根據(jù)<14>所述的濾色器，其中，上述著色圖案的表面中上述重疊部距離基板表面最遠的部分與上述重疊部以外的部分之間在基板的法線方向上的距離為0.50pm以下。<16>—種液晶顯示裝置，其具有<14〉所述的濾色器。<17>—種液晶顯示裝置，其具有<15〉所述的濾色器。本發(fā)明能提供無需追加研磨或設(shè)置保護層等工序、用成本低且簡易的方法即可抑制在黑矩陣與著色像素的邊界部分凸起而得到高品質(zhì)圖像的濾色器及其制造方法以及液晶顯示裝置。圖1是從上端部到下端部幾乎一致的顯影后的黑矩陣基板的局部剖面圖。圖2是產(chǎn)生倒錐形的顯影后的黑矩陣基板的局部剖面圖。圖3是產(chǎn)生錐形的顯影后的黑矩陣基板的局部剖面圖。圖4是后烘烤處理后的黑矩陣基板的局部剖面圖。圖5是后烘烤處理后的黑矩陣上形成著色層的濾色器基板的局部剖面圖。圖6是形成了重疊部的濾色器的局部剖面圖。圖7是在重疊部具有凸起的濾色器的局部剖面圖。圖8是用于求出凸起的高度的測定方法的概念圖。具體實施例方式以下，對本發(fā)明的濾色器及其制造方法以及液晶顯示裝置進行詳細說明。濾色器的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明的濾色器的制造方法包括形成黑矩陣的工序(黑矩陣形成工序)和形成著色圖案的工序(著色圖案形成工序)，還可以根據(jù)需要含有其他工序。以下，對黑矩陣形成工序和著色圖案形成工序進行說明。7黑矩陣形成工序在本發(fā)明的黑矩陣形成工序中，至少通過使用感光性黑色組合物在基板上形成感光性黑色組合物層(感光性黑色組合物層形成工序)、將上述感光性黑色組合物層曝光的工序(曝光工序)以及將上述曝光后的上述感光性黑色組合物層顯影(顯影工序)，形成相對于上述感光性黑色組合物層內(nèi)的上部端，使下部端位于黑矩陣的寬度方向上的-3.0+3.0pm處的黑色矩陣圖案，然后，通過將形成的黑色矩陣圖案烘烤(烘烤工序)來形成黑色矩陣。在黑色矩陣形成工序中，除上述工序外，還可以根據(jù)需要設(shè)置其他工序。黑矩陣在本發(fā)明中，黑矩陣的光學濃度(opticaldensity:OD)優(yōu)選為2.08.0，更優(yōu)選為3.08.0，進一步優(yōu)選為4.06.0。當光學濃度為2.0以上時，能抑制對比度下降等顯示裝置的顯示品質(zhì)的下降。另外，這里所謂的光學濃度是指ISOVisual(視覺)透射光學濃度。作為能在ISOVisual透射光學濃度的測定中使用的測定器，可以列舉例如阪田油墨公司(SAKATAINXENG.Co.，Ltd.)的X-Rite361T(V)。黑矩陣的線寬(夾在著色圖案間的、與黑矩陣的長度方向正交的方向的長度)為5pm3(Him，其從高開口率能確保亮度的觀點出發(fā)成為優(yōu)選。關(guān)于黑矩陣的厚度(黑矩陣在基板的法線方向的長度)，從減小在黑矩陣與著色圖案相重疊的重疊部的凸起(優(yōu)選為0.50|am以下)的觀點出發(fā)，優(yōu)選為0.2pm2.2^im，進一步優(yōu)選為0.2jam1.6|im，更優(yōu)選為0.5pm1.3pm。若在該厚度范圍內(nèi)，則設(shè)有黑矩陣的基板的凹凸即黑矩陣的形成區(qū)域與非形成區(qū)域的高度差適宜，在黑矩陣形成后能以高精度在其上形成RGB等著色圖案(著色像素)。感光性黑色組合物層形成工序在本工序中，使用感光性黑色組合物在基板上形成感光性黑色組合物層。作為能在本工序中使用的基板，可以列舉例如在液晶顯示元件等中使用的無堿玻璃、鈉鈣玻璃、PYREX(注冊商標)玻璃、石英玻璃及粘附有透明導電膜的上述玻璃以及在固體攝像元件等中使用的光電轉(zhuǎn)換元件基板例如有機硅基板等。此外，還可以使用塑料基板。其中，從耐試劑性和耐熱性的觀點出發(fā)，優(yōu)選無堿玻璃。在這些基板上首先形成格子狀等黑矩陣以隔離各像素，然后在格子的間隙部分形成著色像素。另外，在這些基板上，還可以根據(jù)需要設(shè)置底涂層用來改善與上部層之間的密合性、防止物質(zhì)擴散或使基板表面平坦化。從進一步發(fā)揮本發(fā)明效果的觀點出發(fā)，基板優(yōu)選大型(一邊約為lm以上)的基板。作為在基板上形成感光性黑色組合物層的方法，例如有通過涂布等在基板上賦予感光性黑色組合物的方法。作為在基板上賦予感光性黑色組合物的方法，可以使用狹縫涂布(Slitcoating)、噴墨法、旋轉(zhuǎn)涂布、流延涂布(castcoating)、輥涂布(rollcoating)、絲網(wǎng)印刷法(screenprinting)等各種賦予方法。其中，從精度和速度的觀點出發(fā)，優(yōu)選狹縫涂布。從提高涂布性的觀點出發(fā)，優(yōu)選在進行這些涂布前使用紫外線或各種洗滌液洗滌基板。此外，還可以使用將事先在臨時支撐體上通過上述賦予方法形成的涂膜轉(zhuǎn)印到基板上的方法。關(guān)于轉(zhuǎn)印方法，本發(fā)明可以優(yōu)選使用日本專利特開2006-23696號公報的段落編號、或日本專利特開2006-47592號公報的段落編號中所述的制作方法。作為轉(zhuǎn)印中使用的層壓機(laminator)，可以優(yōu)選使用WO2006-4225的圖24中記載的大型雙貼層壓機或國際申請?zhí)朖P2007/069132號公報中記載的層壓機。通過使用這些層壓機，能得到高成產(chǎn)率。將感光性黑色組合物賦予基板上時的厚度(例如涂布厚度)可以根據(jù)所形成的黑矩陣的厚度的設(shè)計值來做適當調(diào)整，一般優(yōu)選為0.2pm2.2nm，進一步優(yōu)選為0.2(im1.6|am，最優(yōu)選為0.5|Lmi1.3^im。曝光工序在曝光工序中，將在上述感光性黑色組合物層形成工序中形成的感光性黑色組合物層通過規(guī)定的掩模圖案(maskpattern)曝光，形成圖案(patterning)(負型組合物(negativecomposition)時，僅使被光照射的涂布膜部分固化)。作為能在曝光中使用的放射線，特別優(yōu)選使用g線、h線、i線等紫外線。照射量優(yōu)選為5500mJ/cm2，進一步優(yōu)選為109300mJ/cm2，最優(yōu)選為10200mJ/cm2。曝光機可以采用接近(proximity)方式的曝光機，也可以是鏡面投影(mirrorprojection)方式、步進(stepper)方式。顯影工序接著，通過進行堿顯影處理，例如當感光性黑色組合物為負型時，能使上述曝光中的光未照射部分溶于堿水溶液，僅殘留光固化的部分。作為顯影液，采用有機堿顯影液或無機堿顯影液或其混合溶液。作為顯影液中使用的堿劑，可以列舉例如氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、碳酸氫鈉、硅酸鈉、偏硅酸鈉、氨水、乙基胺、二乙基胺、二甲基乙醇胺、四甲基氫氧化鉸、四乙基氫氧化銨、膽堿(choline)、吡咯(pyrrole)、哌啶(piperidine)以及1，8-二氮雜雙環(huán)-[5、4、0]-7-十一碳烯(l，8-diazabicyclo-[5,4，0]-7-undecene)等有機堿性化合物。優(yōu)選將這些堿劑用純水稀釋至0.001質(zhì)量％10質(zhì)量％、優(yōu)選為0.01質(zhì)量％1質(zhì)量％得到的堿性水溶液作為顯影液使用。另外，當使用由上述堿性水溶液形成的顯影液時，一般在顯影后用純水洗滌(rinse)。本發(fā)明在該顯影工序后、在后述的烘烤工序前，以相對于上述感光性黑色組合物層內(nèi)的上部端使下部端位于黑矩陣的寬度方向的-3.0+3.(Him的位置的方式形成黑矩陣圖案。黑矩陣圖案的剖面形狀、特別是端部的剖面形狀可以通過曝光、顯影以及后述的預(yù)烘烤的各條件來控制。為此，首先對顯影工序后的黑矩陣圖案端部的剖面形狀進行詳細說明。另外，上述相對于感光性黑色組合物層內(nèi)的上部端的下部端的位置是指從感光性黑色組合物層的上部端向基板的法線方向延伸的線與感光性黑色組合物層的下部端之間的在黑矩陣的寬度方向的距離。當顯影后的感光性黑色組合物層為倒錐形時，該距離的值為"-"。在黑矩陣的形成工序中，將曝光后的感光性黑色組合物層進行顯影時，當感光性黑色組合物層的表面(指不與基板接觸的面；以下在黑矩陣中也同樣稱呼)以及從該表面到厚度(感光性黑色組合物層沿基板法線方向的長度)的三分之一以內(nèi)的層內(nèi)部(以下稱為"感光性黑色組合物層上部"。在黑矩陣中也同樣地將從黑矩陣的表面到厚度的三分之一以內(nèi)稱為"黑矩陣上部")的顯影的進展與感光性黑色組合物層的背面(指與基板接10觸的面；以下對黑矩陣也同樣地稱為"黑矩陣的背面")以及從該背面到相對于感光性黑色組合物層的厚度為三分之二以內(nèi)的層內(nèi)部(以下稱為"感光性黑色組合物層下部"。在黑矩陣也稱為"黑矩陣下部")的顯影的進展為同等的情況下，若將形成了感光性黑色組合物層(黑矩陣)的基板沿黑矩陣的寬度方向切割，則感光性黑色組合物層的剖面形狀例如為圖l所示的近似垂直的形狀。以下，將感光性黑色組合物層(黑矩陣)的剖面形狀作為沿黑矩陣的寬度方向切割時的剖面形狀。與此相對，與感光性黑色組合物層的表面及感光性黑色組合物層上部的顯影相比，感光性黑色組合物層的背面和感光性黑色組合物下部的顯影有時會過多或不足。當顯影過多時，感光性黑色組合物層下部呈凹陷狀態(tài)，若將形成了感光性黑色組合物層(黑矩陣)的基板沿黑矩陣的寬度方向切割，則感光性黑色組合物層的剖面形狀例如為圖2所示的倒錐形(reversetaper)。另一方面，當顯影不足時，感光性黑色組合物層下部呈突出狀態(tài)，若將形成了感光性黑色組合物層(黑矩陣)的基板沿黑矩陣的寬度方向切割，則感光性黑色組合物層的剖面形狀例如為圖3所示的錐形(forwardtaper)。在該顯影工序后、后述的烘烤工序前，當感光性黑色組合物層的剖面形狀為圖2所示的倒錐度大的形狀時，在顯影工序中，上部的突出部易缺損，容易產(chǎn)生黑矩陣平面形狀缺陷。因此，倒錐形的大小優(yōu)選為3pm以下。即，相對于感光性黑色組合物層內(nèi)的上部端，下部端優(yōu)選位于-3.00pm的位置。另外，當感光性黑色組合物層的剖面形狀為圖3所示的錐度大的形狀時，由于顯影不足而容易在應(yīng)除去感光性黑色組合物層的部分殘留殘渣。因此，錐形的大小優(yōu)選為3pm以下。即，相對于感光性黑色組合物層內(nèi)的上部端，下部端優(yōu)選位于03.0pm的位置。因此，最優(yōu)選的形狀是上述圖1所示的感光性黑色組合物層的端部為近似垂直的形狀。優(yōu)選在顯影后，如上所述為近似垂直的形狀，在之后的后烘烤時受熱，形成圓弧狀的剖面形狀。實際應(yīng)用中，由于工序的不均等而多少存在變動，只要顯影后的感光性黑色組合物層的形狀為下部端相對于上部端位于黑矩陣的寬度方向的-3.0+3.0pm的位置的剖面形狀就沒有問題，更優(yōu)選為下部端相對于上部端位于-2.0+2.0pm的位置的剖面形狀。為了在該顯影工序后、后述烘烤工序前使上述感光性黑色組合物層的端部為圖l所示的垂直剖面形狀，適當調(diào)節(jié)顯影條件很重要。通過改變顯影條件，能調(diào)節(jié)剖面形狀。大致而言，在與常用的顯影條件相比略強的條件下進行顯影時，為倒錐形，反之在略弱的條件下進行顯影時，為錐形。更強的條件是指更高的溫度、更長的時間、更多的流量、更高的沖洗壓等。另一方面，更弱的條件是指更低的溫度、更短的時間、更少的流量、更低的沖洗壓等。其中，溫度和時間的調(diào)節(jié)特別重要。具體而言，從能以良好的精度調(diào)節(jié)剖面形狀的觀點出發(fā)，顯影溫度優(yōu)選為20。C35。C，進一步優(yōu)選為20。C30。C。顯影時間優(yōu)選為20秒120秒，進一步優(yōu)選為30秒70秒。其中，作為顯影溫度與顯影時間的優(yōu)選組合，可以列舉例如在溫度23'C下為40秒70秒的組合、在溫度25'C下為30秒60秒的組合。關(guān)于沖洗壓，從能防止黑矩陣缺損的觀點出發(fā)，優(yōu)選為0.01MPa0.5MPa，進一步優(yōu)選為0.05MPa0.3MPa，更優(yōu)選為0.1MPa0.3MPa。為了更精細地調(diào)節(jié)剖面形狀，優(yōu)選在黑矩陣形成工序中追加后述的后烘烤工序。烘烤工序接著，對黑矩陣圖案實施稱為烘烤處理(后烘烤)的加熱處理。烘烤是用于使感光性黑色組合物完全固化的顯影后的加熱處理，通常進行15(TC26(TC的熱固化處理。烘烤溫度優(yōu)選為150°C260°C，進一步優(yōu)選為180°C260°C，最優(yōu)選為200°C240°C。烘烤時間優(yōu)選為10分鐘150分鐘，進一步優(yōu)選為20分鐘120分鐘，最優(yōu)選為30分鐘90分鐘。在上述顯影工序后，將上述感光性黑色組合物層的端部近似圖1所示的垂直剖面形狀的組合物層在上述條件下烘烤，剖面形狀能調(diào)節(jié)至近似圖4所示的圓弧形狀。通過烘烤處理對顯影后的感光性黑色組合物進行加熱，在感光性黑色組合物完全固化前，由于臨時處于粘度低的狀態(tài)，因此邊緣(edge)部在表面張力的作用下巻曲，然后通過固化，形成上述形狀。由該顯影后的加熱引起的邊緣的巻曲容易度(以下有時稱為"熱塌邊(日語原文熱夕'^)")會隨感光性黑色組合物的組成和預(yù)烘烤條件、曝光條件或顯影條件而變化。一般而言，在感光性黑色組合物的組成比中，與后述的粘合劑聚合物(binderpolymer)相比，遮光劑的濃度越低，感光性黑色組合物越容易熱塌邊，遮光劑的濃度越高，感光性黑色組合物越難熱塌邊。例如，當烘烤后的膜厚為1.4pm時，可以優(yōu)選使用OD(黑矩陣的光學濃度)為4.1的遮光劑濃度。與此相比，當烘烤后的膜厚為1.0Mm時，在OD為4.1的遮光劑濃度下，不易發(fā)生熱塌邊。作為產(chǎn)生熱塌邊的其他方法，可以列舉在單體的組成上下功夫。例如，如日本專利特開2004-163917號公報所述，作為單體，可以優(yōu)選使用3官能以上的單體與2官能單體的混合物。預(yù)烘烤溫度越低、預(yù)烘烤溫度越短，越容易熱塌邊，預(yù)烘烤溫度越高、預(yù)烘烤時間越長，越不易熱塌邊，曝光強度越弱，越容易熱塌邊，曝光強度越強，越不易熱塌邊，顯影條件越弱，越容易熱塌邊，顯影條件越強，越不易熱塌邊。后烘烤溫度略低且時間長，則容易熱塌邊，溫度高且時間短則不易熱塌邊。如圖4所示，將從烘烤后的平坦的黑矩陣表面圓弧起始的點為P點，將其與表示黑矩陣的水平方向末端的Q點之間的水平方向的距離作為錐形長度，該錐形長度優(yōu)選為2.0pm15.0pm，該錐形長度更優(yōu)選為2.5pm10.0pm。另外，Q點優(yōu)選位于與基板接觸的部分或其附近的層內(nèi)下部。圖5表示在形成了具有上述范圍的錐形長度的黑矩陣的基板上形成著色像素時的剖面圖。如此即可抑制黑矩陣與著色像素的重疊部的凸起。關(guān)于烘烤處理，可以在上述條件下使用加熱板(hotplate)、對流烤箱(convectionoven)(熱風循環(huán)式干燥機)或高頻加熱機等加熱裝置以連續(xù)式或間歇(bath)式對顯影后的感光性黑色組合物層進行烘烤處理。其他工序在本發(fā)明的黑矩陣形成工序中，在上述感光性黑色組合物層形成工序后、上述曝光工序前，還可以加入預(yù)烘烤工序。另外，在上述顯影工序后、上述烘烤(后烘烤)工序前，還可以根據(jù)需要含有通過曝光將形成的黑矩陣固化的工序。預(yù)烘烤工序13如上所述，為了調(diào)節(jié)黑矩陣顯影后的剖面形狀，除了調(diào)節(jié)黑矩陣形成工序中的曝光和/或顯影的條件，還優(yōu)選適當調(diào)節(jié)預(yù)烘烤條件。在本發(fā)明的黑矩陣形成工序中，與常用的預(yù)烘烤條件相比，若在低溫下進行，則形成倒錐形，若在高溫下進行，則形成錐形。具體而言，當用加熱板進行預(yù)烘烤時，預(yù)烘烤溫度優(yōu)選為65°C120°C。在65t:以上時，能防止在顯影工序中感光性黑色組合物層剝離，在12(TC以下時，能使感光性黑色組合物層下部的顯影處于進行的狀態(tài)。更優(yōu)選為70°C100°C，最優(yōu)選為75。C9(TC。烘烤時間優(yōu)選為50秒300秒，進一步優(yōu)選為90秒200秒，最優(yōu)選為100秒180秒。在上述條件下進行預(yù)烘烤，易于調(diào)節(jié)感光性黑色組合物層顯影后的剖面形狀。另外，預(yù)烘烤也可以在烘箱內(nèi)進行，此時也可以通過適當設(shè)定與上述相同的預(yù)烘烤條件，來調(diào)節(jié)顯影后的剖面形狀。著色圖案形成工序在本發(fā)明的著色圖案形成工序中，至少通過在形成了烘烤后的感光性黑色組合物層(黑矩陣)的基板上使用感光性著色組合物形成感光性著色組合物層(感光性著色組合物層形成工序)、將上述感光性著色組合物層曝光(著色層曝光工序)、將曝光后的上述感光性著色組合物層顯影(著色層顯影工序)、將顯影后的上述感光性著色組合物層烘烤(著色層烘烤工序)，來形成該烘烤后的與上述黑矩陣相重疊的重疊(overlap)部在黑矩陣寬度方向的長度為1.0)im12pm的著色圖案。在著色圖案形成工序中，除上述工序外，還可以根據(jù)需要設(shè)置預(yù)烘烤工序等其他工序。首先，對上述"重疊"進行說明。重疊在形成了黑矩陣的基板上涂布感光性著色組合物等來形成著色圖案(著色像素)時，為了避免在黑矩陣與著色像素之間產(chǎn)生間隙，通常以感光性著色組合物與黑矩陣重合的方式使感光性著色組合物略微覆蓋(重疊)黑矩陣來形成著色像素。本發(fā)明不僅對上述黑矩陣顯影后的剖面形狀進行調(diào)節(jié)，還將重疊部的長度調(diào)節(jié)到1.(Him12pm，能得到高品質(zhì)的濾色器和液晶顯示裝置。上述"重疊部的長度"是指使用感光性著色組合物層形成的著色圖案與黑矩陣重疊的重疊部在黑矩陣寬度方向的長度。利用圖對其進行更詳細的說明。圖6是表示在形成了黑矩陣4的基板2上涂布感光性著色組合物等形成感光性著色組合物層6而由黑矩陣4與感光性著色組合物層6相重疊形成重疊部8的狀態(tài)的濾色器的局部剖面圖。這里，重疊部8為長度b的區(qū)域，重疊部8的長度b可以作為下述的距離(長度)來求得，所述距離為黑矩陣4的在寬度方向上與感光性著色組合物層6對峙的一側(cè)的最外端S與按照與黑矩陣4重疊的方式設(shè)置的感光性著色組合物層6的位于黑矩陣4上的最外端T之間的、黑矩陣4的在寬度方向上的距離。實際上，在求重疊部8的長度b時，可以將濾色器沿黑矩陣4的圖案的長度方向垂直的方向切割，由其剖面來測定。從減小重疊部的凸起(優(yōu)選為0.50|am以下)的觀點出發(fā)，上述重疊部8的長度b優(yōu)選為1.0|im12pm，進一步優(yōu)選為1.0jmi10nm，最優(yōu)選為2.0|im8.0nm。通過使上述重疊部8的長度b為12Mm以下，能在大型基板(一邊的長度為lm以上)上穩(wěn)定地制造濾色器和顯示裝置。通過改變感光性著色組合物層的曝光圖案位置和顯影條件，可以調(diào)節(jié)重疊部8的長度b。具體而言，曝光圖案與黑矩陣的交疊量越少，能使重疊量越少。另外，顯影條件越弱，例如顯影溫度越低或顯影時間越短，可以使重疊量越大。更具體而言，為了使上述重疊部8的長度b為1.0jim12pm，優(yōu)選將曝光圖案與黑矩陣的交疊部分在黑矩陣的寬度方向的距離(長度)設(shè)定為3.0nm8.0nm。顯影溫度優(yōu)選為20°C35°C，進一步優(yōu)選為20°C30°C。顯影時間優(yōu)選為20秒120秒，進一步優(yōu)選為30秒70秒。作為上述各條件的優(yōu)選組合，優(yōu)選曝光圖案與黑矩陣的交疊部分的長度為2.0nm10^im、顯影溫度為20°C35°C、顯影時間為20秒120秒的組合。更優(yōu)選的組合為曝光圖案與黑矩陣的交疊部分的長度為3.0pm8.0pm、顯影溫度為20。C30。C、顯影時間為30秒70秒的組合。如上所述，在黑矩陣與感光性著色組合物層的重疊部，以黑矩陣與感光性著色組合物層部分重疊的方式使感光性著色組合物覆蓋黑矩陣，因此該部分成為凸起的狀態(tài)。通過減小該重疊部的凸起的程度，可以抑制液晶取向的紊亂或漏光，得到高品質(zhì)的圖像。用圖對重疊部的凸起進行說明。圖7是表示在形成了黑矩陣4的基板2上涂布感光性著色組合物等形成感光性著色組合物層、進行曝光和顯影等、形成著色圖案6、在黑矩陣4與著色圖案6相重疊的重疊部8產(chǎn)生凸起的狀態(tài)的濾色器的局部剖面圖。上述"重疊部的凸起的程度"更具體而言是指著色圖案6的表面中，上述重疊部8距離基板2表面(基板2的與黑矩陣4和著色圖案6相接觸的面)最遠的部分與上述重疊部8以外的平坦表面部分之間的在基板法線方向上的距離。換言之，上述"重疊部的凸起的程度"是指從距離c減去距離d得到的距離e，距離c是基板2表面與著色圖案6的表面中重疊部8的距離基板2表面最遠的部分之間的在基板法線方向上的距離，距離d是基板2表面與著色圖案6的表面中重疊部8以外的部分之間的在基板法線方向上的距離。以下，將上述距離e稱為"凸起的高度"。從獲得高品質(zhì)圖像的觀點出發(fā)，凸起的高度優(yōu)選為0.5(Him以下，更優(yōu)選為0.4nm以下，最優(yōu)選為0.25|_im以下。通過如上所述那樣將該凸起的高度控制得較低，在制作濾色器進行圖像顯示時，能抑制液晶取向的紊亂或漏光，能得到高品質(zhì)的圖像。凸起的高度可以通過適當調(diào)節(jié)黑矩陣烘烤后的剖面形狀(即錐形長度)和重疊部的長度、黑矩陣的厚度來進行調(diào)節(jié)。上述錐形長度和重疊部8的長度b、黑矩陣的厚度的優(yōu)選組合為錐形長度為2.0nm15|im、重疊部的長度為1.(Him12pm、黑'矩陣的厚度為0.2nm1.5]am。更優(yōu)選的組合為錐形長度為2.5pm10|iim、重疊部8的長度為2.5pm8.5nm、黑矩陣的厚度為0.5nm1.3pm。接著，對在本發(fā)明的著色圖案形成工序中進行的各種工序進行說明。感光性著色組合物層形成工序在感光性著色組合物層形成工序中，在形成了烘烤后的感光性黑色組合物層(黑矩陣)的基板上使用感光性著色組合物形成感光性著色組合物層。16作為在形成了黑矩陣的基板上形成感光性著色組合物層的方法，可以使用與在基板上形成感光性黑色組合物層的方法相同的方法即涂布方法或轉(zhuǎn)印方法。其中，從能進一步發(fā)揮本發(fā)明效果的觀點出發(fā)，優(yōu)選使用狹縫涂布器(slitcoater)等在形成了黑矩陣的基板面上涂布感光性著色組合物的方法。為了獲得充分的色重現(xiàn)區(qū)域并獲得充分的面板亮度，感光性著色組合物層的層厚優(yōu)選為0.5jLim3.0|im，進一步優(yōu)選為1.(Him2.5nm的范圍。著色層曝光工序在著色層曝光工序中，將上述感光性著色組合物層曝光。關(guān)于感光性著色組合物層的曝光處理，可以與感光性黑色組合物層的曝光工序同樣地進行。當形成多種顏色的著色圖案時，隔著各色用的規(guī)定的掩模圖案，按各色進行曝光，圖案形成光照射后的各色感光性著色組合物層(負型的感光性著色組合物時僅使光照射部分固化)。著色層顯影工序在著色層顯影工序中，將曝光后的上述感光性著色組合物層顯影。關(guān)于曝光后的感光性著色組合物層的顯影處理，可以進行與感光性黑色組合物層的顯影工序的說明中所述的操作相同的操作，可以優(yōu)選使用在上述顯影工序中所述的顯影液。作為顯影條件，為了調(diào)節(jié)在黑矩陣與著色像素的重疊部產(chǎn)生的重疊部的長度和凸起的高度，優(yōu)選采用在上述重疊的說明中所述的顯影條件將感光性著色組合物層顯影。著色層烘烤工序在著色層烘烤工序中，將顯影后的上述感光性組合物層烘烤。關(guān)于將顯影后的感光性著色組合物層烘烤的方法，可以采用與上述感光性黑色組合物層的烘烤工序同樣的方法。另外，當形成RGB(紅、綠、藍)3色相等多種色相的著色圖案時，可以按所需的色相數(shù)反復(fù)進行感光性著色組合物層的形成、曝光、顯影和烘烤的循環(huán)，也可以按各色相進行感光性組合物層的形成、曝光和顯影后，最后對全部色相一起進行烘烤。由此，制作具有黑矩陣和由所需色相形成的著色像素的濾色器。其他工序在著色圖案形成工序中，也可以在感光性著色組合物層形成工序后、著色層曝光工序前設(shè)置將感光性著色組合物層預(yù)烘烤的工序(著色層預(yù)烘烤工序)以使感光性著色組合物干燥。感光性著色組合物層的預(yù)烘烤溫度優(yōu)選為60°C140°C，進一步優(yōu)選為80°C120°C。預(yù)烘烤時間優(yōu)選為30秒300秒，進一步優(yōu)選為80秒200秒。接著，對本發(fā)明的濾色器制造方法中使用的感光性著色組合物以及感光性黑色組合物進行詳細說明。感光性著色組合物本發(fā)明的濾色器的著色圖案形成中使用的感光性著色組合物是放射線敏感性組合物(例如為負型組合物時，為通過光照射而固化的放射線敏感性組合物)，優(yōu)選含有(A-l)著色劑、(B)粘合劑聚合物、(C-l)聚合性化合物、(D)光聚合引發(fā)劑和(E)溶劑，還可以根據(jù)需要含有高分子分散劑或表面活性劑等其他添加物。(A-l)著色劑著色劑可以從染料和顏料中適當選擇。作為著色劑使用的顏料可以是無機顏料，也可以是有機顏料，考慮到優(yōu)選為高透射率時，優(yōu)選粒子尺寸盡量小的顏料。平均粒子尺寸優(yōu)選為10nm100nm，更優(yōu)選為10nm50nm的范圍。在本發(fā)明使用的感光性著色組合物中使用后述的高分子分散劑，即使在著色劑的尺寸小的情況下，顏料分散性和分散穩(wěn)定性也很好，因此即使膜厚薄也可以形成色純度優(yōu)異的著色像素。作為能用作著色圖案(著色像素)形成用著色劑的無機顏料的例子，可以列舉金屬氧化物和金屬絡(luò)合物等金屬化合物。作為具體例子，可以列舉鐵、鈷、鋁、鎘、鉛、銅、鈦、鎂、鉻、鋅、銻等的金屬氧化物以及上述金屬的復(fù)合氧化物等。作為有機顏料，可以列舉例如C.I.顏料黃(C丄PigmentYellow)11、24、31、53、83、93、99、108、109、110、138、139、147、150、151、154、155、167、180、185、199;C.I.顏料橙36、38、43、71;C.I.顏料紅81、105、122、149、150、155、171、175、176、177、209、220、224、242、254、255、264、270;C丄顏料紫19、23、32、37、39;C.I.顏料藍1、2、15、15:1、15:3、15:6、16、22、60、66;C丄顏料綠7、36、37;C.I.顏料棕25、28;C.I.顏料黑1等。本發(fā)明進一步優(yōu)選下述顏料，但并無特殊限制C.I.顏料黃ll、24、108、109、110、138、139、150、151、154、167、180、185;C.I.顏料橙36、71;C丄顏料紅122、150、171、175、177、209、224、242、254、255、264;C丄顏料紫19、23、37;C丄顏料藍15:1、15:3、15:6、16、22、60、66;C丄顏料綠7、36、37。這些有機顏料可以單獨使用或為了提高色純度而多種組合使用。組合的具體例子如下所示。例如，作為紅色相(R)用顏料，可以單獨使用蒽醌(anthmquinone)顏料、茈(perylene)顏料、二酮基吡咯并吡咯(diketopyrrolopyrrole)顏料或?qū)⑺鼈冎械闹辽?種與雙偶氮(bisazo)黃色顏料、異吲哚啉(isoindoline)黃色顏料和奎酞酮(quinophthalone)黃色顏料中的至少1種和/或茈(perylene)紅色顏料的混合等。例如，作為蒽醌顏料，可以列舉C.I.顏料紅177，作為茈顏料，可以列舉C丄顏料紅155或C.I.顏料紅224，作為二酮基吡咯并吡咯顏料，可以列舉C.I.顏料紅254，從色重現(xiàn)性的觀點出發(fā)，優(yōu)選它們中的至少1種與C.I.顏料黃139的混合。另外，從得到充分的色純度以及抑制從NTSC(NationalTelevisionSystemCommittee)基準的色相偏離的觀點出發(fā)，紅色顏料與黃色顏料的質(zhì)量比(紅色顏料黃色顏料)優(yōu)選為100:5100:50。作為上述質(zhì)量比，特別優(yōu)選100:10100:30的范圍。另外，當為紅色顏料之間的組合時，可以根據(jù)色度進行調(diào)節(jié)。作為綠色相(G)用顏料，可以單獨使用鹵化酞菁顏料，或?qū)⑵渑c雙偶氮黃色顏料、奎酞酮黃色顏料、甲亞胺(azomethine)黃色顏料或異吲哚啉黃色顏料的混合。例如，作為這樣的例子，優(yōu)選C.I.顏料綠7、36或37和C丄顏料黃83、C.I.顏料黃138、C.I.顏料黃139、C.I.顏料黃150、C丄顏料黃180或C丄顏料黃185的混合。從得到充分的色純度以及抑制從NTSC基準的色相偏離的觀點出發(fā)，綠色顏料與黃色顏料的質(zhì)量比(綠色顏料黃色顏料)優(yōu)選為100:5100:150。作為上述質(zhì)量比，特別優(yōu)選100:30100:120的范圍。作為藍色相(B)用顏料，可以單獨使用酞菁顏料或?qū)⑵渑c二噁嗪紫色顏料的混合。例如，優(yōu)選C丄顏料藍15:6與C.I.顏料紫23的混合。藍色顏料與紫色顏料的質(zhì)量比(藍色顏料紫色顏料)優(yōu)選為100:0100:50，進一步優(yōu)選為100:5100:30。關(guān)于本發(fā)明使用的感光性著色組合物層中的(A-l)著色劑(顏料)的含量，相對于該組合物的總固體成分(質(zhì)量)，優(yōu)選為2575質(zhì)量％，進一步優(yōu)選為3270質(zhì)量％。若(A-l)著色劑(顏料)的含量在上述范圍內(nèi)，則色濃度充分并能有效地確保優(yōu)異的色特性。(B)粘合劑聚合物為了提高被膜特性和賦予顯影特性等，本發(fā)明的上述感光性著色組合物優(yōu)選含有粘合劑聚合物。作為粘合劑聚合物，可以使用下述堿可溶性樹脂。作為本發(fā)明使用的堿可溶性樹脂，可以從直鏈狀有機高分子聚合物且分子(優(yōu)選以堿共聚物或苯乙烯共聚物為主鏈的分子)中具有至少l個促進堿可溶性的基團(例如羧基、磷酸基、磺酸基或羥基等)的堿可溶性樹脂中適當選擇。作為上述堿可溶性樹脂的更優(yōu)選的例子，可以列舉側(cè)鏈具有羧酸的聚合物，例如日本專利特開昭59-44615號公報、日本專利特公昭54-34327號公報、日本專利特公昭58-12577號公報、日本專利特公昭54-25957號公報、日本專利特開昭59-53836號公報、日本專利特開昭59-71048號公20報的各公報中記載的甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、丁烯酸共聚物、馬來酸共聚物以及部分酯化馬來酸共聚物等、以及側(cè)鏈具有羧酸的酸性纖維素衍生物以及具有羥基的聚合物與酸酐的加成物等的丙烯酸共聚物。上述堿可溶性樹脂的酸值為10200mgKOH/g，優(yōu)選為30180mgKOH/g，更優(yōu)選為50150mgKOH/g的范圍。作為堿可溶性樹脂的具體的結(jié)構(gòu)單元，特別優(yōu)選(甲基)丙烯酸和能與其共聚的其他單體的共聚物。作為上述能與(甲基)丙烯酸共聚的其他單體的例子，可以列舉(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸芳基酯以及乙烯基化合物等。這里，垸基和芳基的氫原子可以被取代基取代。作為上述(甲基)丙烯酸垸基酯和(甲基)丙烯酸芳基酯的例子，可以列舉由CH^C(R1)(COOR3)表示的化合物，這里，R'表示氫原子或碳原子數(shù)為15的烷基，113表示碳原子數(shù)為18的烷基或碳原子數(shù)為612的芳烷基。作為具體例子，可以列舉(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸芐酯、(甲基)丙烯酸甲苯酯、(甲基)丙烯酸萘酯、(甲基)丙烯酸環(huán)己酯、(甲基)丙烯酸羥基垸基酯(垸基是碳原子數(shù)為18的烷基)、甲基丙烯酸羥基縮水甘油酯和甲基丙烯酸氫糠酯等。另外，分子側(cè)鏈具有聚環(huán)氧烷鏈的樹脂也可以作為堿可溶性樹脂的優(yōu)選例子來列舉。作為上述聚環(huán)氧烷鏈，可以釆用聚氧乙烯鏈、聚環(huán)氧丙烷鏈或聚四亞甲基二醇鏈或?qū)⑺鼈兒嫌?，末端為氫原子、直鏈或支鏈的烷基。聚氧乙烯鏈?或聚環(huán)氧丙垸鏈的重復(fù)單元優(yōu)選為120，進一步優(yōu)選為212。作為側(cè)鏈具有聚環(huán)氧垸鏈的丙烯酸共聚物的例子，可以列舉以聚乙二醇(甲基)丙烯酸一酯、聚丙二醇(甲基)丙烯酸一酯以及聚(乙二醇-丙二醇)(甲基)丙烯酸一酯以及它們的末端OH基被垸基封鏈后的化合物例如甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸一酯、乙氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸一酯以及甲氧基聚(乙二醇-丙二醇)(甲基)丙烯酸一酯等為共聚成分的丙烯酸共聚物。21作為上述乙烯基化合物的例子，可以列舉由CH尸CR'R2表示的化合物，這里，R'表示氫原子或碳原子數(shù)為15的垸基，W表示碳原子數(shù)為610的芳香族烴環(huán)。作為具體例子，可以列舉苯乙烯、(x-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、丙烯腈、乙酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯垸酮、聚苯乙烯大分子單體、聚甲基丙烯酸甲酯大分子單體等。能共聚的其他單體可以單獨使用l種，或2種以上組合使用。其中，特別優(yōu)選(甲基)丙烯酸芐酯/(甲基)丙烯酸共聚物以及(甲基)丙烯酸芐酯/(甲基)丙烯酸/其他單體形成的多元共聚物。如上所述，丙烯酸類樹脂具有20200mgKOH/g的范圍的酸值。若酸值在200以下，則丙烯酸類樹脂在堿中的溶解性不會過大，能防止顯影適宜范圍(顯影寬容度(latitude))變窄。另一方面，若在20以上，則由于在堿中的溶解性不易減小，能防止顯影時間的長時間化。關(guān)于丙烯酸類樹脂的重均分子量Mw(用GPC法(凝膠滲透色譜法)測定的聚苯乙烯換算值)，為了實現(xiàn)易于在涂布感光性著色組合物等工序上使用的粘度范圍，并確保膜強度，優(yōu)選為2000100000，進一步優(yōu)選為300050000。為了提高本發(fā)明的感光性著色組合物的交聯(lián)效率，可以單獨使用通過賦予堿可溶性樹脂聚合性基團而得到的樹脂或與不含聚合性基團的堿可溶性樹脂合用。作為通過賦予堿可溶性樹脂聚合性基團而得到的樹脂的例子，可以列舉側(cè)鏈含有芳基、(甲基)丙烯基或芳氧基垸基等的聚合物。具有聚合性雙鍵的堿可溶性樹脂能在堿顯影液中顯影，還具有光固化性和熱固化性。這些含有聚合性基團的聚合物的例子如下所示，只要在l分子中含有COOH基或OH基等堿可溶性基團和碳-碳不飽和鍵即可，不限于下述物質(zhì)。(1)事先使異氰酸酯基與OH反應(yīng)并殘留1個未發(fā)應(yīng)的異氰酸酯基且含有至少i個(甲基)丙烯?；幕衔锱c含有羧基的丙烯酸樹脂反應(yīng)得到的氨基甲酸乙酯改性的含聚合性雙鍵丙烯酸樹脂、(2)含有羧基的丙烯酸樹脂與分子內(nèi)具有環(huán)氧基和聚合性雙鍵的化合物的反應(yīng)得到的含不飽和基的丙烯酸樹脂、(3)ACID-PENDANT型環(huán)氧丙烯酸酯樹脂、22(4)含有OH基的丙烯酸樹脂與具有聚合性雙鍵的二元酸酐反應(yīng)得到的含聚合性雙鍵丙烯酸樹脂。上述樹脂中特別優(yōu)選(1)和(2)的樹脂。作為具體例子，可以列舉例如使具有OH基的丙烯酸-2-羥乙酯與例如具有COOH基的甲基丙烯酸、能與它們共聚的丙烯酸化合物或乙烯基化合物等單體的共聚物與含有對OH基具有反應(yīng)性的環(huán)氧環(huán)和碳碳不飽和鍵的化合物(例如丙烯酸縮水甘油酯等化合物)反應(yīng)得到的化合物等。在與OH基的反應(yīng)中，除環(huán)氧環(huán)外，還可以使用酸酐、具有異氰酸酯基或丙烯?；幕衔铩Ａ硗?，還可以使用日本專利特開平6-102669號公報、日本專利特開平6-1938號公報中記載的由具有環(huán)氧環(huán)的化合物和丙烯酸之類的不飽和羧酸反應(yīng)得到的化合物與飽和或不飽和多元酸酐反應(yīng)得到的反應(yīng)物。作為兼具COOH基之類的堿可溶性基團和碳碳不飽和基團的化合物，可以列舉例如DIANALNR系列(三菱麗陽株式會社(MitsubishiRayonCo.,Ltd.)制)；Photomer6173(含COOH基的聚氨酯丙烯酸低聚物、DiamondShamrockCo丄td.制)；VISCOTER-264、KS抗蝕劑106(均為大阪有機化學工業(yè)株式會社(OsakaOrganicChemicalIndustryLtd.)制)；CYCLOMERP系列、PLACCELCF200系列(均為大賽璐化學工業(yè)株式會社(DICELChemicalIndustries,Ltd.)制)；Ebecryl3800(DAICEL-CYTECCOMPANYLtd.制)等。堿可溶性樹脂的添加量優(yōu)選為感光性著色組合物層的總固體成分中的330質(zhì)量％的范圍，進一步優(yōu)選為520質(zhì)量％。在感光性著色組合物的制備時，作為粘合劑聚合物，除上述堿可溶性樹脂外，優(yōu)選進一步添加下述環(huán)氧樹脂。作為環(huán)氧樹脂，可以列舉雙酚(bisphenol)A型環(huán)氧樹脂、甲酚線型酚醛(cresolnovolac)型環(huán)氧樹脂、聯(lián)苯(biphenyl)型環(huán)氧樹脂以及脂環(huán)式環(huán)氧化合物等分子中具有2個以上環(huán)氧環(huán)的化合物。例如，作為雙酚A型環(huán)氧樹脂的例子，可以列舉EPOTOHTOYD-115、YD-U8T、YD-127、YD-128、YD-134、YD-8125、YD-7011R、ZX-1059、YDF-8170、YDF-170等(以上均為東都化成株式會社(TohtoKaseiCo.,23Ltd.)制)、DENACOLEX-1101、EX-1102、EX-1103等(以上均為NagaseChemteXCorporation)制)、PLACCELGL-61、GL隱62、GlOl、G102(以上均為大賽璐化學工業(yè)株式會社制)等。此外，作為可以使用的環(huán)氧樹脂，還可以列舉與它們類似的雙酚F型環(huán)氧樹脂以及雙酚S型環(huán)氧樹脂。另夕卜，Ebecryl3700、3701、600(以上均為DAICEL-CYTECCOMPANYLtd.制)等的環(huán)氧丙烯酸酯也可以使用。作為甲酚線型酚醛型環(huán)氧樹脂的例子，可以列舉EPOTOHTOYDPN-638、YDPN-701、YDPN-702、YDPN-703、YDPN-704等(以上均為東都化成株式會社制)、DENACOLEM-125等(以上為長瀨化成制)。作為聯(lián)苯型環(huán)氧樹脂的例子，可以列舉3，5，3'，5'-四甲基-4，4'-二縮水甘油基聯(lián)苯等。作為脂環(huán)式環(huán)氧化合物的例子，可以列舉CELLOXIDE2021、2081、2083、2085、EPOLEADGT-301、GT-302、GT-401、GT-403、EHPE-3105(以上為大賽璐化學工業(yè)株式會社制)、SANTOHTOST-3000、ST-4000、ST-5080、ST-5100等(以上為東都化成株式會社制)、Epiclon430、Epiclon673、Epiclon695、Epiclon850S、Epiclon4032(以上為大日本油墨化學工業(yè)株式會社(DICCorporation)制)等。另外，還可以使用1，1，2，2-四(對氧化縮水甘油基苯基)乙垸、三(對氧化縮水甘油基苯基)甲垸、三縮水甘油基三(羥乙基)異氰酸酯、鄰苯二甲酸二縮水甘油基酯、對苯二甲酸二縮水甘油基酯、作為胺型環(huán)氧樹脂的EPOTOHTOYH-434和YH-434L以及在雙酚A型環(huán)氧樹脂的骨架中經(jīng)過二聚酸改性的縮水甘油酯等。其中，優(yōu)選的樹脂為"分子量/環(huán)氧環(huán)的數(shù)量"為100以上的樹脂，進一步優(yōu)選為130500。若"分子量/環(huán)氧環(huán)的數(shù)量"小，則固化性高，固化時的收縮大，若過大，則固化性不足，可靠性欠佳，平坦性變差。作為優(yōu)選的化合物的具體例子，可以列舉EPOTOHTOYD-115、118T、127、YDF-170、YDPN陽638、YDPN-701、PLACCELGL-61、GL-62、3，5，3，，5'-四甲基-4，4，-二縮水甘油基聯(lián)苯、CELLOXIDE2021、2081、EPOLEADGT-302、GT-403、EHPE-3105等。(C-l)聚合性化合物本發(fā)明使用的感光性著色組合物優(yōu)選含有(C-l)聚合性化合物。本發(fā)明能使用的聚合性化合物從具有至少1個烯屬性不飽和雙鍵的加成聚合性化合物且具有至少1個、優(yōu)選2個以上末端烯屬性不飽和鍵的化合物中選擇。這種化合物組在本領(lǐng)域廣為人知，在本發(fā)明中均可以使用而無特殊限制。它們例如可以是單體、預(yù)聚物(即二聚物或三聚物)以及低聚物或它們的混合物以及它們的共聚物等化學形態(tài)。作為單體及其共聚物的例子，可以列舉不飽和羧酸(例如丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、丁烯酸、異丁烯酸、馬來酸等)及其酯類和酰胺類。優(yōu)選使用不飽和羧酸與脂肪族多元醇化合物的酯類、或不飽和羧酸與脂肪族多元胺化合物的酰胺類。另外，還優(yōu)選使用具有羥基、氨基或巰基等親核性取代基的不飽和羧酸酯類或酰胺類與單官能或多官能異氰酸酯類或單官能或多官能環(huán)氧類的加成反應(yīng)產(chǎn)物以及上述不飽和羧酸酯類或酰胺類與單官能或多官能羧酸的脫水縮合反應(yīng)產(chǎn)物等。另外，還優(yōu)選具有異氰酸酯基或環(huán)氧基等親電性取代基的不飽和羧酸酯或酰胺類與單官能或多官能醇類、胺類或硫醇類的加成反應(yīng)物以及具有鹵基或甲苯磺酰氧基等離去性取代基的不飽和羧酸酯類或酰胺類與單官能或多官能醇類、胺類或硫醇類的取代反應(yīng)物。作為其他例子，還可以使用將上述不飽和羧酸置換成不飽和膦酸、苯乙烯或乙烯基醚等而得到的化合物組。作為脂肪族多元醇化合物與不飽和羧酸的酯的單體的具體例子，作為丙烯酸酯，可以列舉乙二醇二丙烯酸酯、三甘醇二丙烯酸酯、1，3-丁二醇二丙烯酸酯、四亞甲基二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(丙烯酰氧基丙基)醚、三羥甲基乙烷三丙烯酸酯、己二醇二丙烯酸酯、1，4-環(huán)己二醇二丙烯酸酯、四甘醇二丙烯酸酯、季戊四醇二丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇二丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、山梨糖醇三丙烯酸酯、山梨糖醇四丙烯酸酯、山梨糖醇五丙烯酸酯、山梨糖醇六丙烯酸酯、三(丙烯酰氧基乙基)異氰酸酯、聚酯丙烯酸酯低聚物以及三聚異氰酸EO改性三丙烯酸酯等；作為甲基丙烯酸酯，可以列舉四亞甲基二醇二甲基丙烯酸酯、三甘醇二甲基丙烯酸酯、新戊二醇二甲基丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三甲基丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、1，3-丁二醇二甲基丙烯酸酯、己二醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、季戊四醇四25甲基丙烯酸酯、二季戊四醇二甲基丙烯酸酯、二季戊四醇六甲基丙烯酸酯、山梨糖醇三甲基丙烯酸酯、山梨糖醇四甲基丙烯酸酯、雙〔對-(3-甲基丙烯酰氧基-2-羥基丙氧基)苯基)二甲基甲烷以及雙〔對-(甲基丙烯酰氧基乙氧基)苯基〕二甲基甲垸等；作為衣康酸酯，可以列舉乙二醇二衣康酸酯、丙二醇二衣康酸酯、1，3-丁二醇二衣康酸酯、1，4-丁二醇二衣康酸酯、四亞甲基二醇二衣康酸酯、季戊四醇二衣康酸酯以及山梨糖醇四衣康酸酯等；作為丁烯酸酯，可以列舉乙二醇二丁烯酸酯、四亞甲基二醇二丁烯酸酯、季戊四醇二丁烯酸酯以及山梨糖醇四丁烯酸酯等；作為異丁烯酸酯，可以列舉乙二醇二異丁烯酸酯、季戊四醇二異丁烯酸酯以及山梨糖醇四異丁烯酸酯等；作為馬來酸酯，可以列舉乙二醇二馬來酸酯、三甘醇二馬來酸酯、季戊四醇二馬來酸酯以及山梨糖醇四馬來酸酯等。作為其他酯的例子，優(yōu)選使用例如日本專利特公昭51-47334號公報、日本專利特開昭57-196231號公報中記載的脂肪族醇系酯類、日本專利特開昭59-5240號公報、日本專利特開昭59-5241號公報、日本專利特開平2-226149號公報中記載的具有芳香族系骨架的酯、日本專利特開平1-165613號公報中記載的含有氨基的酯等。此外，上述酯單體還可以作為混合物使用。作為脂肪族多元胺化合物與不飽和羧酸的酰胺的單體的具體例子，可以列舉亞甲基雙丙烯酰胺、亞甲基雙甲基丙烯酰胺、1，6-六亞甲基雙丙烯酰胺、1，6-六亞甲基雙甲基丙烯酰胺、二亞乙基三胺三丙烯酰胺、亞二甲苯基雙丙烯酰胺以及亞二甲苯基雙甲基丙烯酰胺等。作為其他優(yōu)選的酰胺類單體的例子，可以列舉日本專利特公昭54-21726號公報中記載的具有亞環(huán)己基結(jié)構(gòu)的酰胺。另外，還優(yōu)選用異氰酸酯與羥基的加成反應(yīng)制造的氨基甲酸乙酯類加聚性化合物，作為其具體例子，可以列舉例如日本專利特公昭48-41708號公報中記載的、1分子中具有2個以上異氰酸酯基的聚異氰酸酯化合物與下述通式(V)表示的含有羥基的乙烯基單體加成得到的、1分子中含有2個以上聚合性乙烯基的乙烯基氨基甲酸乙酯化合物等。CH2=C(R4)COOCH2CH(R5)OH(V)(其中，W和RS分別獨立地表示H或CH3。)優(yōu)選日本專利特開昭51-37193號公報、日本專利特公平2-32293號公報、日本專利特公平2-16765號公報中記載的氨基甲酸乙酯丙烯酸酯類、日本專利特公昭58-49860號公報、日本專利特公昭56-17654號公報、日本專利特公昭62-39417號公報、日本專利特公昭62-39418號公報中記載的具有環(huán)氧乙烷類骨架的氨基甲酸乙酯化合物類。此外，通過使用日本專利特開昭63-277653號公報、日本專利特開昭63-260909號公報、日本專利特開平1-105238號公報中記載的在分子內(nèi)具有氨基結(jié)構(gòu)或硫化物結(jié)構(gòu)的加聚性化合物類，可以得到感光速度非常好的光聚合性組合物。作為其他例子，可以列舉日本專利特開昭48-64183號公報、日本專利特公昭49-43191號公報、日本專利特公昭52-30490號公報的各公報中記載的聚酯丙烯酸酯類、環(huán)氧樹脂與(甲基)丙烯酸反應(yīng)得到的環(huán)氧丙烯酸酯類等多官能丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯。另外，還可以列舉日本專利特公昭46-43946號公報、日本專利特公平1-40337號公報、日本專利特公平1-40336號公報中記載的特定的不飽和化合物、日本專利特開平2-25493號公報中記載的乙烯基磷酸類化合物等。在某些情況下，優(yōu)選使用日本專利特開昭61-22048號公報中記載的含有全氟烷基的結(jié)構(gòu)。此外，還可以使用在日本膠粘協(xié)會志(JournaIoftheAdhesionSocietyofJapan)vol.20、No.7、300308頁(1984年)中記載的光固性單體和低聚物。關(guān)于這些聚合性化合物的結(jié)構(gòu)、單獨使用還是合用、添加量等使用方法的詳細內(nèi)容可以根據(jù)最終的感光性材料的性能設(shè)計來任意設(shè)定。例如，可以基于以下的觀點來選擇。在靈敏度方面，優(yōu)選每一分子的不飽和基團含量多的結(jié)構(gòu)，多數(shù)情況下優(yōu)選2官能以上。為了提高著色圖像部即感光性著色組合物層的強度，以3官能以上的聚合性化合物為宜。此外，通過合用不同官能數(shù)和/或不同聚合性基團(例如丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、苯乙烯類化合物、乙烯基醚類化合物)的聚合性化合物來調(diào)節(jié)靈敏度和強度這兩者的方法很有效。從固化靈敏度的觀點出發(fā)，優(yōu)選使用含有2個以上(甲基)丙烯酸酯結(jié)構(gòu)的化合物，進一步優(yōu)選使用含有3個以上的化合物，最優(yōu)選使用含有4個以上的化合物。從固化靈敏度以及未曝光部的顯影性的觀點出發(fā)，優(yōu)選含有EO改性體。從固化靈敏度以及曝光部強度的觀點出發(fā)，優(yōu)選含有氨基甲27酸乙酯鍵。對于與感光性著色組合物層中的其他成分(例如粘合劑聚合物、引發(fā)劑、著色劑(顏料或染料等))的相溶性和/或分散性，加聚化合物的選擇和使用方法是重要因素。例如，使用低純度化合物或2種以上合用有時可以提高相溶性。另外，為了提高與基板的密合性，還可以選擇特定的結(jié)構(gòu)?；谝陨嫌^點，作為優(yōu)選的例子，可以列舉雙酚A二丙烯酸酯、雙酚A二丙烯酸酯EO改性體、三羥甲基丙垸三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(丙烯酰氧基丙基)醚、三羥甲基乙烷三丙烯酸酯、四甘醇二丙烯酸酯、季戊四醇二丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、山梨糖醇三丙烯酸酯、山梨糖醇四丙烯酸酯、山梨糖醇五丙烯酸酯、山梨糖醇六丙烯酸酯、三(丙烯酰氧基乙基)異氰酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯EO改性體以及二季戊四醇六丙烯酸酯EO改性體等。作為市售品，優(yōu)選氨基甲酸乙酯低聚物(urethaneolygomer)UAS-IO、UAB-140(日本制紙化學株式會社(NipponPaperChemicals)制)、DPHA(日本化藥公司(NipponKayakuCo.,Ltd.)制)、UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600(共榮社化學工業(yè)株式會社(KyoeishaChemicalCo.，Ltd.)制)。其中，進一步優(yōu)選雙酚A二丙烯酸酯EO改性體、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、三(丙烯酰氧基乙基)異氰酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯EO改性體、二季戊四醇六丙烯酸酯EO改性體以及作為市售品的DPHA(日本化藥公司制)、UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600(共榮社化學工業(yè)株式會社制)。(C-l)聚合性化合物的含量優(yōu)選為本發(fā)明的感光性著色組合物層中的總固體成分中的555質(zhì)量％，進一步優(yōu)選為1050質(zhì)量％，更優(yōu)選為1545質(zhì)量％。(D)光聚合引發(fā)劑本發(fā)明的感光性著色組合物優(yōu)選含有(D)光聚合引發(fā)劑。上述光聚合引發(fā)劑是在光的作用下分解并引發(fā)和促進上述(C-l)聚合性化合物聚合的化合物，優(yōu)選在波長300500nm的區(qū)域有吸收。另外，28上述光聚合引發(fā)劑可以單獨使用或2種以上合用。作為上述光聚合引發(fā)劑，可以列舉例如有機鹵化物、噁二唑(oxidiazole)化合物、羰基化合物、縮酮(ketal)化合物、苯偶姻(benzoin)化合物、吖啶(acridine)化合物、有機過氧化物、偶氮化合物、香豆素(coumarin)化合物、疊氮(azide)化合物、茂金屬(metallocene)化合物、六芳基雙咪唑(hexaarylbiimidazole)化合物、有機硼酸化合物、二磺酸化合物、肟酯(oximeester)化合物、鎗鹽(oniumsalt)化合物、?；?氧化物)(acylphosphineoxide)化合物。作為有機鹵化物的具體例子，可以列舉在若林等"BullChem.SocJapan"42、2924(1969)、美國專利第3905815號說明書、日本專利特公昭46-4605號公報、日本專利特開昭48-36281號公報、日本專利特開昭55-32070號公報、日本專利特開昭60-239736號公報、日本專利特開昭61-169835號公報、日本專利特開昭61-169837號公報、日本專利特開昭62-58241號公報、日本專利特開昭62-212401號公報、日本專利特開昭63-70243號公報、日本專利特開昭63-298339號公報、M.P.Hutt"JoumalofHeterocyclicChemistry"1(No3)，(1970)"中記載的化合物，特別是三鹵代甲基取代的噁二唑化合物、s-三嗪化合物。作為s-三嗪化合物的例子，更優(yōu)選在s-三嗪環(huán)上結(jié)合至少1個一、二或三-鹵素取代甲基的s-三嗪衍生物。作為具體例子，可以列舉2，4，6-三(一氯甲基)-s-三嗪、2，4，6-三(二氯甲基)-s-三嗪、2，4，6-三(三氯甲基)-s-三嗪、2-甲基-4，6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2—正丙基-4，6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(a，a，卩-三氯乙基)-4，6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-苯基-4，6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(對甲氧基苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(3，4-環(huán)氧基苯基)-4、6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(對氯苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-〔1-(對甲氧基苯基)-2，4-丁二烯基)-4，6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-苯乙烯基-4，6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(對甲氧基苯乙烯基)-4，6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(對異丙基氧基苯乙烯基)-4、6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(對甲苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-甲氧基萘基)-4，6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-苯基硫代-4，6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-芐29基硫代-4，6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、4-(o-溴-p-N，M-(二乙氧基羰基氨基)-苯基)-2，6-二(三氯甲基)-s-三嗪、2，4，6-三(二溴甲基)-s-三嗪、2，4，6-三(三溴甲基)-s-三嗪、2-甲基-4，6-雙(三溴甲基)-s-三嗪以及2-甲氧基-4，6-雙(三溴甲基)-s-三嗪等。作為噁二唑化合物的例子，可以列舉2-三氯甲基-5-苯乙烯基-l，3，4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(氰基苯乙烯基)-1，3，4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(萘-l-基)-1，3，4-噁二唑以及2-三氯甲基-5-(4-苯乙烯基)苯乙烯基-1，3，4-噁二唑等。作為羰基化合物的例子，可以列舉二苯甲酮(benzophenone)、米氏酮(Michler'sketone)、2-甲基二苯甲酮、3-甲基二苯甲酮、4-甲基二苯甲酮、2-氯二苯甲酮、4-溴二苯甲酮以及2-羧基二苯甲酮等二苯甲酮衍生物、2，2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2，2-二乙氧基苯乙酮、1-羥基環(huán)己基苯基酮、a-羥基-2-甲基苯基丙酮、l-羥基-l-甲基乙基-(p-異丙基苯基)酮、1-羥基-1-(p-十二烷基苯基)酮、2-甲基-1-(4，-(甲基硫代)苯基)-2-嗎啉代-1-丙酮、2-芐基-2-二甲基氨基-1-(4-嗎啉代苯基)-丁酮-l、2，4，6-三甲基苯甲酰-二苯基-膦氧化物、1，1，l-三氯甲基-(p-丁基苯基)酮以及2-芐基-2-二甲基氨基-4-嗎啉代苯丁酮等苯乙酮衍生物、噻噸酮(thioxanthone)、2-乙基噻噸酮、2-異丙基噻噸酮、2-氯噻噸酮、2，4-二甲基噻噸酮、2，4-二乙基噻噸酮以及2，4-二異丙基噻噸酮等噻噸酮衍生物、以及p-二甲基氨基苯甲酸乙酯和p-二乙基氨基苯甲酸乙酯等苯甲酸酯衍生物等。作為縮酮化合物的例子，可以列舉芐基二甲基縮酮和芐基-|3-甲氧基乙基乙基縮酮等。作為苯偶姻化合物的例子，可以列舉間苯偶姻異丙基醚、苯偶姻異丁基醚、苯偶姻甲基醚和鄰苯偶姻苯甲酸甲酯等。作為吖啶化合物的例子，可以列舉9-苯基吖啶、9-吡啶基吖啶、9-吡嗪基吖啶、1，2-二(9-吖啶基)乙垸、1，3-二(9-吖啶基)丙烷、1，4-二(9-吖啶基)丁浣、1，5-二(9-吖啶基)戊烷、1，6-二(9-吖啶基)己烷、1，7-二(9-吖啶基)庚烷、1，8-二(9-吖啶基)辛垸、1，9-二(9-吖啶基)壬烷、1，10-二(9-吖啶基)癸垸、1，11-二(9-吖啶基)十一烷和1，12-二(9-吖啶基)十二烷等二(9-吖啶基)烷等。作為有機過氧化物的例子，可以列舉三甲基環(huán)己酮過氧化物、乙酰丙酮過氧化物、1，1-雙(叔丁基過氧化)-3，3，5-三甲基環(huán)己烷、1，1-雙(叔丁基過氧化)環(huán)己垸、2，2-雙(叔丁基過氧化)丁烷、叔丁基過氧化物、過氧化氫異丙苯(cumenehydroperoxide)、二異丙基苯過氧化物、2，5-二甲基己烷-2，5-二過氧化氫、1，1，3，3-四甲基丁基過氧化物、過氧化叔丁基異丙苯、過氧化二異丙苯(dicumylperoxide)、2，5-二甲基-2，5-二(叔丁基過氧化)己烷、2，5-才年廿/<少/《一才年廿一K、過氧化琥珀酸、過氧化苯甲酰、2，4-二氯苯甲酰過氧化物、過氧化二碳酸二異丙酯、過氧化二碳酸二-2-乙基己酯、過氧化二碳酸二-2-乙氧基乙酯、過氧化碳酸二甲氧基異丙酯、過氧化二碳酸二(3-甲基-3-甲氧基丁基)酯、過氧化乙酸叔丁酯、過氧化新戊酸叔丁酯(tert-butylperoxypivalate)、過氧化新癸酸叔丁酯、過氧化辛酸叔丁酯、過氧化月桂酸叔丁酯、夕一、乂，力一求氺一卜、3，3，，4，4，-四(叔丁基過氧化羰基)二苯甲酮、3，3，，4，4，-四(叔己基過氧化羰基)二苯甲酮、3，3'，4，4'-四(p-異丙基異丙苯基過氧化羰基)二苯甲酮、羰基二(叔丁基過氧化二氫二鄰苯二甲酸酯)以及羰基二(叔己基過氧化二氫二鄰苯二甲酸酯)等。作為偶氮化合物的例子，可以列舉日本專利特開平8-108621號公報中記載的偶氮化合物等。作為香豆素化合物的例子，可以列舉3-甲基-5-氨基-((s-三嗪-2-基)氨基)-3-苯基香豆素、3-氯-5-二乙基氨基-((s-三嗪-2-基)氨基)-3-苯基香豆素以及3-丁基-5-二甲基氨基-((s-三嗪-2-基)氨基)-3-苯基香豆素等。作為疊氮化合物的例子，可以列舉在美國專利第2848328號說明書、美國專利第2852379號說明書以及美國專利第2940853號說明書中記載的有機疊氮化合物、2，6-雙(4-疊氮苯亞甲基)-4-乙基環(huán)己酮(BAC-E)等。作為茂金屬化合物的例子，可以列舉在日本專利特開昭59-152396號公報、日本專利特開昭61-151197號公報、日本專利特開昭63-41484號公報、日本專利特開平2-249號公報、日本專利特開平2-4705號公報、日本專利特開平5-83588號公報中記載的各種二茂鈦(titanocene)化合物例如二環(huán)戊二烯基-Ti-聯(lián)苯、二環(huán)戊二烯基-Ti-雙-2，6-二氟苯-l-基、二環(huán)戊二烯基-Ti-雙-2，4-二-氟苯-l-基、二環(huán)戊二烯基-Ti-雙-2，4，6-三氟苯-1-基、二環(huán)戊二烯基-Ti-雙-2，3，5，6-四氟苯-l-基、二環(huán)戊二烯基-Ti-雙-2，3，4，5，6-五氟苯-l-基、二-甲基環(huán)戊二烯基-Ti-雙-2，6-二氟苯-l-基、二-甲基環(huán)戊二烯基-Ti-雙-2，4，6-三氟苯-l-基、二-甲基環(huán)戊二烯基-Ti-雙-2，3，5，6-四氟苯-l-基、二-甲基環(huán)戊二烯基-Ti-雙-2，3，4，5，6-五氟苯-1-基、以及在日本專利特開平1-304453號公報和日本專利特開平1-152109號公報中記載的鐵-芳烴(arene)絡(luò)合物等。作為六芳基雙咪唑化合物的例子，可以列舉日本專利特公平6-29285號公報、美國專利第3479185號、美國專利第4311783號、美國專利第4622286號等各說明書中記載的各種化合物，作為具體例子，可以列舉2，2，-雙(o-氯苯基)-4，4，，5，5，-四苯基雙咪唑、2，2，-雙(o-溴苯基)4，4，，5，5，-四苯基雙咪唑、2，2，-雙(o，p-二氯苯基)-4，4，，5，5，-四苯基雙咪唑、2，2'-雙(o-氯苯基)-4，4'，5，5，-四(m-甲氧基苯基)雙咪唑、2，2，-雙(o，o，-二氯苯基)-4，4，，5，5，-四苯基雙咪唑、2，2，-雙(o-硝基苯基)-4，4'，5，5'-四苯基雙咪唑、2，2'-雙(o-甲基苯基)-4，4'，5，5，-四苯基雙咪唑以及2,2，-雙(o-三氟苯基)-4，4，，5，5，-四苯基雙咪唑等。作為有機硼酸鹽化合物的例子，可以列舉日本專利特開昭62-143044號公報、日本專利特開昭62-150242號公報、日本專利特開平9-188685號公報、日本專利特開平9-188686號公報、日本專利特開平9-188710號公報、日本專利特開2000-131837號公報、日本專利特開2002-107916號公報、專利第2764769號公報、日本專利特開2002-116539號公報等各公報以及Kunz，Martin"RadTech，98.ProceedingApril19-22，1998，Chicago"等中記載的有機硼酸鹽、日本專利特開平6-157623號公報、日本專利特開平6-175564號公報以及日本專利特開平6-175561號公報中記載的有機硼锍絡(luò)合物或有機硼氧锍(boronoxosulfonium)絡(luò)合物、日本專利特開平6-175554號公報以及日本專利特開平6-175553號公報中記載的有機硼碘鐵(boroniodonium)絡(luò)合物、日本專利特開平9-188710號公報中記載的有機硼轔(boronphosphonium)絡(luò)合物、以及日本專利特開平6-348011號公報、日本專利特開平7-128785號公報、日本專利特開平7-140589號公32報、日本專利特開平7-306527號公報和日本專利特開平7-292014號公報等中記載的有機硼過渡金屬配位絡(luò)合物等。作為二磺酸化合物的例子，可以列舉日本專利特開昭61-166544號公報和日本專利特開2002-328465號說明書等中記載的化合物等。作為肟酯(oximeester)化合物的例子，可以列舉在J.C.S.PerkinII(1979)1653-1660、J.C.S.PerkinII(1979)156-162、JournalofPhotopolymerScienceandTechnology(1995)202-232以及日本專利特開2000-66385號公報中記載的化合物、以及在日本專利特開2000-80068號公報和日本專利特表2004-534797號公報中記載的化合物等。作為具體實例，適合的有CibaJapanK.K制的IRGACUREOXE-01以及OXE-02等。作為鎿鹽化合物的例子，可以列舉在S.I.Schlesinger，Photogr.Sci.Eng.，18，387(1974)以及T.S.Baletal，Polymer,21，423(1980)中記載的重氮(diazonium)鹽、美國專利第4069055號說明書以及日本專利特開平4-365049號公報等中記載的銨鹽、美國專利第4069055號說明書和美國專利第4069056號說明書等各說明書中記載的鱗鹽、歐洲專利第104143號說明書、日本專利特開平2-150848號公報和日本專利特開平2-296514號公報的各公報中記載的碘鎗鹽等。本發(fā)明能優(yōu)選使用的碘鎗鹽是二芳基碘鐵鹽，從穩(wěn)定性的觀點出發(fā)，優(yōu)選被2個以上烷基、烷氧基或芳氧(arylQxy)基等給電子基所取代。'作為本發(fā)明能優(yōu)選使用的锍鹽的例子，可以列舉在歐洲專利第370693號說明書、歐洲專利第390214號說明書、歐洲專利第233567號說明書、歐洲專利第297443號說明書、歐洲專利第297442號說明書、美國專利第4933377號說明書、美國專利第4760013號說明書、美國專利第4734444號說明書、美國專利第2833827號說明書、德國專利第2904626號說明書、德國專利第3604580號說明書、德國專利第3604581號說明書的各說明書中記載的锍鹽。從穩(wěn)定性和靈敏度的觀點出發(fā)，該锍鹽優(yōu)選被吸電子基取代。吸電子基的哈密特值優(yōu)選大于0。作為優(yōu)選的吸電子基的例子，可以列舉鹵原子和羧酸等。作為其他優(yōu)選的锍鹽的例子，可以列舉三芳基锍鹽的一個取代基具有香豆素結(jié)構(gòu)或蒽醌結(jié)構(gòu)且具有300nm以上吸收的锍鹽。作為另一優(yōu)選锍鹽33的例子，還可以列舉三芳基锍鹽具有芳氧(aryloxy)基或芳硫基且具有300nm以上吸收的锍鹽。作為鎗鹽化合物的例子，可以列舉在J.V.Crivelloetal，Macromolecules，10(6)，1307(1977)以及J.V.Crivelloetal，J.PolymerSci.，PolymerChem.Ed.，17，1047(1979)中記載的硒鐺(硒)鹽以及在C.S.Wenetal，Teh，Proc.Conf.Rad.CuringASIA,p478Tokyo,Oct(1988)中記載的紳(arsonium)鹽等鐺鹽等。作為?；?氧化物)化合物的例子，可以列舉汽巴精化公司制的IRUGACURE819、DAROCURE4265、DAROCURETPO等。作為(D)光聚合引發(fā)劑的例子，從曝光靈敏度的觀點出發(fā)，可以列舉三鹵代甲基三嗪化合物、芐基二甲基縮酮化合物、a-羥基酮化合物、a-氨基酮化合物、?；㈩惢衔?、氧化膦化合物、茂金屬化合物、肟化合物、三芳基咪唑二聚物(triarylimidazoledimer)、鐵鹽化合物、苯并噻唑化合物、二苯甲酮化合物、苯乙酮化合物及其衍生物、環(huán)戊二烯-苯-鐵絡(luò)合物及其鹽、鹵代甲基噁二唑化合物以及3-芳基取代香豆素化合物。更優(yōu)選三鹵代甲基三嗪化合物、a-氨基酮化合物、酰基膦化合物、氧化膦化合物、肟化合物、三芳基咪唑二聚物、鎗鹽化合物、二苯甲酮化合物、苯乙酮化合物，最優(yōu)選從由三鹵代甲基三嗪化合物、a-氨基酮化合物、肟化合物、三芳基咪唑二聚物、二苯甲酮化合物構(gòu)成的組中選擇的至少1種化合物。(D)光聚合引發(fā)劑的含量相對于感光性著色組合物層中的總固體成分優(yōu)選為0.120質(zhì)量％，進一步優(yōu)選為0.515質(zhì)量％，特別優(yōu)選為l10質(zhì)量％。在該范圍內(nèi)，可以得到良好的靈敏度和圖案形成性。(E)溶劑本發(fā)明使用的感光性著色組合物一般可以使用溶劑來制備。作為溶劑的例子，優(yōu)選酯類，例如乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸異丁酯、甲酸戊酯、乙酸異戊酯、乙酸異丁酯、丙酸丁酯、丁酸異丙酯、丁酸乙酯、丁酸丁酯、垸基酯類、乳酸甲酯、乳酸乙酯、羥基乙酸甲酯、羥基乙酸乙酯、羥基乙酸丁酯、甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯以及乙氧基乙酸乙酯；3-羥基丙酸甲酯以及3-羥基丙酸乙酯等3-羥基丙酸垸基酯(例如3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯等)；2-羥基丙酸甲酯、2-羥基丙酸乙酯以及2-羥基丙酸丙酯等2-羥基丙酸垸基酯(例如2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-氧基-2-甲基丙酸乙酯、2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯等)；丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸丙酯、乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯、2-氧代丁酸甲酯、2-氧代丁酸乙酯以及l(fā),3-丁二醇二乙酸酯等；醚類，例如二甘醇二甲基醚、四氫呋喃(tetrahydrofuran)、乙二醇一甲基醚、乙二醇一乙基醚、甲基溶纖劑乙酸酯(methylcellosolveacetate)、乙基溶纖劑乙酸酯、二甘醇一甲基醚、二甘醇一乙基醚、二甘醇一丁基醚、丙二醇甲基醚乙酸酯、丙二醇乙基醚乙酸酯、丙二醇丙基醚乙酸酯、二甘醇二甲基醚、二甘醇一乙基醚乙酸酯、二甘醇一丁基醚、二甘醇一丁基醚乙酸酯、丙二醇正丙基醚乙酸酯、丙二醇二乙酸酯、丙二醇正丁基醚乙酸酯、丙二醇苯基醚、丙二醇苯基醚乙酸酯、二丙二醇一甲基醚乙酸酯、二丙二醇正丙基醚乙酸酯、二丙二醇正丁基醚乙酸酯、三丙二醇一正丁基醚以及三丙二醇甲基醚乙酸酯等；酮類，例如丙酮、甲乙酮、環(huán)己酮(cyclohexanone)、2-庚酮以及3-庚酮等；醇類，例如乙醇、異丙醇、丙二醇甲基醚、丙二醇一正丙基醚以及丙二醇一正丁基醚；以及芳香族烴類，例如甲苯和二甲苯等。其中，優(yōu)選3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基溶纖劑乙酸酯、乳酸乙酯、二甘醇二甲基醚、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、2-庚酮、環(huán)己酮、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、丙二醇甲基醚、丙二醇甲基醚乙酸酯以及丙二醇乙基醚乙酸酯等。溶劑可以單獨使用，也可以2種以上組合使用。其他添加物另外，在本發(fā)明使用的感光性著色組合物中，除上述成分外，還可以根據(jù)目的使用各種公知的添加劑。35以下對此類添加劑進行說明。分散劑本發(fā)明的感光性著色組合物優(yōu)選含有高分子分散劑。該高分子分散劑是重均分子量在3000100000范圍內(nèi)的樹脂。此外，優(yōu)選酸值為20300mg/g。以下有時將這種特定的高分子分散劑簡稱為"分散樹脂"。本發(fā)明的分散樹脂是作為在上述(A-l)著色劑中列舉的顏料的分散劑或后述的黑矩陣形成用感光性黑色組合物中的遮光劑(黑矩陣形成用顏料)的分散劑起作用的化合物。分散樹脂由于必須具有特定的酸值，因而優(yōu)選為具有酸性基的高分子化合物?！鳛樵摳叻肿踊衔锏母叻肿庸羌?，優(yōu)選從由乙烯基單體的聚合物、乙烯基單體的共聚物、酯聚合物、醚聚合物、氨基甲酸乙酯聚合物、酰胺聚合物、環(huán)氧聚合物以及有機硅(silicone)聚合物以及它們的改性物或共聚物[例如包含聚醚/聚氨酯共聚物、聚醚/乙烯基單體聚合物的共聚物等(無規(guī)共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物中的任一種)]構(gòu)成的組中選擇的至少1種。進一步優(yōu)選從由乙烯基單體的聚合物、乙烯基單體的共聚物、酯聚合物、醚聚合物、氨基甲酸乙酯聚合物以及它們的改性物或共聚物構(gòu)成的組中選擇的至少1種，特別優(yōu)選乙烯基單體的聚合物和乙烯基單體的共聚物。作為在上述高分子骨架中導入酸性基的方法，可以列舉例如在將上述高分子骨架聚合時使含有酸性基的單體共聚合的方法或在上述高分子骨架聚合后通過高分子反應(yīng)導入的方法。作為含有酸性基的單體的例子，可以列舉(甲基)丙烯酸、丁烯酸(crotonicacid)、衣康酸(itaconicacid)、馬來酸(maleicacid)、富馬酸(phmalicacid)、肉桂酸(cinnamicacid)、丙烯酸二聚體(acrylicaciddimer)、乙烯基苯甲酸、苯乙烯磺酸、2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸、磷酸一(甲基)丙烯?；阴セ蚣谆┧?2-羥乙酯等含醇性羥基單體以及通過使馬來酸酐或富馬酸酐等環(huán)狀酸酐等反應(yīng)而得到的單體等。此外，具有酸性基的高分子化合物還可以含有乙烯基單體成分作為共聚成分。作為上述乙烯基單體的例子，沒有特殊限制，可以列舉(甲基)丙烯酸酯類、丁烯酸酯類、乙烯基酯類、馬來酸二酯類、富馬酸二酯類、衣康酸二酯類、(甲基)丙烯酰胺類、乙烯基醚類、乙烯基醇的酯類、苯乙烯類以及(甲基)丙烯腈等。作為上述"酸性基"的優(yōu)選例子，可以列舉羧酸基、磺酸基、一硫酸酯基、磷酸基、一磷酸酯基以及硼酸基，進一步優(yōu)選羧酸基、磺酸基、一硫酸酯基、磷酸基以及一磷酸酯基，特別優(yōu)選羧酸基、磺酸基以及磷酸基。為了提高分散性，本發(fā)明的感光性著色組合物還優(yōu)選含有具有堿性氮原子(basicnitrogenatom)的基團。作為上述具有堿性氮原子的基團的例子，可以優(yōu)選列舉氨基(-NH2)、取代亞氨基(-NHRS或-NR911^這里，R8、W和R"分別獨立地表示碳原子數(shù)為120的垸基、碳原子數(shù)為6以上的芳基或碳原子數(shù)為7以上的芳烷基)、下述化學式(al)表示的胍基(guanidyl)或下述化學式(a2)表示的脒基(amidinyl)等。上述化學式(al)中，R"和R^分別獨立地表示碳原子數(shù)為120的烷基、碳原子數(shù)為6以上的芳基或碳原子數(shù)為7以上的芳烷基。上述化學式(a2)中，R"和R"分別獨立地表示碳原子數(shù)為120的烷基、碳原子數(shù)為6以上的芳基或碳原子數(shù)為7以上的芳垸基。其中，氨基(-NH2)、取代亞氨基(-NHR8或-NR9R1這里，R8、R9和111()分別獨立地表示碳原子數(shù)為110的垸基、苯基或芐基)、上述化學式(al)表示的胍基[化學式(al)中，R"和R12分別獨立地表示碳原子數(shù)為110的烷基、苯基或芐基]、上述化學式(a2)表示的脒基(amidinyl)[化學式(a2)中，R"和R"分別獨立地表示碳原子數(shù)為110的垸基、苯基或芐基]還含有由1200個氫原子以及020個硫原子形成的基團，它們可以是未取代，也可以進一步具有取代基。其他的分散劑37本發(fā)明使用的感光性著色組合物還可以將上述分散樹脂和目前公知的分散劑(顏料分散劑)合用。作為公知的分散劑(顏料分散劑)的例子，可以列舉高分子分散劑(例如聚酰胺胺及其鹽、高分子量不飽和酸酯、改性聚氨酯、改性聚酯、改性聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸類共聚物)、聚氧乙烯烷基磷酸酯、聚氧乙烯烷基胺、垸醇胺以及顏料衍生物等。高分子分散劑從其結(jié)構(gòu)上可以進一步分為直鏈狀高分子、末端改性型高分子、接枝型高分子(graftpolymer)以及嵌段型高分子(blockpolymer)。高分子分散劑吸附于顏料的表面，起防止再凝集的作用。因此，作為優(yōu)選的結(jié)構(gòu)，可以列舉具有針對顏料表面的錨定(anchor)部位的末端改性型高分子、接枝型高分子或嵌段型高分子。另一方面，顏料衍生物具有通過對顏料表面進行改性來促進高分子分散劑吸附的效果。作為本發(fā)明能使用的公知的分散劑(顏料分散劑)的具體例子，可以列舉BYKChemie公司制的Disperbyk-107(羧酸酯)、130(聚酰胺)、161、162、163、164、165、166、170(高分子共聚物)、EFKA公司制的EFKA4047、4050、4010、4165(聚氨酯類)、EFKA4330、4340(嵌段共聚物)、4400、4402(改性聚丙烯酸酯)、5010(聚酯酰胺)、6220(脂肪酸聚酯)、6745(酞菁衍生物)、6750(偶氮顏料衍生物)、味之素精細化學公司(AjinomotoFine-TechnoCo.,Inc.)制的AJISPERPB821、PB822、共榮社化學公司(KyodshaChemicalCo.,Ltd.)制的FLOWLENTG-710(氨基甲酸乙酯低聚物)、POLYFLOWNo.50E、No.300(丙烯酸類共聚物)、楠本化成公司(KusumotoChemicalsLtd.)制的DISPARLON弁7004(聚醚酯)、DA-703-50、DA-705、DA-725、花王公司(KAOCorporation)制的EMULGEN920、930、935、985(聚氧乙烯壬基苯基醚)、ACETAMIN86(十八垸胺乙酸酯)、路博潤公司(TheLubrizolCorporation)制的SOLSPERSE5000(酞菁衍生物)、22000(偶氮顏料衍生物)、13240(聚酯胺)、3000、17000、27000(末端部具有功能部的高分子)、24000、28000、32000、38500(接枝型高分子)、日光化學公司(NikkoChemicalsCo.,Ltd.)制的NIKKOLT106(聚氧乙烯山梨糖醇酐單油酸酯)、MYS-IEX(聚氧乙烯單硬脂酸酯)等。38上述公知的分散劑可以根據(jù)需要在相對于分散樹脂為10100質(zhì)量％即分散劑/分散樹脂=1/101/1(等量)的范圍內(nèi)使用。表面活性劑若顏料濃度增大，則涂布液的觸變性(thixotr叩y)—般變大，因此在基板上涂布或轉(zhuǎn)印感光性著色組合物而形成感光性著色組合物層(著色層涂膜)后的膜厚易產(chǎn)生不均。特別是通過狹縫涂布法形成感光性著色組合物層(著色層涂膜)時，感光性著色組合物層形成用涂布液在干燥前流平形成均一厚度的涂膜很重要。因此，上述感光性著色組合物優(yōu)選含有合適的表面活性劑。作為上述表面活性劑的例子，可以列舉日本專利特開2003-337424號公報、日本專利特開平11-133600號公報中公開的表面活性劑。作為用于提高涂布性的表面活性劑的例子，可以列舉非離子型(nonionic)表面活性劑、氟類表面活性劑、有機硅類(silicone)表面活性劑等。作為非離子型表面活性劑的例子，可以列舉聚氧乙烯二醇類、聚氧丙烯二醇類、聚氧乙烯烷基醚類、聚氧乙烯烷基芳基醚類、聚氧乙烯垸基酯類、聚氧丙烯烷基醚類、聚氧丙烯烷基芳基醚類、聚氧丙烯烷基酯類、失水山梨醇烷基酯類以及一甘油垸基酯類等。作為非離子型表面活性劑的具體例子，可以列舉聚氧乙烯二醇、聚氧丙烯二醇等聚氧化烯二醇類；聚氧乙烯十二垸基醚、聚氧丙烯十八垸基醚、聚氧乙烯油基醚等聚氧化烯垸基醚類；聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯聚苯乙烯化醚、聚氧乙烯三芐基苯基醚、聚氧乙烯-丙烯聚苯乙烯化醚、聚氧乙烯壬基苯基醚等聚氧乙烯芳基醚類；聚氧乙烯二月桂酸酯、聚氧乙烯二硬脂酸酯等聚氧化烯二垸基酯；失水山梨醇脂肪酸酯；以及聚氧化烯山梨糖醇酐脂肪酸酯類等。作為它們的更具體的例子，可以列舉艾德科PLURONIC系列、艾德科N0L系列、TETRONIC系列(以上為艾德科株式會社制)、EMULGEN系列、RHEODOL系列(以上為花王株式會社制)、ELEMINOL系列、NONIPOL系歹U、OCTAPOL系歹U、DODECAPOL系列、NEWPOL系列(以上為三洋化成株式會社制)、PIONIN系列(竹本油脂株式會社制)、NISSAN39NONION系列(日本油脂株式會社制)等?？梢赃m當使用它們的市售品。優(yōu)選的HLB(Hydrophile-LipophileBalance)值為820，更優(yōu)選為1017。作為氟類表面活性劑的例子，可以列舉在末端、主鏈和側(cè)鏈中的至少任一部位具有氟代烷基或氟代亞烷基的化合物。作為具體的市售品的例子，可以列舉MEGAFACF142D、MEGAFACF172、MEGAFACF173、MEGAFACF176、MEGAFACF177、MEGAFACF183、MEGAFAC780、MEGAFAC781、MEGAFACR30、MEGAFACR08(大日本油墨株式會社(Diecorporation)制)、FLUORADFC-135、FLUORADFC-170C、FLUORADFC-430、FLUORADFC-431(住友3M株式會社制)、SURFLONS-112、SURFLONS-113、SURFLONS-131、SURFLONS-141、SURFLONS-145、SURFLONS-382、SURFLONSC-lOl、SURFLONSC-102、SURFLONSC-103、SURFLONSC-104、SURFLONSC-105、SURFLONSC-106(旭硝子株式會社制)、EFTOPEF351、EFTOPEF352、EFTOPEF801、EFTOPEF802(JEMCO株式會社制)等。作為有機硅類表面活性劑的例子，可以列舉ToreySiliconeDC3PA、ToreySiliconeDC7PA、ToreySiliconeSHllPA、ToreySiliconeSH21PA、ToreySiliconeSH28PA、ToreySiliconeSH29PA、ToreySiliconeSH30PA、ToreySiliconeSH-190、ToreySiliconeSH-193、ToreySiliconeSZ-6032、ToreySiliconeSF-8428、ToreySiliconeDC-57、ToreySiliconeDC-190(以上為東麗'道康寧'有機硅株式會社(DowComingToraySiliconeCo.，Ltd.)制)、TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4446、TSF-4460、TSF-4452(以上為MomentivePerformanceMaterialsJapan制)等。這些表面活性劑的量相對于用于形成感光性著色組合物層的涂布液100質(zhì)量份優(yōu)選為5質(zhì)量份以下，進一步優(yōu)選為2質(zhì)量份以下。當表面活性劑的量超過5質(zhì)量份時，涂布干燥時易使表面粗糙，平滑性容易下降。為了促進未固化部的堿溶解性以進一步提高光固性組合物的顯影性，可以添加有機羧酸、優(yōu)選重均分子量為1000以下的低分子量有機羧酸。作為該有機羧酸的具體例子，可以列舉甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、戊酸、特戊酸、己酸、二乙基乙酸、庚酸(enanthicacid)、辛酸等脂肪族一元羧酸;草酸、丙二酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、庚二酸(pimelicacid)、辛二酸(subericacid)、壬二酸(azelaicacid)、癸二酸(sebacicacid)、巴西基酸(brasylicacid)、甲基丙二酸(methylmalonicacid)、乙基丙二酸、二甲基丙二酸、甲基琥珀酸、四甲基琥珀酸、檸康酸(citraconicacid)等脂肪族二元羧酸；丙三酸(tricarballylicacid)、烏頭酸(aconiticacid)、樟腦三酸(camphoronicacid)等脂肪族三元羧酸；苯甲酸、甲苯酸(toluicacid)、枯酸(cuminicacid)、2，3-二甲基苯甲酸(hemelliticacid)、均三甲苯酸(mesityleneacid)等芳香族一元羧酸；鄰苯二甲酸、間苯二甲酸、對苯二甲酸、偏苯三甲酸(trimelliticacid)、均苯三甲酸(trimesicacid)、偏苯四甲酸(mellophanicacid)、均苯四甲酸(pyromdliticacid)等芳香族多元羧酸；苯基乙酸、苯氧基乙酸、甲氧基苯氧基乙酸、氫化阿托酸(hydratropicacid)、氫化肉桂酸(hydrocinnamicacid)、扁桃酸(mandelicacid)、苯基琥珀酸、阿托酸(atropicacid)、肉桂酸、肉桂酸甲酯、肉桂酸節(jié)酯、亞肉桂基乙酸(cinnamylideneacetate)、香豆酸(cumaricacid)、傘形酸(umbellicacid)等其他羧酸。烷氧基硅烷(alkoxysilane)化合物從提高與基板的密合性等觀點出發(fā)，本發(fā)明使用的感光性著色組合物還可以含有烷氧基硅垸化合物、具體為硅垸偶聯(lián)劑。硅烷偶聯(lián)劑優(yōu)選具有垸氧基甲硅烷基作為能與無機材料化學結(jié)合的水解性基團的硅垸偶聯(lián)劑，作為更優(yōu)選的硅烷偶聯(lián)劑的例子，可以列舉能與有機樹脂相互作用或成鍵而顯示親和性的、(甲基)丙烯?；?、苯基、巰基、環(huán)氧基硅烷，作為特別優(yōu)選的例子，可以列舉(甲基)丙烯酰基丙基三甲氧基硅垸。使用硅烷偶聯(lián)劑時的添加量優(yōu)選為在使用于本發(fā)明的感光性著色組合物層中的總固體成分中的0.2質(zhì)量％5.0質(zhì)量％的范圍，進一步優(yōu)選為0.5質(zhì)量％3.0質(zhì)量％。共增感劑本發(fā)明使用的感光性著色組合物還優(yōu)選根據(jù)需要含有共增感劑。本發(fā)明的共增感劑具有進一步提高增感色素和/或引發(fā)劑對活性放射線的靈敏度或抑制氧對聚合性化合物的聚合抑制等作用。41作為該共增感劑的例子，可以列舉胺類例如M.R.Sander等著《JoumalofPolymerSodety》第10巻3173頁(1972)、日本專利特公昭44-20189號公報、日本專利特開昭51-82102號公報、日本專利特開昭52-134692號公報、日本專利特開昭59-138205號公報、日本專利特開昭60-84305號公報、日本專利特開昭62-18537號公報、日本專利特開昭64-33104號公報、ResearchDisclosure33825號記載的化合物等，作為具體例子，可以列舉三乙醇胺、對二甲基氨基苯甲酸乙酯、對甲酰基二甲基苯胺、對甲基硫代二甲基苯胺等。作為共增感劑的其他例子，可以列舉硫醇和硫醚類，例如日本專利特開昭53-702號公報、日本專利特公昭55-500806號公報、日本專利特開平5-142772號公報記載的硫醇化合物、日本專利特開昭56-75643號公報的二硫醚化合物等。作為具體的例子，可以列舉2-巰基苯并噻唑、2-巰基苯并噁唑、2-巰基苯并咪唑、2-巰基-4(3H)-喹唑啉、(3-巰基萘等。作為共增感劑的其他例子，可以列舉氨基酸化合物(例如N-苯基甘氨酸等)、日本專利特公昭48-42965號公報記載的有機金屬化合物(例如乙酸三丁基錫(tributyltinacetate)等)、日本專利特公昭55-34414號公報記載的供氫體、日本專利特開平6-308727號公報記載的硫化合物(例如三噻垸等)等。從提高聚合成長速度和鏈轉(zhuǎn)移平衡的固化速度的觀點出發(fā)，這些共增感劑的含量優(yōu)選為固化性組合物的總固體成分的質(zhì)量的0.130質(zhì)量％的范圍，進一步優(yōu)選為125質(zhì)量％的范圍，更優(yōu)選為0.520質(zhì)量5%的范圍。聚合抑制劑在本發(fā)明中，在感光性著色組合物的制造中或保存中，為了阻止具有能聚合的烯屬性不飽和雙鍵的化合物的不必要的熱聚合，優(yōu)選在感光性著色組合物中添加少量的熱聚合抑制劑。作為本發(fā)明能使用的熱聚合抑制劑的例子，可以列舉氫醌(hydroquinone)、對甲氧基苯酚、二叔丁基對甲酚、鄰苯三酚(pyrogallol)、叔丁基兒茶酚(t-butylcatechol)、苯醌(benzoquinone)、4，4，-硫代雙(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2，2，-亞甲基雙(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、N-亞硝基苯基羥胺亞鈰鹽等。熱聚合抑制劑的添加量優(yōu)選為相對于感光性著色組合物層中的質(zhì)量為約0.01質(zhì)量％約5質(zhì)量％。另外，還可以根據(jù)需要添加二十二烷酸(behenicacid)或二十二烷酰胺等高級脂肪酸衍生物等以防止由氧引起的聚合抑制，在涂布后的干燥過程中偏聚于感光層的表面。高級脂肪酸衍生物的添加量優(yōu)選為總組合物的約0.5質(zhì)量％約10質(zhì)量％。增塑劑在本發(fā)明中，還可以添加無機填充劑或增塑劑以改善感光性著色組合物層的物性或添加能提高感光層表面的油墨著壁性的感脂化劑等。作為增塑劑的例子，可以列舉鄰苯二甲酸二辛酯、鄰苯二甲酸二(十二烷基)酯、三甘醇二辛酸酯、二甲基二醇鄰苯二甲酸酯、磷酸三甲酚酯(tricresylphosphate)、己二酸二辛酯、癸二酸二丁酯、三乙酸甘油酯等。在使用粘合劑的情況下，可以添加相對于具有烯屬性不飽和雙鍵的化合物和粘合劑的總質(zhì)量為10質(zhì)量％以下的增塑劑。通過使用上述成分，本發(fā)明的感光性著色組合物以高靈敏度固化且保存穩(wěn)定性也很好。另外，還顯示對基板的高密合性。因此，含有上述各種成分的感光性著色組合物可以優(yōu)選用于濾色器。感光性黑色組合物本發(fā)明使用的感光性黑色組合物優(yōu)選含有(A-2)遮光劑、(B)粘合劑聚合物、(C-2)聚合性化合物、(D)光聚合引發(fā)劑以及(E)溶劑，還可以根據(jù)需要含有分散劑或表面活性劑等其他添加劑。(A-2)遮光劑'作為(A-2)遮光劑的例子，除上述(A-l)著色劑外，還可以列舉炭黑(carbonblack)、鈦黑(titaniumblack)、金屬微粒、金屬氧化物、硫化物的微粒等。其中，特別優(yōu)選遮光性和成本的平衡良好的炭黑。它們可以根據(jù)需要單獨使用或多種組合使用。例如，可炭黑單獨使用，或與有機顏料混合，或?qū)⑻亢谂c有機顏料合用等。作為遮光用材料，一直以來將至少2種以上作為黑色著色劑的屏蔽可見光區(qū)域的顏料合用。作為這些顏料的例子，可以列舉日本專利特開2005-17716號公報、日本專利特開2005-17521號公報中記載的顏料，關(guān)于使用這些顏料形成遮光層的方法，公開在日本專利特開平7-271020等中。為了進一步增強遮光效果，在日本專利特開2000-147240、日本專利特開2000-143985、日本專利特開2005-338328、日本專利特開2006-154849等中開發(fā)了炭黑、鈦黑或石墨等作為理想的遮光材料。在本發(fā)明中，從遮光性和成本的觀點出發(fā)，炭黑是遮光材料的優(yōu)選例子。作為炭黑的例子，優(yōu)選顏料黑(PigmentBlack)7(炭黑)。作為炭黑，可以列舉例如三菱化學公司(MitsubishiChemicalCorporation)制的炭黑(CarbonBlack)#2400、#2350、#2300、#2200、#1000、#980、#970、#960、#950、#900、#850、MCF88、#650、MA600、MA7、MA8、MAll、MAIOO、MA220、IL30B、IL31B、IL7B、IL11B、IL52B、#4000、#4010、#55、#52、#50、#47、斜5、#44、斜0、#33、#32、#30、#20、#10、#5、CF9、#3050、#3150、#3250、#3750、#3950、DIABLACKA、DIABLACKN220M、DIABLACKN234、DIABLACKI、DIABLACKLI、DIABLACKII、DIABLACKN339、DIABLACKSH、DIABLACKSHA、DIABLACKLH、DIABLACKH、DIABLACKHA、DIABLACKSF、DIABLACKN55OM、DIABLACKE、DIABLACKG、DIABLACKR、DIABLACKN760M、DIABLACKLP;Evonik德固賽Japan制的炭黑ColorBlackFW200、ColorBlackFW2、ColorBlackFWl、ColorBlackFW18、ColorBlackS170、ColorBlackS160、SpecialBlack6、SpecialBlack5、SpecialBlack4、SpecialBlack4A、PrintexU、PrintexV、Printex140U、Printex140V、Printex35;CabotCorporation制的炭黑REGAL400、REGAL400R、REGALXC72、VULCANXC72R、MOGULL、MONARCH1400、MONARCH1000、BLACKPEARLS1400;AsahiCarbonCo.,Ltd.制的炭黑SUNBLACK900、SUNBLACK910、SUNBLACK930、SUNBLACK960、SUNBLACK970等。另外，為了增大電阻，作為優(yōu)選的例子還可以列舉將這些炭黑用高分子化合物覆蓋后的物質(zhì)。這些炭黑的優(yōu)選單粒子的大小為10nmlOOnm，進一步優(yōu)選為10nm50nm。(C-2)聚合性化合物作為黑矩陣形成用感光性黑色組合物中的(C-2)聚合性化合物，也44可以優(yōu)選列舉在上述感光性著色組合物中使用的(C-l)聚合性化合物，特別優(yōu)選下述化合物。作為感光性黑色組合物中的聚合性化合物，優(yōu)選具有2個以上烯屬性不飽和雙鍵并在光的照射下加聚的單體或低聚物。作為這樣的單體和低聚物的例子，可以列舉分子中具有至少1個加聚性烯屬性不飽和基團且在常壓下的沸點為IO(TC以上的化合物。作為其具體例子，可以列舉聚乙二醇一(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇一(甲基)丙烯酸酯及苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯等單官能丙烯酸酯和單官能甲基丙烯酸酯；聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙院三丙烯酸酯、三羥甲基丙垸三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(丙烯酰氧基丙基)醚、三(丙烯酰氧基乙基)異氰酸酯、三(丙烯酰氧基乙基)異氰酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯；以及三羥甲基丙烷或甘油等多官能醇與環(huán)氧乙烷或環(huán)氧丙垸加成后(甲基)丙烯酸酯化得到的物質(zhì)等多官能丙烯酸酯或多官能甲基丙烯酸酯。作為優(yōu)選的例子，還可以列舉酸性多官能光固性化合物。作為酸性多官能光固性化合物的例子，可以列舉(1)通過用二元酸酐將具有羥基和3個以上光固性官能團的單體或低聚物改性而導入羧基所得到的化合物、(2)通過使具有羥基和3個以上光固性官能團的單體或低聚物與具有縮水甘油基或異氰酸酯基和COOH基的化合物等來導入羧基所得到的化合物或(3)通過用濃硫酸或發(fā)煙硫酸將具有3個以上光固性官能團的芳香族化合物改性來導入磺酸基所得到的化合物等。另外，還可以將含有酸性多官能光固性化合物單體作為重復(fù)單元的低聚物作為酸性多官能光固性化合物使用。作為酸性多官能光固性化合物的優(yōu)選例子，可以列舉下述通式(i)或通式(ii)表示的化合物。另外，在通式(i)和通式(ii)中，當T或G為氧化烯基時，碳原子側(cè)的末端與R、X或W結(jié)合。R—(T)n—CH廣—CH2—(T)n—X(i)CH2—("n—RH2—(G)「WfH2—(G)「WW-(G)p-CH2—<J2~CH2—Z—CH2—，CH2-(G)p—W(ji)CH2—(G)FWCH2_(G)「W通式(i)中，R表示(甲基)丙烯酰氧基，X表示-COOH基或-OP03H2基。T表示氧化烯基，這里，亞烷基的碳原子數(shù)為14。n為020。通式(ii)中，W與通式(i)中的R或X同義，6個W中有3個以上的W與R同義。G與通式(i)中的T同義。Z表示-0-或-OC-ONH(CH2)qNHCOO-。p為020，q為18。一分子內(nèi)多個存在的R、T、G、W可以分別相同，也可以不同。作為通式(0和通式(ii)表示的酸性多官能光固性化合物的市售品的例子，可以列舉東亞合成株式會社制的含羧基3官能丙烯酸酯TO-756以及含羧基的5官能丙烯酸酯TO-1382等。作為更具體的例子，可以列舉日本專利特公昭48-41708號公報、日本專利特公昭50-6034號公報以及日本專利特開昭51-37193號公報中記載的氨基甲酸乙酯丙烯酸酯類；日本專利特開昭48-64183號公報、日本專利特公昭49-43191號公報以及日本專利特公昭52-30490號公報中記載的聚酯丙烯酸酯類；作為環(huán)氧樹脂與(甲基)丙烯酸的反應(yīng)產(chǎn)物的環(huán)氧丙烯酸酯類等多官能丙烯酸酯和多官能甲基丙烯酸酯。其中，優(yōu)選三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、上述含羧基的5官能丙烯酸酯等。此外，作為優(yōu)選的例子，還可以列舉日本專利特開平11-133600號公報中記載的"聚合性化合物B"。黑矩陣形成用感光性黑色組合物中的(C-2)聚合性化合物的含量優(yōu)選為感光性黑色組合物層的總固體成分中的550質(zhì)量％，進一步優(yōu)選為740質(zhì)量％，更優(yōu)選為1035質(zhì)量％。感光性黑色組合物使用的(B)粘合劑聚合物、(D)聚合引發(fā)劑、(E)溶劑、其他添加劑等與上述著色圖案形成用感光性著色組合物中的相同，優(yōu)選的含量也相同。濾色器本發(fā)明的濾色器是用本發(fā)明的濾色器制造方法制造的濾色器，具有黑矩陣與著色圖案相重疊的重疊部，上述重疊部的黑矩陣寬度方向的長度為1.0fxm12(im。使用上述感光性著色組合物和感光性黑色組合物、并用本發(fā)明的濾色器制造方法制造的本發(fā)明的濾色器，其凸起的高度被抑制得較低，且重疊部的長度適宜，能進行高品質(zhì)顯示。優(yōu)選上述重疊部的長度為1.0pm12pm，上述凸起的高度為0.5(nim以下。液晶顯示裝置本發(fā)明的液晶顯示裝置是具備本發(fā)明濾色器的液晶顯示裝置。因此，能顯示高品質(zhì)圖像。隔離件可以優(yōu)選采用利用涂布的制作方法或利用轉(zhuǎn)印的制作方法。從工序簡單的觀點出發(fā)，優(yōu)選利用涂布的制作方法。從隔離件高度的均一性好的觀點出發(fā)，優(yōu)選利用轉(zhuǎn)印的制作方法。關(guān)于利用轉(zhuǎn)印的制作方法，特別優(yōu)選日本專利特開2008-146018號中記載的方法。關(guān)于顯示裝置的定義和各顯示裝置的說明，例如在"電子顯示器(佐佐木昭夫著、株式會社工業(yè)調(diào)査會1990年發(fā)行)""顯示器(伊吹順章著、產(chǎn)業(yè)圖書株式會社、1989年發(fā)行)"等中有記載。另外，關(guān)于液晶顯示裝置，例如在"次世代液晶顯示技術(shù)(內(nèi)田龍男編輯、株式會社工業(yè)調(diào)查會1994年發(fā)行)"中有記載。對于能使用本發(fā)明的液晶顯示裝置沒有特殊限制，例如可以適用于上述"次世代液晶顯示技術(shù)"中記載的各種方式的液晶顯示裝置。其中，本發(fā)明對于彩色TFT(ThinFilmTransistor)方式的液晶顯示裝置特別有效。關(guān)于彩色TFT方式的液晶顯示裝置，例如在"彩色TFT液晶顯示(共立出版株式會社1996年發(fā)行)"中有記載。此外，本發(fā)明還可以適用于IPS(In-PlaneSwitching)等橫向電場驅(qū)動方式、MVA(Multi-domain47VerticalAlignment)等像素分割方式等視角擴大的液晶顯示裝置、STN(Super-twistedNematic)、TN(TwistedNematic)、VA(VerticalAlignment)、OCS(OnChipSpacer)、FFS(FringeFieldSwitching)以及R-OCR(ReflectiveOpticallyCompensatedBend)等。這些方式例如在"EL(Electro-Luminescence)、PDP(PlasmaDisplayPanel)、LCD顯示-技術(shù)與市場的最新動向-(東麗研究中心(TorayResearchCenterInc.)調(diào)查研究部門2001年發(fā)行)"的第43頁中有記載。液晶顯示裝置除濾色器以外還由電極基板、偏振膜、相位差膜、背光源(backlight)、隔離件(spacer)、視角保障膜等各種部件構(gòu)成。本發(fā)明的帶遮光膜的基板可以應(yīng)用于用這些公知的部件構(gòu)成的液晶顯示裝置。這些部件例如在"94液晶顯示周邊材料，化學的市場(島健太郎、株式會社CMC(CMCPublishingCo.，Ltd.)1994年發(fā)行)"、"2003液晶相關(guān)市場的現(xiàn)狀與未來展望(下巻)(表良吉、株式會社富士總研(FujiChimeraResearchInstituteInc.)2003年發(fā)行)"中有記載。關(guān)于背光源，在SIDmeetingDigest1380(2005)(A.Konnoet.al)、顯示器月刊2005年12月號的1824頁(島康裕)、同2530頁(八木隆明)等中有記載。本發(fā)明的濾色器與目前公知的冷陰極管的三波長管組合時，能實現(xiàn)高對比度(contrast)。此外，通過使用紅、綠和藍的LED光源(RGB-LED)作為背光源，能提供亮度高且色純度高的色重現(xiàn)性好的液晶顯示裝置。另一方面，液晶顯示裝置所窶求的性能是圖像響應(yīng)速度的提高。為了提高響應(yīng)速度，對液晶的取向速度進行改良。另一方面，從單元(cell)的結(jié)構(gòu)面考慮，液晶層厚度的減少對于成本降低而言是必須的。減少液晶層厚度所需的另一技術(shù)是減少著色像素與黑矩陣的邊界部分的液晶取向紊亂。因此，力求減少在著色像素與黑矩陣的邊界部分的凸起。使用本發(fā)明的濾色器制造方法而制造的濾色器中，顯影后的黑矩陣形成用感光性黑色組合物層具有近似垂直的剖面形狀，著色圖案(著色像素)形成用感光性著色組合物層與黑矩陣的重疊部的長度為1.0^im12|im，能減小凸起。如上所述，本發(fā)明的濾色器由于凸起小，因而能減少上述重疊部的液晶取向的紊亂，圖像顯示時的視覺辨識性也提高。在本發(fā)明的液晶顯示裝置使用本發(fā)明的濾色器，能使各著色像素與黑矩陣的重疊部平坦，若平坦性良好，則液晶層變薄，在敷設(shè)透明電極ITO前，無需研磨或賦予平坦化層，有助于工序的合理化以及成本下降和批量生產(chǎn)。[實施例]下面，列舉實施例來更具體地說明本發(fā)明。下述實施例所示的材料、試劑、比例、儀器、操作等只要不脫離本發(fā)明的范圍均可作適當變更。因此，本發(fā)明的范圍不限于下述具體例子。另外，在以下的實施例中，在無特殊說明的前提下，"％"和"份"表示"質(zhì)量％"和"質(zhì)量份"，分子量表示重均分子量。另外，"Wt。/。"表示"質(zhì)量M"。r感光性黑色組合物的制備炭黑分散液(K-l)的制備按下述處方來制備炭黑分散液(K-l)。-炭黑(德固賽公司制的COLORBLACKFW2)…26.7份-分散劑(楠本化成制DISPARLONDA7500(酸值26;胺值40))…3.3份-甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸共聚物(=72/28[摩爾比]共聚物、分子量30000、丙二醇一甲醚乙酸酯的50質(zhì)量%溶液)...IO份-丙二醇一甲醚乙酸酯".60份將上述各成分在3000rpm的條件下使用勻質(zhì)機(homogenizer)攪拌1小時。將得到的混合溶液在采用0.3mm鋯珠(zirconiumbeads)的珠分散機(商品名DESPERMAT、格茨曼公司(VMA-格茨曼GMBH)制)中實施8小時微分散處理，得到炭黑分散液(K-l)。使用得到的炭黑分散液(K-l)，按下述表1的處方來制備感光性黑色組合物涂布液CK-1、CK-3禾nCK-4。表l中的數(shù)值表示質(zhì)量比。49[表1]<table>tableseeoriginaldocumentpage50</column></row><table>表1中各成分的詳細情況如下所述。.樹脂溶液C-2:甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸共聚物(=85/15[摩爾比講聚物、MwlOOOO、丙二醇一甲醚乙酸酯的50wt。/o溶液)-11￥固化性樹脂03:商品名CYCLOMERPACA-250大賽璐化學工業(yè)株式會社制[側(cè)鏈具有脂環(huán)基、COOH基和丙烯?；谋┧犷惞簿畚?、丙二醇一甲基醚乙酸酯溶液(固體成分50質(zhì)量％)]-聚合性化合物C-5:日本化藥株式會社制KAYARADDPHA和日本化藥株式會社制KAYARADR-684的60比40(質(zhì)量比)的混合物-引發(fā)劑C-7:商品名"OXE-02"汽巴精化公司制-表面活性劑08:商品名"MEGAFACR30"大日本油墨化學工業(yè)株式會社制-溶劑PGMEA-丙二醇一甲醚乙酸酯EEP-3-乙氧基乙基丙酸酯2.利用涂布形成黑矩陣感光性黑色組合物層形成工序使用狹縫涂布機(slitcoater)(型號HC6000、平田機工株式會社(HirataCorporation)制)、調(diào)節(jié)狹縫與玻璃基板之間的間距以及噴出量以使后烘烤后的膜厚為1.2pm并以涂布速度120mm/秒將得到的感光性黑色組合物CK-1涂布于洗滌后的玻璃基板(ComingIncorporated制的MILLENIUM、厚0.7mm)。預(yù)烘烤工序和曝光工序接著，使用加熱板(hotplate),在80。C下加熱120秒(預(yù)烘烤處理)后，使用接近(proximity)方式曝光機(型號LE5565A、株式會社日立高禾斗技公司(HitachiHigh-TechnologiesCorporation)制)，在60mJ/cm2下曝光。顯影工序然后，用水平運送型顯影裝置進行顯影。即，采用氫氧化鉀顯影液CDK-l(富士膠片電子材料株式會社(FUJIFILMElectronicMaterialsCo.，Ltd.)制)的1.0%顯影液(即，含有CDK-ll質(zhì)量份和純水99質(zhì)量份的稀釋液；24°C)，設(shè)定噴淋壓為0.15MPa,顯影37秒，用純水洗滌，得到顯影后的黑矩陣。這里，使用SEM(ScanningElectronMicrosc叩e:掃描電子顯微鏡)拍攝黑矩陣的剖面照片并確認剖面形狀，結(jié)果為下部端相對于上部端位于黑矩陣的寬度方向的約3pm的位置的錐形。另外，以下的實施例和比較例中的、相對于上部端的下部端的位置(表6記為"上部端下部端的距離")如表6所示。關(guān)于SEM攝影，在黑矩陣的格子的長邊的中央附近，沿黑矩陣的寬度方向并與基板表面垂直地將黑矩陣與基板一起切割來進行。烘烤工序接著，在220。C的潔凈烘箱(deanoven)中進行40分鐘后烘烤處理，形成著色像素形成的區(qū)域的開口為90pmx200iam、黑矩陣的厚度為L2nm、黑矩陣的線寬約為25^m的格子狀黑矩陣基板。使用X-Rite361T(V)(SAKATAINXENG.Co.，Ltd.制)測定制得的黑矩陣的光學濃度(OD)，結(jié)果為4.2。3.感光性著色組合物的制備3-1.紅色(R)用感光性著色組合物涂布液CR-1的制備按下述處方來制備紅色(R)用分散液(R-l)。-顏料紅254(SEM觀察下的平均粒徑為43nm)...11份-顏料紅177(SEM觀察下的平均粒徑為58nm)-下述分散樹脂A-3.分散劑(商品名Disperbyk-161、BYKJapanKK制)(丙二醇一甲基醚乙酸酯的30%溶液)…4份…5份-堿可溶性樹脂甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸共聚物(=75/25[摩爾比]共聚物、分子量30000、丙二醇一甲基醚乙酸酯溶液(固將上述各成分在3000rpm的條件下使用勻質(zhì)機攪拌1小時。將得到的混合溶液在采用0.3mm鋯珠的珠分散機(商品名DESPERMAT、格茨曼公司制)中實施4小時微分散處理，得到紅色(R)用分散液(R-l)。用SEM觀察，結(jié)果平均粒徑為36nm。使用得到的紅色(R)用分散液(R-l)，按下述處方來制備紅色(R)用感光性著色組合物涂布液CR-1。'紅色(R)用分散液(R-l)...100份-環(huán)氧樹脂(商品名EHPE3150大賽璐化學工業(yè)公司制)...2份-聚合性化合物二季戊四醇五丙烯酸酯和二季戊四醇六丙烯酸酯的混合物…8份-聚合引發(fā)劑4-(鄰溴對-N，N-二(乙氧基羰基甲基))氨基-苯基-2，6-二(三氯甲基)-s-三嗪…1份-聚合引發(fā)劑2-芐基-2-二甲基氨基-1-(4-嗎啉代苯基)-丁酮誦l…l份-聚合引發(fā)劑二乙基噻噸酮...0.5份-聚合抑制劑對甲氧基苯酚...0.001份-氟類表面活性劑(商品名MEGAFACR30大日本油墨化學工業(yè)公司制)…0.01份-非離子型表面活性劑(商品名TETRONICR150艾德科公司制)...0.2份體成分50質(zhì)量％))-溶劑B:丙二醇一甲基醚乙酸酯9份…68份52-溶劑丙二醇正了基醚乙酸酯...30份-溶劑丙二醇一甲基醚乙酸酯...100份將上述成分混合攪拌，得到紅色(R)用感光性著色組合物涂布液CR-1。3-2.綠色(G)用感光性著色組合物涂布液CG-1的制備按下述處方來制備綠色(G)用分散液(G-l)。-顏料綠36(SEM觀察下的平均粒徑為47nm)-顏料黃150(SEM觀察下的平均粒徑為39nm)...11份…7份…5份，下述分散樹脂A-3..-分散劑(商品名Disperbyk-161、日本畢克化學公司制30%溶液)…3份-堿可溶性樹脂甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸共聚物(=85/15[摩爾比]共聚物、分子量30000、丙二醇一甲基醚乙酸酯溶液(固體成分50質(zhì)量％))11份-溶劑丙二醇一甲基醚乙酸酯...70份將上述各成分在3000rpm的條件下使用勻質(zhì)機攪拌1小時。將得到的混合溶液在釆用0.3mm鋯珠的珠分散機(商品名DESPERMAT、格茨曼公司制)中實施8小時微分散處理，得到綠色(G)用分散液(G-l)。使用得到的綠色(G)用分散液(G-l)，按下述處方來制備綠色(G)用感光性著色組合物涂布液CG-1。再用SEM觀察，結(jié)果平均粒徑為32nm。-綠色(G)用分散液(G-l)…100份-環(huán)氧樹脂(商品名EHPE3150大賽璐化學工業(yè)公司制)...2份-聚合性化合物二季戊四醇五丙烯酸酯和二季戊四醇六丙烯酸酯的混合物…8份-聚合性化合物季戊四醇的四(乙氧基丙烯酸酯)…2份聚合引發(fā)劑1，3-雙三鹵代甲基-5-苯并四氫呋喃三嗪...2份53-聚合引發(fā)劑2-芐基-2-二甲基氨基-1-(4-嗎啉代苯基)-丁酮-1…l份-聚合引發(fā)劑二乙基噻噸酮...0.5份-聚合抑制劑對甲氧基苯酚...0.001份，氟類表面活性劑(商品名MEGAFACR08大日本油墨化學工業(yè)公司制)...0.02份-非離子型表面活性劑(商品名EMALGNEA-60花王公司制)…0.5份-溶劑丙二醇一甲基醚乙酸酯...120份-溶劑丙二醇正丁基醚乙酸酯...30份將上述組成混合攪拌，得到綠色(G)用感光性著色組合物涂布液CG-1。3-3.藍色(B)用感光性著色組合物涂布液CB-1的制備按下述處方來制備藍色(B)用分散液(B-l)。-顏料藍15:6(SEM觀察下的平均粒徑為55nm)…14份…l份..5份-顏料紫23(SEM觀察下的平均粒徑為61nm)-下述分散樹脂A-3.-分散劑(商品名Disperbyk-161、日本畢克化學公司制30%溶液)…3份-堿可溶性樹脂甲棊丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸共聚物(=80/20[摩爾比]共聚物、分子量30000、丙二醇一甲基醚乙酸酯溶液(固體成分50質(zhì)量％))…4份-溶劑丙二醇一甲基醚乙酸酯...73份將上述各成分在3000rpm的條件下使用勻質(zhì)機攪拌1小時。將得到的混合溶液在采用0.3mm鋯珠的珠分散機(商品名DESPERMAT、格茨曼公司制)中實施4小時微分散處理，得到藍色(B)用分散液(B-l)。再用SEM觀察，平均粒徑為39nm。使用得到的藍色(B)用分散液(B-l)，按下述處方來制備藍色(B)用感光性著色組合物涂布液CB-1。-藍色(B)用分散液(B-l)...100份-堿可溶性樹脂甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸共聚物(=80/20[摩爾比]共聚物、分子量30000、丙二醇一甲基醚乙酸酯溶液(固體成分50質(zhì)量％))…7份-環(huán)氧樹脂(商品名CELLOXIDE2080大賽璐化學工業(yè)公司制)…2份-UV固化性樹脂(商品名廿^夕口7—pACA-250大賽璐化學工業(yè)公司制)(側(cè)鏈具有脂環(huán)基、COOH基和丙烯?；谋┧犷惞簿畚?、丙二醇一甲基醚乙酸酯溶液(固體成分50質(zhì)量％))…4份-聚合性化合物二季戊四醇五丙烯酸酯和二季戊四醇六丙烯酸酯的混合物...12份-聚合引發(fā)劑1-(9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰)一9H-咔唑-3-基)隱l-(鄰乙?；?苯乙酮…3份-聚合抑制劑對甲氧基苯酚...0.001份-氟類表面活性劑(商品名MEGAFACR08大日本油墨化學工業(yè)公司制)…0.02份-非離子型表面活性劑(商品名EMALGNEA-60花王公司制)..丄O份-溶劑3-乙氧基丙酸乙酯...20份-溶劑丙二醇一甲基醚乙酸酯...150份將上述成分混合攪拌，得到藍色(B)用感光性著色組合物涂布液CB-1。4.分散樹脂A-3的合成.4-l.鏈轉(zhuǎn)移劑A3的合成將二季戊四醇六(3-巰基丙酸酯)[DPMP;堺化學工業(yè)株式會社(SakaiChemicalIndustryCo.,Ltd.)制](下述化合物(33))7.83份以及具有吸附部位且具有碳-碳雙鍵的下述化合物(m-6)4.55份溶解于丙二醇一甲基醚28.90份，在氮氣流下加熱至70。C。向其中加入2，2'-偶氮雙(2，4-二甲基戊腈)[V-65、和光純藥工業(yè)株式會社制(WakoPureChemicalIndustriesLtd.)制]0.04份，加熱3小時。然后，加入0.04份V-65，在氮氣流下、于7(TC下反應(yīng)3小時。冷卻至室溫，得到下示硫醇(mercaptan)化合物(連轉(zhuǎn)移劑A3)的30°/。溶液。4-2.分散樹脂A-3的合成將上述得到的鏈轉(zhuǎn)移劑A3的30%溶液4.99份、甲基丙烯酸甲酯19.0份、甲基丙烯酸1.0份以及丙二醇一甲基醚4.66份的混合溶液在氮氣流下加熱至90"C。一邊攪拌該混合溶液，一邊花2.5小時滴加2，2'-偶氮二異丁酸二甲酯[V-60K和光純藥工業(yè)株式會社制]0.139份、丙二醇一甲基醚5.36份以及丙二醇一甲基醚乙酸酯9.40份的混合溶液。滴加結(jié)束后，在9(TC下反應(yīng)2.5小時，然后加入2，2'-偶氮二異丁酸二甲酯0.046份和丙二醇一甲基醚乙酸酯4.00份的混合溶液，再反應(yīng)2小時。向反應(yīng)液加入丙二醇一甲基醚1.52份和丙二醇一甲基醚乙酸酯21.7份后，冷卻至室溫，得到特定分散樹脂A-3(聚苯乙烯換算的重均分子量為24000)的溶液(特定分散樹脂30質(zhì)量％、丙二醇一甲基醚21質(zhì)量％、丙二醇一甲基醚乙酸酯49質(zhì)量％)。該特定分散樹脂A-3的酸值為48mg/g。分散樹脂A-3的結(jié)構(gòu)如下所oHS-CH2C(V(i—O—CH:HS-CH2—CH2-G—0—CH;656H02C,丫、s-H02C-R3—S'(n=3.5,m=2.5)濾色器的制作感光性著色組合物層形成工序?qū)⒌玫降募t色(R)用感光性著色組合物涂布液CR-l涂布在上述黑矩陣基板的黑矩陣形成面?zhèn)?。具體而言，與感光性黑色組合物層形成的情況相同，調(diào)節(jié)狹縫與黑矩陣基板之間的間距以及噴出量以使后烘烤后的感光性著色組合物層的層厚為約2.1pm并以涂布速度為120mm/秒進行涂布。著色層預(yù)烘烤工序和著色層曝光工序接著，使用加熱板，在10(TC下加熱120秒(預(yù)烘烤處理)后，使用接近方式曝光機(型號LE5565A、株式會社日立高科技公司制)，在90mJ/cm2下曝光。對掩模圖案和曝光機進行設(shè)定使曝光圖案與黑矩陣的交疊(曝光重疊量)為5.5jim。著色層顯影工序和著色層烘烤工序然后，采用氫氧化鉀類顯影液CDK-1(富士膠片電子材料株式會社制)的1.0。/。顯影液(含有1質(zhì)量份的CDK-1和99質(zhì)量份的純水稀釋液;25'C)，設(shè)定噴淋壓為0.2MPa，顯影45秒，用純水洗滌。接著，在220。C的潔凈烘箱內(nèi)后烘烤處理30分鐘，形成經(jīng)熱處理的紅色像素。然后，除了將上述感光性著色組合物層形成工序、著色層預(yù)烘烤工序、著色層曝光工序、著色層顯影工序以及著色層烘烤工序中的紅色(R)用感光性著色組合物涂布液CR-1改為綠色(G)用感光性著色組合物涂布液CG-1夕卜，其余均同樣操作來形成綠色像素。然后，除了將紅色(R)用感光性著色組合物涂布液CR-1改為藍色(B)用感光性著色組合物涂布57液CB-1夕卜，其余均同樣操作來形成藍色像素，得到濾色器。拍攝隨機選擇的IO像素SEM剖面照片，測定感光性著色組合物層與黑矩陣的重疊部在黑矩陣的寬度方向的長度，算術(shù)平均值為5.0pim。關(guān)于上述SEM剖面照片，對在黑矩陣的長邊的中央附近與長邊方向成直角的剖面進行SEM攝影。使用接觸式表面粗糙度儀P-IO(KLATencorJapan制)，測定隨機選擇的IOO個著色圖案的"凸起"的高度，算術(shù)平均值為0.22,。關(guān)于凸起的高度測定，如圖8所示，在黑矩陣IO的格子長邊的中央附近，使觸針12沿上述黑矩陣IO的寬度方向(A方向)移動來進行。關(guān)于各色著色圖案與黑矩陣形成的凸起的高度，求出著色圖案的表面中重疊部距離基板表面最遠的部分與重疊部以外的平坦表面部分之間在基板法線方向上的距離。液晶顯示裝置的制作在上述得到的濾色器的R像素、G像素和B像素以及黑矩陣上進一步通過濺射(sputtering)來形成ITO(IndiumTinOxide:氧化銦錫)透明電極。另行準備玻璃基板作為對置基板，同樣通過濺射來形成ITO透明電極。然后，在相當于上述ITO透明電極上的隔板的上方的部分設(shè)置柱狀光感應(yīng)隔離件(photospacer)，在其上進一步設(shè)置由聚酰亞胺形成的取向膜。然后，在相當于包圍濾色器的著色像素組周圍而設(shè)置的黑矩陣外框的位置上，利用定量噴出方式涂布紫外線固化樹脂的密封劑，滴加TN模式用液晶，在真空狀態(tài)下與對置基板貼合。將貼合的基板進行UV照射后，熱處理使密封劑固化。如此得到液晶單元。在該液晶單元的兩面粘貼三立公司(SANRITZCorporation)制偏振片HLC2-2518，然后，在構(gòu)成冷陰極管的背光源并成為設(shè)有上述偏振片的液晶單元的背面一側(cè)配置，制作液晶顯示裝置。液晶顯示裝置的畫質(zhì)評價將液晶顯示裝置通電，肉眼觀察各種顯示圖像，按下述評價基準進行評價。結(jié)果如表6所示。評價基準O:無斑，顯示鮮艷生動。無斑，顯示不生動。x:有斑，泛白，無法觀看。實施例2實施例10和實施例13實施例24使用實施例1的感光性黑色組合物涂布液(表5記為黑色組合物)CK-1，將黑矩陣形成工序中的預(yù)烘烤條件及顯影條件以及在著色圖案形成工序中的曝光重疊量用表5所示的值代替，除此以外與實施例1同樣操作，制作濾色器。使用該濾色器，與實施例1同樣操作來制作液晶顯示裝置。然后與實施例l進行同樣的評價。其結(jié)果如表6所示。實施例11通過下述的利用轉(zhuǎn)印的形成而非利用涂布的形成來形成黑矩陣，使用與更大型的基板對應(yīng)的鏡面投影方式的曝光機(型號MPA-8800、佳能株式會社制)來代替曝光機，此外均與實施例1同樣地制作濾色器。使用該濾色器制作液晶顯示裝置。然后實施與實施例1同樣的評價。其結(jié)果如表6所示。轉(zhuǎn)印形成黑矩陣感光性轉(zhuǎn)印材料CK1的制作在厚75pm的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜臨時支撐體(PET臨時支撐體)上，使用狹縫狀噴嘴(nozzle),涂布由下述處方H1形成的熱塑性樹脂層用涂布液，干燥形成熱塑性樹脂層。接著，在熱塑性樹脂層上進一步涂布由上述處方P1形成的中間層用涂布液，干燥形成中間層(隔氧膜)。在該中間層上進一步涂布上述感光性黑色組合物涂布液CK-1，在90度的熱氣流中干燥形成感光性樹脂層Kl。然后，在該感光性樹脂層的表面壓接保護膜(厚12pm的聚丙烯膜)，制作由臨時支撐體與熱塑性樹脂層、中間層、感光性樹脂層Kl形成一體的感光性轉(zhuǎn)印材料CK1。熱塑性樹脂層用涂布液處方H1-甲醇…1U份-丙二醇一甲醚乙酸酯...6.36份-甲乙酮...52.4份-甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸-2-乙基己酯/甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸共聚物(共聚組成比(摩爾比)=55/11.7/4.5/28.8、分子量=10萬、59Tg—70°C)...6.80份-苯乙烯/丙烯酸共聚物(共聚組成比(摩爾比)=63/37、平均分子量=1萬、TgNl00。C)...10.2份2，2-雙[4-(甲基丙烯酰氧基聚乙氧基)苯基]丙垸(新中村化學工業(yè)株式會社制(shin-nakamurachemicalco.，Ltd.))…9.1份-上述結(jié)構(gòu)物l的30。/。MEK(甲乙酮)溶液...0.54份如此得到的感光性轉(zhuǎn)印材料CK1的熱塑性樹脂的干燥膜厚為14.6^m，中間層的干燥膜厚為1.6pm，感光性樹脂層K1的干燥膜厚為1.3pm。接著，對無堿玻璃基板(以下也簡稱為"玻璃基板")通過噴淋吹拂20秒調(diào)至25'C的玻璃洗滌劑液，并用具有尼龍毛的旋轉(zhuǎn)刷洗漆，進而用純水噴淋洗滌。然后，通過噴淋吹拂20秒硅烷偶聯(lián)液(N-P(氨基乙基)Y-氨基丙基三甲氧基硅烷0.3質(zhì)量％水溶液、商品名KBM603、信越化學工業(yè)株式會社制(Shin-EtsuChemicalCo.,Ltd.))，進行純水噴淋洗滌。使用基板預(yù)備加熱裝置在IO(TC下將該基板加熱2分鐘。從上述得到的感光性轉(zhuǎn)印材料CK1中除去保護膜，將除去保護膜后露出的感光性樹脂層Kl以其表面與硅烷偶聯(lián)處理玻璃基板的表面相接的方式與得到的硅烷偶聯(lián)處理玻璃基板重合，使用WO2006-4225的圖24中記載的大型雙層層壓機層壓。層壓的條件(轉(zhuǎn)印條件)如下述表2所示。60[表2]<table>tableseeoriginaldocumentpage61</column></row><table>接著，在熱塑性樹脂層的界面將PET臨時支撐體剝離，除去臨時支撐體。將臨時支撐體剝離后，使用鏡面投影型曝光機(MPA-8800、佳能株式會社制)在曝光量100mJ/cn^下圖案曝光。然后，將三乙醇胺類顯影液(含有30%三乙醇胺、商品名T-PD2(富士膠片株式會社(FUJIFILMHoldingsCorporation)制)用純水稀釋至12倍，將得到的稀釋液(將T-PD21份和純水11份以此比例混合得到的液體)在30。C下以扁平噴嘴(flatnozzle)壓力0.04MPa噴淋顯影20秒，除去熱塑性樹脂層和中間層。然后，在該玻璃基板上面吹拂空氣斷液后，通過噴淋吹拂純水10秒，進行純水噴淋洗滌，吹拂空氣以減少基板上的積液。然后，使用氫氧化鉀類顯影液CDK-1(富士膠片電子材料株式會社制)的1.0%顯影液(含有1質(zhì)量份CDK-1和99質(zhì)量份純水的稀釋液、28°C)，將噴淋壓設(shè)定為0.10MPa，顯影55秒，用純水洗滌。然后，使用將洗滌劑(含有磷酸鹽、硅酸鹽、非離子型表面活性劑、消泡劑以及穩(wěn)定劑；商品名T-SD1(富士膠片株式會社制))用純水稀釋至10倍后得到的稀釋液，在33t:下以錐形噴嘴壓力0.02MPa噴淋吹拂20秒，然后用具有柔軟尼龍毛的旋轉(zhuǎn)刷擦拭形成的圖案像以除去殘渣，得到所需的黑矩陣圖案。這里，使用SEM拍攝剖面照片，觀察感光性黑色組合物層的剖面形狀，可知錐形長度約為1.5,。上述錐形長度的測定方法與實施例1中的錐形長度的測定相同。然后，在22(TC的潔凈烘箱內(nèi)后烘烤處理40分鐘，形成著色像素形成區(qū)域的開口為90nmx200nm、黑矩陣的線寬約25pm的格子狀黑矩陣。實施例12除了將實施例11中的感光性黑色組合物涂布液CK-1改為下述感光性黑色組合物涂布液CK-2以外，與實施例11同樣操作，得到濾色器，使用該濾色器制作液晶顯示裝置。感光性黑色組合物涂布液CK-2的制備稱取下述表3中記載的量的顏料分散物K-2以及丙二醇一甲基醚乙酸酯，在溫度24。C(±2°C)下混合，以150r.p.m.攪拌IO分鐘。在該攪拌的過程中，稱取表1中記載的量的甲乙酮、環(huán)己酮、粘合劑2、吩噻嗪、DPHA液、2，4-雙(三氯甲基)-6-[4，-(N，N-雙二乙氧基羰基甲基)氨基-3，-溴苯基]-s-三嗪以及下述表面活性劑l，在溫度25。C(±2°C)下依次添加，在4(TC(±2°C)下以150r.p.m.攪拌30分鐘，得到感光性黑色組合物涂布液CK陽2。感光性黑色組合物涂布液CK-2組成顏料分散物K-230.0丙二醇一甲基醚乙酸酯7.3甲乙酮34環(huán)己酮8.6粘合劑214/7DPHA液5.52,4-雙(三氯乙基)-6-[4，-(N，N-二乙氧基羰基甲基)氨基-3'-溴苯基-s-三嗪]0.22吩噻嗪0.006表面活性劑10.05862另外，上述表3中記載的量為質(zhì)量份，各成分的詳細情況如下所示。顏料分散物K-2-炭黑(德固賽公司制Nipex35)13.1%-分散劑(下述化合物l)0.65%-聚合物(甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸=72/28摩爾比的無規(guī)共聚物、分子量3.7萬)6.72%-丙二醇一甲基醚乙酸酯79.53%CONH化含物1^~NEt:粘合劑2-聚合物(甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸=78/22摩爾比的無規(guī)共聚物、分子量3.8萬)...27%-丙二醇一甲基醚乙酸酯...73%DHPA液日本化藥株式會社制KAYARADDPHA和日本化藥株式會社KAYARADR-684的60比40(質(zhì)量比)的混合物...76%-丙二醇一甲基醚乙酸酯...24%實施例25在實施例1的黑矩陣形成中涂布感光性黑色組合物涂布液CK-1時，調(diào)節(jié)狹縫與玻璃基板之間的間距和噴出量以使烘烤后的黑矩陣膜厚為1.51im來涂布感光性黑色組合物涂布液CK-l，將濾色器的制造工序(黑矩陣形成工序和著色圖案形成工序)的各條件按表5所示進行改變，除此以外均與實施例1同樣操作，制造濾色器。使用該濾色器來制作液晶顯示裝63置。實施例26將在實施例1的黑矩陣形成中的感光性黑色組合物涂布液CK-1變更為感光性黑色組合物涂布液CK-3，在涂布感光性黑色組合物涂布液CK-3時，調(diào)節(jié)狹縫與玻璃基板之間的間距和噴出量以使烘烤后的黑矩陣膜厚為1.8pm來涂布感光性黑色組合物涂布液CK-3，將濾色器的制造工序(黑矩陣形成工序和著色圖案形成工序)的各條件按表5所示進行改變，除此以外均與實施例1同樣操作，制造濾色器。使用該濾色器來制作液晶顯示裝置。實施例27在實施例1的黑矩陣形成中涂布感光性黑色組合物涂布液CK-1時，調(diào)節(jié)狹縫與玻璃基板之間的間距和噴出量以使烘烤后的黑矩陣膜厚為l.(Hmi來涂布感光性黑色組合物涂布液CK-l，將濾色器的制造工序(黑矩陣形成工序和著色圖案形成工序)的各條件按表5所示進行改變，除此以外均與實施例1同樣操作，制造濾色器。使用該濾色器來制作液晶顯示裝置。實施例28將在實施例1的黑矩陣形成中的感光性黑色組合物涂布液CK-1變更為感光性黑色組合物涂布液CK-4，在涂布感光性黑色組合物涂布液CK-4時，調(diào)節(jié)狹縫與玻璃基板之間的間距和噴出量以使烘烤后的黑矩陣膜厚為0.7pm來涂布感光性黑色組合物涂布液CK-4，將濾色器的制造工序(黑矩陣形成工序和著色圖案形成工序)的各條件按表5所示進行改變，除此以外均與實施例1同樣操作，制造濾色器。使用該濾色器來制作液晶顯示裝置。實施例29除了將實施例13中的柱狀隔離件形成工序如下改變并使黑矩陣的顯影條件按表5所示改變外，均與實施例13同樣操作，制造濾色器。使用濾色器制作液晶顯示裝置。隔離件形成工序在上述感光性轉(zhuǎn)印材料CK1的制作中，除了將感光性樹脂組合物層64Kl按表4所示處方1變更之外，與感光性轉(zhuǎn)印材料CK1的制作同樣，制作具有干燥層厚為4.1pm的感光性樹脂組合物層的隔離件形成用感光性轉(zhuǎn)印材料。另外，表4中的單位為質(zhì)量份。<table>tableseeoriginaldocumentpage65</column></row><table>化合物結(jié)構(gòu)p-l表示的樹脂的合成在反應(yīng)容器中事先加入l-甲氧基-2-丙醇(大賽璐化學工業(yè)株式會社制)8.57份并升溫至9(TC，在氮氣氣氛下、于9(TC的反應(yīng)容器中花2小時滴加由甲基丙烯酸異丙酯6.27份、甲基丙烯酸5.15份、偶氮類聚合引發(fā)劑(和光純藥公司制V-601)l份以及l(fā)-甲氧基-2-丙醇8.57份形成的混合溶液。滴加后反應(yīng)4小時，得到丙烯酸類樹脂溶液。然后，在上述丙烯酸樹脂溶液中加入氫醌一甲基醚0.025份和四乙基溴化銨0.084份，然后花2小時滴加甲基丙烯酸縮水甘油酯5.41份。滴加后，一邊吹入空氣一邊在9(TC下反應(yīng)4小時，然后添加溶劑MMPGAC使固體成分濃度為45%，進行制備，得到具有不飽和基團的下述化合物結(jié)構(gòu)P-l表示的樹脂溶液。另外，上述化合物結(jié)構(gòu)P-l表示的樹脂的分子量Mw表示重均分子量，作為上述分子量的測定方法，使用凝膠滲透色譜法(GPC)來測定。堿可溶樹脂(20)的制備在反應(yīng)容器中事先加入l-甲氧基-2-丙醇25g和l-甲氧基-2-丙基乙酸酯25g的混合溶劑，升溫至9(TC，在氮氣氛圍下、于9(TC的反應(yīng)容器中花2小時滴加由苯乙烯32.1g、甲基丙烯酸36.5g、偶氮類聚合引發(fā)劑(和光純藥公司制V-601)6.73g、l-甲氧基-2-丙醇25g和l-甲氧基-2-丙基乙酸酯25g形成的混合溶液。滴加后反應(yīng)4小時，得到丙烯酸樹脂溶液。然后，在上述丙烯酸樹脂溶液中加入氫醌一甲基醚0.5g和四乙基溴化銨0.015g，然后花2小時滴加甲基丙烯酸縮水甘油酯31.3g。滴加后，一邊吹入空氣一邊在90'C下反應(yīng)4小時，得到堿可溶樹脂溶液。該堿可溶樹脂(20)溶液中的固體成分為50%。將得到的隔離件形成用感光性轉(zhuǎn)印材料的保護層(coverfilm)剝離，將露出的感光性樹脂組合物層的表面與濾色器基板重合，使用WO2006-4225的圖24中記載的大型雙層層壓機，在線壓100N/cm、130°C的加壓，加熱條件下以運送速度2m/分鐘進行貼合。然后，將PET臨時支撐體在與熱塑性樹脂層的界面剝離除去，將感光性樹脂組合物層與熱塑性樹脂層和中間層一起轉(zhuǎn)印。然后，使用具有超高壓汞燈的接近型曝光機(日立高科技株式會社制)，在將掩模(具有圖像圖案的石英曝光掩模)以及該掩模和熱塑性樹脂層相對配置而成的濾色器基板近似平行地垂直豎立的狀態(tài)下，使掩模面和與感光性樹脂組合物層的中間層相接一側(cè)的表面之間的距離為100pm，隔著掩模，從熱塑性樹脂層側(cè)以曝光量90mJ/cn^進行接近曝光。接著，將三乙醇胺類顯影液(將商品名T-PD2用純水稀釋至12倍后的液體)在30'C下以扁平噴嘴壓力0.04MPa噴淋顯影50秒，除去熱塑性樹脂層和中間層。然后，在該玻璃基板上面吹拂空氣去液后，通過噴淋x:y:z=45:20:3566吹拂純水10秒，進行純水噴淋洗滌，吹拂空氣以減少基板上的積液。然后，使用碳酸鈉類顯影液(含有0.38摩爾/L的碳酸氫鈉、0.47摩爾/L的碳酸鈉、5%的二丁基萘磺酸鈉、陰離子表面活性劑、消泡劑和穩(wěn)定劑；商品名T-CD1(富士膠片株式會社制)用純水稀釋10倍后的稀釋液)，在29。C下以錐形噴嘴壓力0.15MPa噴淋顯影50秒，得到隔離件的圖案像。然后，使用洗滌劑(含有磷酸鹽、硅酸鹽、非離子型表面活性劑、消泡劑以及穩(wěn)定劑；商品名T-SD3(富士膠片株式會社制))用純水稀釋至10倍后得到的稀釋液)，在33i:下以錐形噴嘴壓力0.02MPa噴淋吹拂20秒，然后除去形成的圖案像周圍的殘渣，得到所需的隔離件圖案。接著，將設(shè)有隔離件圖案的濾色器基板在24(TC下加熱處理50分鐘(熱處理工序)，制作光感應(yīng)隔離件。得到的隔離件圖案為直徑24pm、平均高度3.6pm的圓柱形。另外，對得到的隔離件20個，使用三維表面結(jié)構(gòu)分析顯微鏡(制造商ZYGOCorporation類型NewView5022)，測定距離ITO的透明電極形成面最高的位置，求平均值，即為平均高度。實施例30和31將實施例1中的柱狀隔離件形成工序改為實施例29那樣，將黑矩陣顯影條件按表5所示改變，除此以外均與實施例1同樣。實施例32將實施例1中的柱狀隔離件形成工序改為實施例29那樣，改變黑矩陣與像素的掩模圖案使黑矩陣的線寬為17pm、曝光重疊量為4.5pm，將黑矩陣顯影條件按表5所示改變，其余均與實施例1同樣。實施例33除了將實施例32中的顯影裝置變更為水平運送型以外，其余均與實施例32同樣操作，制造濾色器。使用該濾色器制作液晶顯示裝置。實施例34除了將實施例32中的顯影裝置變更為垂直運送型以外，其余均與實施例32同樣操作，制造濾色器。使用該濾色器制作液晶顯示裝置。比較例1比較例6除了將實施例1的黑矩陣形成工序中的預(yù)烘烤條件和顯影條件以及著色圖案形成工序中的曝光重疊量用表5所示的值代替外，其余均與實施例1同樣操作，制作濾色器，使用該濾色器，與實施例1同樣地制作液晶顯示裝置。<table>tableseeoriginaldocumentpage69</column></row><table>表5中，"黑矩陣形成工序"一欄中的預(yù)烘烤時間和顯影時間的單位為"秒"，預(yù)烘烤溫度和顯影溫度的單位為""c"。另外，"著色圖案形成工序"一欄中的曝光重疊量的單位為m"。對上述實施例2實施例34以及比較例1比較例6中制作的各液晶顯示裝置，與實施例1同樣地進行畫質(zhì)評價。結(jié)果如表6所示。另外，在比較例1比較例4中，在黑矩陣顯影后產(chǎn)生殘渣或黑矩陣的線寬增加，或黑矩陣缺口，因而無法在基板上形成著色圖案。另外，在比較例5中，由于在黑矩陣與像素之間產(chǎn)生局部間隙等漏白現(xiàn)象，因而成為不適合進行之后的評價和顯示裝置制作的濾色器。因此，在比較例15中，無法求出凸起的高度，無法進行液晶顯示裝置的評價。[表6]黑矢巨陣濾色器評價厚度上部端下部端的距離重疊凸起高度畫質(zhì)11.23.05.00.22〇21.22.01.50.12031.22.02,50.17041.22.0500.26〇51.22.07.50.27061.22.08.50.28〇了1.22.09.50.29〇81.22.0".50.30091.21.05.00.29〇101.20.5500.31o111.20.5500.29o121.20.55,00.30o131.20.0500.33o141.2-1.01.50.200入施例151.2-1.02.50.250161.2-1.05.00.310"1.2-1.07.50.34o181.2-1.08.50.370191.2-1.09.50.39o201.2-1.011.50.42厶211.2-1.55.00.30o221.2-2.05.00.27o231.2-2.55.00.25o241.2-3.05.00.220251.50.05.00.37o261.80.05.00.40厶271.00.05.00.29o280.70.05.00.190291.21.05.00.28o301.20.05.00.33o311.22.06.00.26o321.2-1.04.00.290331.2_1.04.00.29o341.2-1.04.00.29o比較例11.24.0產(chǎn)生BM殘渣，無法制作——21.24.0BM線寬增加，無法制作'——31.2-4.0BWI缺口，無法制作—一41.2-4.0BM缺口，無法制作—_51.20.00.5、漏白——61.20.012.50.55X71表6中，厚度、上部端下部端的距離、重疊量以及凸起高度的單位均為'、m"。由表6可知，實施例1實施例34的濾色器的凸起高度被抑制，使用這些濾色器的液晶顯示裝置具有高品質(zhì)的畫質(zhì)。7權(quán)利要求1.一種濾色器的制造方法，其具有黑矩陣形成工序，通過使用感光性黑色組合物在基板上形成感光性黑色組合物層、將所述感光性黑色組合物層曝光以及將曝光后的所述感光性黑色組合物層顯影來形成下述黑矩陣圖案，然后將所形成的黑矩陣圖案烘烤，其中，所述黑矩陣圖案位于從所述感光性黑色組合物層內(nèi)的上部端向所述基板的法線方向延伸的線與所述感光性黑色組合物層內(nèi)的下部端之間在黑矩陣寬度方向上的距離為-3.0μm～+3.0μm范圍的位置；和著色圖案形成工序，通過使用感光性著色組合物在烘烤后的形成有黑矩陣的所述基板上形成感光性著色組合物層、將所述感光性著色組合物層曝光、將曝光后的所述感光性著色組合物層顯影、將顯影后的所述感光性著色組合物層烘烤來形成著色圖案，其中，該烘烤后的、該著色圖案與所述黑矩陣相重疊的重疊部在黑矩陣寬度方向上的長度為1.0μm～12μm。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濾色器的制造方法，其中，在所述基板上形成的所述感光性黑色組合物層的厚度為0.2pm2.2pm。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濾色器的制造方法，其中，在所述黑矩陣形成工序中的所述顯影中，顯影溫度為20°C35°C，顯影時間為20秒120秒。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的濾色器的制造方法，其中，所述顯影溫度為20°C30°C，所述顯影時間為30秒70秒。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濾色器的制造方法，其中，所述黑矩陣形成工序中在形成所述感光性黑色組合物層之后、所述曝光之前還含有預(yù)烘烤。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的濾色器的制造方法，其中，所述預(yù)烘烤中的預(yù)烘烤溫度為65'C12(TC。7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的濾色器的制造方法，其中，所述預(yù)烘烤中的預(yù)烘烤時間為50秒300秒。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濾色器的制造方法，其中，在所述著色圖案形成工序中的所述曝光中，隔著掩模圖案進行曝光，曝光圖案與黑矩陣的交疊部分在黑矩陣寬度方向上的長度為3.0pm8.(^m。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的濾色器的制造方法，其中，在所述著色圖案形成工序中的所述顯影中，顯影溫度為2(TC35。C，顯影時間為20秒120秒。10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的濾色器的制造方法，其中，在所述著色圖案形成工序中，曝光圖案與黑矩陣的交疊部分在黑矩陣寬度方向上的長度為2.0^im10^im，所述顯影溫度為2(TC35°C，所述顯影時間為20秒120秒。11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的濾色器的制造方法，其中，所述長度為3.(Him8.(Him，所述顯影溫度為20°C30°C，顯影時間為30秒70秒。12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濾色器的制造方法，其中，所述重疊部距離基板表面最遠的部分與所述重疊部以外的部分之間在基板的法線方向上的距離為0.5iam以下。13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濾色器的制造方法，其中，感光性著色組合物層的層厚為0.5pm3.0|im。14.一種濾色器，其是用權(quán)利要求113中任一項所述的濾色器的制造方法制造的濾色器，具有黑矩陣與著色圖案相重疊的重疊部，所述重疊部在黑矩陣寬度方向的長度為1.0^im12pm。15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的濾色器，其中，在所述著色圖案的表面，所述重疊部距離基板表面最遠的部分與所述重疊部以外的部分之間在基板的法線方向上的距離為0.50pm以下。16.—種液晶顯示裝置，其具有權(quán)利要求14所述的濾色器。17.—種液晶顯示裝置，其具有權(quán)利要求15所述的濾色器。全文摘要一種濾色器的制造方法，其具有黑矩陣形成工序和著色圖案形成工序，在所述黑矩陣形成工序中，通過使用感光性黑色組合物在基板上形成感光性黑色組合物層、將上述感光性黑色組合物層曝光以及將曝光后的上述感光性黑色組合物層顯影，來形成相對于上述感光性黑色組合物層內(nèi)的上部端使下部端位于-3.0μm～+3.0μm范圍的位置的黑矩陣圖案，然后將形成的黑矩陣圖案烘烤；在所述著色圖案形成工序中，通過在烘烤后的形成了黑矩陣的上述基板上，使用感光性著色組合物形成感光性著色組合物層，將上述感光性著色組合物層曝光，將曝光后的上述感光性著色組合物層顯影，將顯影后的上述感光性著色組合物層烘烤，形成著色圖案，這里，該烘烤后的該著色圖案與上述黑矩陣重疊的重疊部在黑矩陣寬度方向上的長度為1.0μm～12μm。文檔編號G03F7/00GK101493649SQ20091000486公開日2009年7月29日申請日期2009年1月21日優(yōu)先權(quán)日2008年1月25日發(fā)明者匹田政憲,安藤豪,山岸庸恭申請人:富士膠片株式會社