專利名稱：顯影裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種對半導體襯底、液晶顯示裝置用玻璃基板、光掩模用玻 璃基板和光盤用基板等(以下簡稱為"基板")進行顯影的顯影裝置，特別 涉及一種高效地向基板供給顯影液從而抑制顯影液的消耗量的技術(shù)。
背景技術(shù)：
以往，作為這種裝置，具有用于保持基板的可自由旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)卡盤、以 帶狀供給顯影液的狹縫噴嘴、使該狹縫噴嘴移動的移動機構(gòu)。在該裝置中， 使基板旋轉(zhuǎn)，并且使狹縫噴嘴移動并將帶狀的顯影液螺旋狀地供給至基板。 根據(jù)該裝置，與在基板上裝滿顯影液并對基板進行顯影的情況相比，能夠降
低顯影液的消耗量(例如，日本特開2005-210059號公報所公開的內(nèi)容)。 然而，具有這種結(jié)構(gòu)的現(xiàn)有例存在如下的問題。
艮P，從狹縫噴嘴噴出并流下的顯影液的形狀呈帶狀。如果改變向狹縫噴 嘴供給的顯影液的流量，則該顯影液的帶狀的形狀容易變形。具體地講，顯 影液的帶狀形狀的寬度變窄，或者顯影液的帶狀形狀變形分支成二條以上的 形狀。在這種情況下，很難使顯影液附著到基板上的所期望的位置上或范圍 內(nèi)，即使例如螺旋狀地供給顯影液，也會產(chǎn)生不能夠?qū)φ麄€基板無間隙地供 給顯影液這樣的問題。另外，為了避免產(chǎn)生這樣的問題，也想到了可以供給 增加了多余部分的量的顯影液，但在這種情況下不能夠充分地減少顯影液的 消耗量。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于這樣的情況而作出的，其目的在于提供一種能夠抑制顯影 液的消耗量的顯影裝置。
本發(fā)明為了達成這樣的目的采用了下述結(jié)構(gòu)。
艮P，本發(fā)明是一種對基板進行顯影的顯影裝置，其特征在于，包括以下
要素旋轉(zhuǎn)保持部，其用于保持基板，而且所保持的所述基板能夠自由旋轉(zhuǎn);顯影液供給部，其形成有排成一列的用于噴出顯影液的多個噴出口，并且使 各噴出口噴出的顯影液以相互分離的狀態(tài)附著在基板上；移動機構(gòu)，其一邊 將所述噴出口的排列方向保持在俯視觀察時朝向基板中心的一個方向上，一 邊沿著該一個方向移動所述顯影液供給部，從而使所述顯影液供給部在俯視
觀察時的基板的大致中心和周邊緣之間移動；控制部，其控制所述旋轉(zhuǎn)保持 部和所述移動機構(gòu)，使得顯影液從各噴出口分別以螺旋狀附著在基板上，由 此對基板進行顯影。
根據(jù)本發(fā)明，顯影液供給部的各噴出口噴出的顯影液處于相互分離的狀 態(tài)，直到附著于基板上為止。因此，能夠穩(wěn)定地保持從噴出口向基板面流下 的顯影液的形狀。因而，能夠使顯影液容易地附著在與噴出口相對應的基板 上的位置或范圍內(nèi)。附著到基板上的顯影液向附著位置的周圍擴散。移動機 構(gòu)在俯視觀察時，將排成一列的各噴出口的排列方向保持在朝向基板的中心 的一個方向，并在該狀態(tài)下，而且在俯視觀察時，使顯影液供給部沿該一個 方向在基板的大致中心和周邊緣之間移動。
控制部將這樣的移動機構(gòu)與旋轉(zhuǎn)保持部一起進行控制，從而使顯影液從 各噴出口分別以螺旋狀附著到基板上。顯影液附著到基板上，每個噴出口擴 散的(顯影液被供給的)范圍呈多個螺旋形狀。此時，在俯視觀察時，各噴 出口總是排列在通過基板中心的直線上，從而能夠相同地增減多個螺旋形狀 的區(qū)域的各直徑。因此，能夠容易地控制多個螺旋形狀的區(qū)域之間的位置關(guān) 系。由此，能夠?qū)宓恼麄€面高效地供給顯影液，能夠抑制顯影液的消耗
另外，本發(fā)明是一種對基板進行顯影的顯影裝置，其特征在于，包括以 下要素旋轉(zhuǎn)保持部，其用于保持基板，而且所保持的所述基板能夠自由旋 轉(zhuǎn)；顯影液供給部，其形成有排成一列的用于噴出顯影液的多個噴出口，并 且使各噴出口噴出的顯影液以相互分離的狀態(tài)附著在基板上；移動機構(gòu)，其 在使所述噴出口的排列方向與基板的徑向平行的狀態(tài)下，使所述顯影液供給 部沿著基板的徑向在基板的大致中心和周邊緣之間移動；控制部，其控制所 述旋轉(zhuǎn)保持部和所述移動機構(gòu)，使得顯影液從各噴出口分別以螺旋狀附著在 基板上，由此對基板進行顯影。
即使根據(jù)本發(fā)明，也能夠穩(wěn)定地保持顯影液供給部的各噴出口向基板面流下的顯影液的形狀。能夠使顯影液容易地附著在與噴出口相對應的基板上 的位置上或范圍內(nèi)。移動機構(gòu)在使排成一列的各噴出口的排列方向與基板的 徑向平行的狀態(tài)下，在基板的徑向上于基板的大致中心和周邊緣之間移動所 述顯影液供給部。
控制部將這樣的移動機構(gòu)與旋轉(zhuǎn)保持部一起進行控制，從而使顯影液從 各噴出口分別以螺旋狀附著到基板上。顯影液附著到基板上，每個噴出口擴 散的(顯影液被供給的)范圍呈多個螺旋形狀。此時，在俯視觀察時，各噴 出口總是排列在基板的徑向上，從而能夠相同地增減多個螺旋形狀的區(qū)域的 各直徑。因此，能夠容易地控制多個螺旋形狀的區(qū)域之間的位置關(guān)系。由此， 能夠?qū)宓恼麄€面高效地供給顯影液，能夠抑制顯影液的消耗量。
在所述的各發(fā)明中，優(yōu)選使所述噴出口噴出的顯影液以棒狀流下。由于 從噴出口流下的顯影液的形狀呈棒狀，因此即使在顯影液的流量發(fā)生變動的 情況下也很難發(fā)生變形。因此，能夠使顯影液可靠地附著到與噴出口相對應 的基板上的位置上或范圍內(nèi)。
在所述的各發(fā)明中，優(yōu)選地，將各噴出口設置為相互接近，因此在各噴 出口同時噴出了顯影液時，位于顯影液附著在基板上的附著位置之間的基板 面被附著后擴散的顯影液覆蓋。各噴出口同時噴出的顯影液分別附著到基板 上。此時，顯影液附著到對應于每個噴出口分別分離的多個附著位置。附著 到各附著位置的顯影液隨著附著后的時間的變化，向多個附著位置之間的部 分擴散。這樣能夠向連接各噴出口的一條線無間隙地供給顯影液。因此，能 夠向基板的整個面高效地供給顯影液，能夠抑制顯影液的消耗量。
在所述的各發(fā)明中，優(yōu)選地，所述控制部控制所述旋轉(zhuǎn)保持部和所述移 動機構(gòu)，使得相鄰顯影液的附著位置的軌跡彼此相接近，從而通過附著后擴 散的顯影液來覆蓋這些軌跡與軌跡之間的基板面。在旋轉(zhuǎn)基板的同時移動顯 影液供給部，由此顯影液的附著位置的軌跡連接為螺旋狀。使相鄰附著位置 的軌跡相接近，從而能夠向基板的整個面無間隙且可靠地供給顯影液。此外， 相鄰附著位置的軌跡可以是與不同的兩個噴出口相對應的軌跡，也可以是與 相同的噴出口相對應的軌跡。
在所述的各發(fā)明中，優(yōu)選地，所述控制部控制所述旋轉(zhuǎn)保持部和所述移 動機構(gòu)以調(diào)整基板的轉(zhuǎn)速和所述顯影液供給部的移動速度之間的關(guān)系，由此控制相鄰顯影液附著位置的軌跡之間的間隔?？刂撇磕軌蜻m當?shù)乜刂葡噜忥@ 影液附著位置的軌跡之間的間隔。
在所述的各發(fā)明中，優(yōu)選地，所述控制部進行控制以使所述間隔為預先 設定的規(guī)定值或者在規(guī)定范圍內(nèi)?？刂撇磕軌蚩煽康叵蚧宓恼麄€面供給顯 影液。
在所述的各發(fā)明中，優(yōu)選地，所述控制部在使基板旋轉(zhuǎn)一周的過程中， 使所述顯影液供給部的位于移動方向的最后方的噴出口移動至如下位置，艮口， 在移動方向一側(cè)與在開始旋轉(zhuǎn)一周的時刻位于最前方的噴出口的位置相接近 的位置?？刂撇磕軌蛳蚧宓恼麄€面高效地供給顯影液。因此，能夠進一步 降低顯影液的消耗量。
在所述的各發(fā)明中，優(yōu)選地，所述控制部進行控制，以使在與各噴出口 相對應的顯影液附著位置的多個軌跡之中，至少任意兩個軌跡相重疊。能夠 向基板的整個面可靠地供給顯影液。
在所述的各發(fā)明中，優(yōu)選地，所述控制部進行控制以使與各噴出口相對 應的顯影液附著位置的多個軌跡相重疊。能夠向基板的整個面可靠地供給顯 影液。
在所述的各發(fā)明中，優(yōu)選地，所述控制部在使基板旋轉(zhuǎn)一周的過程中使 所述顯影液供給部移動的距離，是用從噴出口的總數(shù)減去1后的數(shù)值來除相 鄰的噴出口的中心間距離所得到的值。能夠向基板的整個面可靠地供給顯影 液。
在所述的各發(fā)明中，優(yōu)選地，所述控制部在基板旋轉(zhuǎn)一周的過程中使所 述顯影液供給部移動的距離比相鄰的噴出口的中心間距離更短。能夠向基板 的整個面可靠地供給顯影液。
在所述的各發(fā)明中，優(yōu)選地，各噴出口是直徑約為lmm的圓形，相鄰的 噴出口之間分別相隔約3mm。由于從噴出口流下的顯影液的形狀呈圓柱狀， 因此即使在顯影液的流量產(chǎn)生變動的情況下也很難變形。另外，附著到各附 著位置的顯影液分別向附著位置之間的部分擴散。這樣，能夠向基板面的整 個面無間隙地供給顯影液。
在所述的各發(fā)明中，優(yōu)選地，所述控制部在使顯影液從各噴出口分別以 螺旋狀附著在基板上以對基板進行顯影時，將基板的轉(zhuǎn)速及所述顯影液供給部的移動速度分別控制為恒定?？刂撇磕軌蜻m當?shù)叵蚧宓恼麄€面供給顯影 液。


圖1是表示實施例的顯影裝置的概略結(jié)構(gòu)的框圖。
圖2是實施例的顯影裝置的俯視圖。
圖3是示意性地表示附著在旋轉(zhuǎn)的基板上的顯影液的狀態(tài)的主要部分的 俯視圖。
圖4A是圖3的A-A垂直剖視圖。 圖4B是圖3的B-B垂直剖視圖。
圖5A是表示在第一處理例中于某時刻向基板的表面供給的顯影液的范 圍的示意圖。
圖5B是表示從圖5A所示的時刻開始到基板旋轉(zhuǎn)1周后的時刻，向基板 的表面供給的顯影液的范圍的示意圖。
圖6是示意性地表示直交坐標系的主要部分的俯視圖。 圖7A是顯影液噴嘴的下表面圖。
圖7B是在從圖7A所示的時刻開始基板W旋轉(zhuǎn)1周后的時刻的顯影液 噴嘴ll的下表面圖。
圖8A是表示在第二處理例中于某時刻向基板的表面供給的顯影液的范 圍的示意圖。
圖8B是表示從圖8A所示的時刻開始到基板旋轉(zhuǎn)1周后的時刻，向基板 的表面供給的顯影液的范圍的示意圖。
圖8C是表示從圖8A所示的時刻開始到基板旋轉(zhuǎn)2周后的時刻，向基板 的表面供給的顯影液的范圍的示意圖。
圖9A是表示在第三處理例中于某時刻向基板的表面供給的顯影液的范 圍的示意圖。
圖9B是表示從圖9A所示的時刻開始到基板旋轉(zhuǎn)1周后的時刻，向基板 的表面供給的顯影液的范圍的示意圖。
圖9C是表示從圖9A所示的時刻開始到基板旋轉(zhuǎn)2周后的時刻，向基板 的表面供給的顯影液的范圍的示意圖。
具體實施例方式
為了說明本發(fā)明而圖示了現(xiàn)在認為適合的幾個實施方式，但顯然本發(fā)明 不僅限于圖示的結(jié)構(gòu)及方法。
下面，基于附圖對適合本發(fā)明的實施例進行詳細的說明。
下面，參照附圖對本發(fā)明的實施例進行說明。圖l是表示實施例的顯影
裝置的概略結(jié)構(gòu)的框圖，圖2是實施例的顯影裝置的俯視圖。
本實施例的顯影裝置具有旋轉(zhuǎn)卡盤1，所述旋轉(zhuǎn)卡盤1吸附基板W的下 表面中央部，并以水平姿勢保持基板W。在旋轉(zhuǎn)卡盤1的下部中央聯(lián)結(jié)有馬 達3的輸出軸3a的前端。通過馬達3旋轉(zhuǎn)驅(qū)動該輸出軸3a，旋轉(zhuǎn)卡盤1和 基板W繞鉛直軸AX旋轉(zhuǎn)。此外，鉛直軸AX大致通過基板W的中心。旋 轉(zhuǎn)卡盤1及馬達3相當于本發(fā)明中的旋轉(zhuǎn)保持部。此外，旋轉(zhuǎn)保持部不僅限 于上述的例子。例如，旋轉(zhuǎn)卡盤1也可以變更為設置有用于保持基板W的邊 緣的多個銷的旋轉(zhuǎn)板。
在旋轉(zhuǎn)卡盤1的周圍配備有防飛散杯5。防飛散杯5同時具有將從基板 W的外周向周圍飛散的顯影液等導向下方并回收的功能。
本裝置具有用于供給顯影液的顯影液噴嘴11。在顯影液噴嘴11的下表 面形成有排成一列的多個(本實施例是3個)噴出口 a。在顯影液噴嘴11上 連通連接著顯影液配管13的一端。在顯影液噴嘴11內(nèi)形成有流路，所述流 路使顯影液配管13和各噴出口 a連通(參照圖4A)。顯影液配管13的另一 端與顯影液供給源15連通連接。在顯影液配管13上設置有用于開閉顯影液 的流路的開閉閥17。顯影液噴嘴11相當于本發(fā)明中的顯影液供給部。
顯影液噴嘴11支撐在水平移動機構(gòu)21上。水平移動機構(gòu)21將該噴出口 a的排列方向dl保持為朝向基板W的大致中心的一個方向，同時使顯影液 噴嘴11向該一個方向移動。由此，水平移動機構(gòu)21使顯影液噴嘴11在基板 W的大致中心的上方位置(圖1中實線所示的顯影液噴嘴11的位置)與基 板W的周邊緣的上方位置(圖1中虛線所示的顯影液噴嘴11的位置)之間 移動。另外，水平移動機構(gòu)21使顯影液噴嘴11向離開基板W上方的位置(圖 2中實線所示的顯影液噴嘴11的位置)移動。此外，圖2中虛線所示的顯影 液噴嘴11的位置是基板W的大致中心的上方位置。該水平移動機構(gòu)21具有導軌部22、自行式臺23和臂部24。導軌部22 呈直線形狀，并且水平地設置在防飛散杯5的側(cè)方。在導軌部22上可自由滑 動地安裝有自行式臺23。自行式臺23在導軌部22的引導下，在防飛散杯5 的側(cè)方沿水平的一個軸方向(以下稱為"移動方向d2")前后移動。在自行 式臺23的上部聯(lián)結(jié)著臂部24的一端，在比防飛散杯5的上端更高的位置支 撐著臂部24。在臂部24的另一端安裝著顯影液噴嘴11。
臂部24所支撐的顯影噴嘴11的各噴出口 a的排列方向dl，在俯視觀察 時處于朝向基板W的大致中心的狀態(tài)。而且，各噴出口 a的排列方向dl與 自行式臺23的移動方向d2平行。并且，通過自行式臺23在移動方向d2上 前后移動，在排列方向dl于俯視觀察時朝向基板W的大致中心的狀態(tài)下， 使顯影噴嘴11在俯視觀察時相對于基板W的大致中心前后移動。換言之， 水平移動機構(gòu)21在使噴出口 a的排列方向dl與基板W的徑向平行的狀態(tài)下， 使顯影噴嘴11在基板W的徑向上移動。由此，顯影液噴嘴11在基板W的 大致中心的上方、基板的大致中心和周邊緣、離開基板W的上方的位置之間 進行直線移動。水平移動機構(gòu)21相當于本發(fā)明中的移動機構(gòu)。
如上所述，噴出口 a的排列方向dl和自行式臺23的移動方向d2相同， 因此，以下將附圖標記"dl" ， "d2"適當?shù)芈杂洖?d"。另外，顯影液噴 嘴11的移動方向與噴出口 a的排列方向d—致，因此適當?shù)赜洖?顯影液噴 嘴ll的移動方向d"。另外，在區(qū)分三個噴出口 a的情況下，從靠近基板W 的大致中心的一側(cè)開始依次記為"噴出口a0、 al、 a2"。另外，本裝置還配 備有沖洗液噴嘴(省略圖示)等，所述沖洗液噴嘴在基板W的上方可自由移 動。
另外，本裝置具有控制部31，該控制部31統(tǒng)一操作上述各結(jié)構(gòu)。具體 地講，驅(qū)動馬達3從而控制基板W的轉(zhuǎn)數(shù)(轉(zhuǎn)速)，驅(qū)動水平移動機構(gòu)21 從而控制顯影液噴嘴11的移動速度，開放或關(guān)閉開閉閥17從而控制顯影液 的供給量。
該控制部31具有處理方法(recipe)和與顯影液噴嘴11的形狀有關(guān)的噴 嘴信息，其中，所述處理方法用于預先設定處理基板W的處理條件。作為處 理條件包括后述的距離L，顯影、清洗或干燥等的各種處理時間，顯影液 供給流量等。作為噴嘴信息包括各噴出口 a的尺寸、噴出口 a之間的間隔la(后述)或者與水平移動機構(gòu)21的位置相對應的各噴出口 a和基板W的相 對位置關(guān)系等。通過執(zhí)行各種處理的中央運算處理裝置(CPU)、成為運算 處理的作業(yè)區(qū)域的RAM (Random-Access Memory)、存儲各種信息的硬盤 (fixed disk)等的存儲介質(zhì)等來構(gòu)成控制部31。
接著，對實施例的顯影裝置的動作進行說明。首先，假設覆蓋有抗蝕膜 的基板W已經(jīng)吸附保持在旋轉(zhuǎn)卡盤1上，對基板W進行顯影的一系列的動 作進行簡要地說明。 〈步驟S1〉
控制部31驅(qū)動馬達3，開放開閉閥17并且驅(qū)動水平移動機構(gòu)21。由此， 使基板W旋轉(zhuǎn)并使各噴出口 a噴出顯影液，同時使顯影液噴嘴11在基板W 的周邊緣上方和基板W的大致中心的上方之間沿移動方向d移動。然后，如 果顯影液噴嘴11移動至基板W的大致中心的上方，則控制部31使顯影液噴 嘴ll停止移動。
<步驟S2 S4>
控制部31使基板W旋轉(zhuǎn)，同時，在使顯影液噴嘴11靜止于基板W的 大致中心的上方位置的狀態(tài)下，使顯影液噴嘴ll向基板W噴出顯影液。在 經(jīng)過規(guī)定的時間后，停止噴出顯影液，使顯影液噴嘴11退避至離開基板W 的上方的位置(步驟S2)。從省略圖示的沖洗液噴嘴向基板W供給沖洗液， 從而清洗基板W。在經(jīng)過了規(guī)定時間后，停止供給沖洗液(步驟S3)。使基 板W高速旋轉(zhuǎn)，從而甩干基板W (步驟S4)。這樣，在步驟S1、 S2中對基 板W進行顯影，在步驟S3中對基板W進行清洗，在步驟S4中對基板進行 干燥。
接著，針對步驟Sl的更詳細的處理內(nèi)容，分別通過三個處理例(歩驟 Sla、 Slb、 Slc)來進行說明。 <第一處理例(步驟Sla)〉
控制部31在使基板W旋轉(zhuǎn)一周的過程中，使顯影液噴嘴11的位于移動 方向d的最后方的噴出口 a2，移動至在移動方向一側(cè)與在開始旋轉(zhuǎn)一周的時 刻位于最前方的噴出口 a0的位置相接近的位置。
參照圖3、圖4A和圖4B。圖3是示意性地表示附著在旋轉(zhuǎn)的基板上的 顯影液的狀態(tài)的俯視圖，圖4A和圖4B分別是圖3的A-A和B-B垂直剖視圖。如圖4A所示，各噴出口 a分別噴出并流下的顯影液D呈棒狀。各噴出 口 a流下的顯影液以相互分離的狀態(tài)附著在基板W上(參照圖4A)。顯影 液D直接附著在基板W上的附著位置，位于噴出口 a的大致鉛直下方，并且 與噴出口 a的大小大致相同。在圖3、圖4A和圖4B中，各噴出口a0、 al、 a2噴出的顯影液D的附著位置分別標注并表示為附圖標記b0、 bl、 b2。此 外，在不特別區(qū)分附著位置bO、 bl、 b2時，則適當?shù)芈杂洖?附著位置b"。
在各噴出口 a噴出顯影液D的狀態(tài)下使基板W繞鉛直軸AX旋轉(zhuǎn)(用圖 3中的附圖標記"c"來表示旋轉(zhuǎn)方向)，同時使顯影液噴嘴11向移動方向d 移動，由此各附著位置b分別連續(xù)地位移。在本說明書中，分別將附著位置 b0、 bl、 b2連續(xù)排列的各區(qū)域稱為附著位置的軌跡bL0、 bLl、 bL2。此外， 圖3中的附圖標記"bLO" 、 "bLl" 、 "bL2"是指與附著位置bO、 bl、 b2 分別對應的兩條彎曲的虛線所包圍的區(qū)域。以下，在不特別區(qū)分附著位置的 軌跡bLO、 bLl、 bL2時，適當?shù)芈杂洖?附著位置的軌跡bL"。
所附著的顯影液D隨著時間的變化，從附著位置b向周圍擴散。顯影液 D的附著位置b和顯影液D從附著位置b擴散的范圍成為向基板W供給的顯 影液D的范圍。因此，如圖3所示，向基板W供給的顯影液D的范圍比附 著位置的軌跡bL更大。
在本實施例中，基于實驗結(jié)果等，如下地選擇設計噴出口 a之間的間隔 (更詳細地說是噴出口 a的邊緣之間的距離)la。即，如圖4B所示，各噴出 口 a同時噴出的顯影液D分別相互分離地附著在附著位置b。附著在各附著 位置b的顯影液D隨著時間的變化向周圍擴散，不久便覆蓋了附著位置b之 間的部分。這時，分別附著在附著位置b上的顯影液D在基板W上合流。 因此，如圖3 (特別是連接B-B的點劃線的附近)、圖4B所示，能夠在連接 各噴出口aO、 al、 a2的這一條線上無間隙地供給顯影液。換言之，針對在進 行附著時，在附著位置的軌跡bLO-bLl之間以及在附著位置的軌跡bLl-bL2 之間形成的間隙，通過附著后的顯影液D的擴散能夠可靠地供給顯影液D。 此外，相鄰的噴出口 a之間的間隔la優(yōu)選例如為3 (mm)。在該情況下，噴 出口 a的直徑優(yōu)選1 (mm)。
圖5A是表示在第一處理例中于某時刻向基板的表面供給的顯影液的范 圍的示意圖，圖5B是表示從如圖5A所示的時刻開始到基板旋轉(zhuǎn)1周后的時刻，向基板的表面供給的顯影液的范圍的示意圖。在圖5A、圖5B中，通過 改變圖案的濃度，對供給了顯影液的基板W上的范圍以及與噴出口aO、 al、 a2相對應的各顯影液的供給范圍進行了圖示。此外，在圖5A、圖5B中，雖 然在附圖中沒有對顯影液噴嘴ll標注附圖標記"aO" 、 "al" 、 "a2"，但 在顯影液噴嘴11上從靠近基板W的大致中心一側(cè)開始依次設有噴出口 a0、 al、 a2。
如圖示那樣，基板W繞鉛直軸AX旋轉(zhuǎn)(在圖5A、圖5B中標注為附圖 標記"c"的方向)，同時使顯影液噴嘴11向移動方向d移動，由此顯影液 朝著基板W的大致中心供給至直徑逐漸縮小的螺旋狀的區(qū)域。
另外，如圖5A、圖5B所示，在基板W旋轉(zhuǎn)一周過程中，使位于移動方 向d的最后方的噴出口 a2向移動方向d移動，移動至與在旋轉(zhuǎn)一周開始時位 于最前方的噴出口aO向移動方向d側(cè)相隔距離L (以下，簡單記為距離L) 的位置。與相鄰噴出口 a之間的間隔la相同地，將該距離L選擇設定為不會 在基板W上產(chǎn)生未供給顯影液的間隙的值。這樣，通過使相鄰的顯影液的附 著位置的軌跡bL0-bL2之間的間隔變小，從而如圖5B所示，能夠使與噴出 口 a2相對應的顯影液的供給范圍和與噴出口 a0相對應的顯影液的供給范圍 緊密接觸。
所述的距離L (m)是根據(jù)基板W的轉(zhuǎn)速"(rad/s)及顯影液噴嘴11的 移動速度v (m/s)的關(guān)系和已知的顯影液噴嘴11的噴嘴信息來確定的(在 此，"、v都是正的常數(shù))。下面，針對距離L (m)使用算式來進行說明。
圖6是示意性地表示直交坐標系的俯視圖，圖7A是顯影液噴嘴的下表 面圖。圖7B是從圖7A所示的時刻開始基板W旋轉(zhuǎn)一周之后的時刻的顯影 液噴嘴ll的下表面圖。如圖6所示，示出了與基板W的面平行的二維平面 坐標，并且假定以噴出口 a的排列方向d (顯影液噴嘴11的移動方向d)為 X軸，以與X軸及鉛直軸AX垂直相交的軸為Y軸的直交坐標系。該直交坐 標系的原點(0， 0)與在俯視觀察時的基板W的旋轉(zhuǎn)中心的位置一致。
假設在顯影液噴嘴11上形成的噴出口 a的總數(shù)是(m+l)個，從移動 方向d的最前方開始依次稱為噴出口 a0、 al、 a2、…、am (m是1以上的整 數(shù))。如圖7A、圖7B所示，假設各噴出口 ai是半徑為r (m)的圓形，相 鄰的噴出口 a的中心間距離分別為P (m) (i是從0到m的任意整數(shù)，P是正的常數(shù))。如圖6所示，若將時刻1=0 (s)時的最前方的噴出口aO的中心 位置設為(-R， 0)，則時刻t-0 (s)時的各噴出口 ai的中心位置為(-R-i XP， 0) (R是正的常數(shù))。
將從各噴出口 ai的中心位置向旋轉(zhuǎn)的基板W面垂直投射的點再次投影 在XY坐標系上的點Bi (Xi， Yi)，隨時刻t移動的軌跡是
Xi= (-R-iXP+vXt) Xcos"t...... (1)
Yi= (-R-iXP+vXt) Xsincot...... (2)。
能夠?qū)⒃擖cBi的軌跡看作是所述的附著位置的軌跡bL的中心線。在此， 角速度co和移動速度v是恒定的。因此，多個點Bi的軌跡橫穿基板W的徑 向上的一個軸的位置之間的間隔(換言之，多個點Bi的軌跡與通過原點(0， 0)的直線分別相交的交點之間的距離)與徑向的方向無關(guān)，是固定不變的。 因此，容易在通過X軸的負的部分(連接點(-R， 0)和原點(0， 0)的線 段)的位置求出點Bi的軌跡之間的間隔。向式(l)中帶入時刻t二2兀N/" (N 是基板W的旋轉(zhuǎn)周數(shù)，并且是0以上的整數(shù))則能夠求出點Bi在X軸的負 的部分上時的X坐標。
因此，假設在旋轉(zhuǎn)周數(shù)N,時與噴出口 ai,相對應的附著位置的軌跡bL的 X坐標為XiP在旋轉(zhuǎn)周數(shù)N2時與噴出口 ai2相對應的附著位置的軌跡bL的 X坐標為Xi2。此時，下式(3)所示的各X坐標的差(Xi廠Xi》可被稱為兩 個附著位置的軌跡bL的各中心線的距離。
Xi「Xi2= (—ii+i2) XP+vX2kX (N「N2) /"...... (3)
此外，兩個附著位置的軌跡bL之間的間隔為從X坐標的差(Xi廠Xi2) 減去2r后的值。
在此，在進行步驟Sla那樣的動作的情況下，若將在任意的旋轉(zhuǎn)周數(shù)N產(chǎn)n 時的最前方的噴出口aO的位置設為(x， 0)，則在旋轉(zhuǎn)周數(shù)N^ (n+l)時 的最后方的噴出口 am的位置為(x+L+2r， 0)(參照圖7A、圖7B)。
艮P，下式(4)至式(6)所表示的關(guān)系成立。
i產(chǎn)0 ...... (4)
i2=m ...... (5)
N「N2=-1……(6)
將式(4)至式(6)帶入到式(3)中，則得到下式(7)。vX2丌/w二L+2r+mXP...... (7)
在式(7)中，m、 P、 r各值是顯影液噴嘴11固有的值，任一個都是已 知的。因此，通過基板W的轉(zhuǎn)速"(rad/s)和顯影液噴嘴11的移動速度v (m/s)的關(guān)系，就能夠自然而然地確定距離L (m)。
這樣根據(jù)關(guān)系式(7)，對于噴出口 a的個數(shù)( m)、相鄰的噴出口 a 的中心間距離P以及噴出口 a的半徑r分別取任意的值的各種顯影液噴嘴11 進行一般化，從而能夠表示基板W的轉(zhuǎn)速"、顯影液噴嘴ll的移動速度v、 距離L之間的關(guān)系。
在本實施例中，控制部31具有噴嘴信息，所述噴嘴信息是預先設定所述 的噴出口 a的總數(shù)( m)、相鄰的噴出口 a的中心間距離P以及噴出口 a 的半徑r的各值的信息。另外，控制部31具有作為處理條件的預先設定有距 離L的值(規(guī)定值)的處理方法。并且，在第一處理例中，控制部31控制水 平移動機構(gòu)21和馬達3，使得向式(7)中的距離L帶入規(guī)定值而得到的基 板W的轉(zhuǎn)速co與顯影液噴嘴11的移動速度v之間的關(guān)系得到保持。例如， 優(yōu)選地調(diào)整基板W的轉(zhuǎn)速"與顯影液噴嘴11的移動速度v之間的關(guān)系，以 使距離L變?yōu)?.003 (m)。
其結(jié)果，如圖5A、圖5B所示，在基板W旋轉(zhuǎn)一周的過程中，使位于移 動方向d的最后方的噴出口 am，能夠與在開始旋轉(zhuǎn)一周的時刻位于最前方的 噴出口 a0向移動方向d—側(cè)接近至相隔距離L (m)。這樣，若使顯影液噴 嘴11移動至基板W的大致中心的上方位置，則能夠無間隙地向基板W的整 個面供給顯影液。
接著，針對步驟S1通過第二處理例(步驟Slb)進行說明。
〈步驟Slb〉
控制部31在使基板W旋轉(zhuǎn)一周的過程中，僅使顯影液噴嘴11向移動方 向d移動下述距離，g口，用噴出口 a的總數(shù)減去1的數(shù)值來除相鄰各噴出口 a的中心間距離P后所得到的距離。
參照圖8A、圖8B和圖8C。圖8A是表示在第二處理例中于某時刻向基 板的表面供給的顯影液的范圍的示意圖。圖8B是表示從圖8A所示的時刻開 始到基板旋轉(zhuǎn)1周后的時刻，向基板的表面供給的顯影液的范圍的示意圖。 圖8C是表示從圖8A所示的時刻開始到基板旋轉(zhuǎn)2周后的時刻，向基板的表面供給的顯影液的范圍的示意圖。在圖8A至8C中，雖然在附圖中沒有對顯
影液噴嘴11標注附圖標記"a0" 、 "al" 、 "a2"，但在顯影液噴嘴11上 從基板W的大致中心一側(cè)開始依次設有噴出口 a0、 al、 a2。 g卩，顯影液噴嘴 11所具有的噴出口a的總數(shù)是3個。因此，在使基板W旋轉(zhuǎn)一周的過程中， 僅使顯影液噴嘴ll向移動方向d移動下述距離，g卩，用從噴出口a的總數(shù)3 減去1得到的數(shù)2來除相鄰各噴出口 a的中心間距離P之后的距離(即，P/2)。 圖8A至8C所示的顯影噴嘴11示出了噴出口 a之間的間隔la大的情況， 在該情況下，通過各噴出口 a同時噴出的顯影液D不能夠覆蓋與各噴出口 a 相對應的多個附著位置之間的部分。若在具有這樣的顯影液噴嘴11時進行第 二處理例，則對于各噴出口a同時噴出的顯影液D所不能供給的范圍，將在 后續(xù)的旋轉(zhuǎn)周數(shù)中供給顯影液D。因此，能夠?qū)τ谡麄€基板W可靠地供給顯 影液。
該第二處理例針對式(3)成立式(8)至式(10)所示的關(guān)系。
i「i2=_l ...... (8)
N「N2=_1 ...... (9)
Xi「Xi2= (m-1) XP/m ...... (10)
或者，第二處理例針對式(3)成立式(11)至式(13)所示的關(guān)系。
h_i2=0 ...... (11)
N,-N2=-l ...... (12)
Xi廣Xi2=-P/m ...... (13)
將式(8)至式(10)或者式(11)至式(13)帶入式(3)中，都能夠 得到下式(14)。
vX2兀/"^P/m...... (14)
在第二處理例中，控制部31控制水平移動機構(gòu)21和馬達3，使得由式 (14)得到的基板W的轉(zhuǎn)速"與顯影液噴嘴11的移動速度v之間的關(guān)系得 到保持。
最后，針對步驟SI通過第三處理例(步驟Slc)進行說明。 〈步驟Slc〉
通過控制使得與各噴出口ai相對應的多個附著位置的軌跡bL相互重疊。 并且，通過使顯影液噴嘴11移動至基板W的大致中心的上方位置，從而無間隙地對基板W的整個面供給顯影液。
參照圖9A、圖9B和圖9C。圖9A是表示在第三處理例中于某時刻向基 板的表面供給的顯影液的范圍的示意圖。圖9B是表示從圖9A所示的時刻到 開始基板旋轉(zhuǎn)1周后的時刻，向基板的表面供給的顯影液的范圍的示意圖。 圖9C是表示從圖9A所示的時刻開始到基板旋轉(zhuǎn)2周后的時刻，向基板的表 面供給的顯影液的范圍的示意圖。在圖9A至9C中，雖然在圖中沒有對顯影 液噴嘴11標注附圖標記"a0" 、 "al" 、 "a2"，但在顯影液噴嘴11上從 靠近基板W的大致中心一側(cè)開始依次設有噴出口 a0、 al、 a2。如圖示那樣， 旋轉(zhuǎn)周數(shù)每相隔一周，與相鄰的兩個噴出口 a相對應的兩個附著位置的軌跡 bL —致。具體地講，如圖9A所示的旋轉(zhuǎn)周數(shù)中的噴出口 a0的附著位置的軌 跡bL與如圖9B所示的旋轉(zhuǎn)周數(shù)中的噴出口 al的附著位置的軌跡bL重疊。
第三處理例針對式(3)成立下式(15)至式(17)所示的關(guān)系。
i「i2=l ...... (15)
N廣N2=l ……(16)
Xi「Xi2=0 ...... (17)
若將這些式(15)至式(17)帶入式(3)中，則得到下式(18)。 vX2m/"=P……(18)
在第三處理例中，控制部31控制水平移動機構(gòu)21和馬達3，使得由式 (18)得到的基板W的轉(zhuǎn)速"與顯影液噴嘴11的移動速度v之間的關(guān)系得 到保持。
另夕卜，通過控制使相鄰的噴出口a之間的附著位置的軌跡bL重疊，并對 此進行一般化，從而也可以進行以下這樣的控制。S卩，可以這樣地控制在 與各噴出口 a相對應的多個附著位置的軌跡bL中，至少任意兩個軌跡bL重
艮P，可以控制成，對應噴出口 ah的附著位置的軌跡bL與跟噴出口 ai, 不同的噴出口 ai2的附著位置的軌跡bL于不同的旋轉(zhuǎn)周數(shù)相一致。
針對這樣的處理例的式(3)，成立下式(19)至式(21)所示的關(guān)系。 i「i2,0 ……(19) N「N2#0……(20) Xi「Xi2=0……(21)若將這些式(19)至式(21)帶入到式(3)中，則能夠得到下式(22)。 vX2jt/w= (h—i2) XP/ (N「N2) ...... (22)
在該情況下，控制部31控制水平移動機構(gòu)21和馬達3，使得由式(22) 得到的基板W的轉(zhuǎn)速co與顯影液噴嘴11的移動速度v之間的關(guān)系得到保持。
這樣，根據(jù)實施例l的顯影裝置，顯影液噴嘴ll具有多個噴出口a，各 噴出口a噴出的顯影液處于相互分離的狀態(tài)，直到附著在基板W上為止。因 此，顯影液在從噴出口 a噴出到附著在基板W上之間，保持著穩(wěn)定的形狀并 流下。因而，顯影液附著在基板W上的位置、范圍也是穩(wěn)定的，能夠容易地 控制并管理顯影液的附著位置b。
另外，由于各噴出口a為圓形，顯影液從各噴出口 a以圓柱狀流下。因 此，流下的顯影液與帶狀的顯影液相比其形狀不容易變形。具體地講，不會 發(fā)生如下的情況流下的顯影液的寬度時寬時窄，或者流下的顯影液分支成 兩條以上。
另外，由于相鄰的噴出口 a之間分別隔著間隔la并且接近配置成一列， 因此由每個噴出口 a分離并附著在基板W上的顯影液擴散，從而能夠使附著 位置b之間的基板W面被顯影液覆蓋。因此，能夠向基板W無間隙地供給 顯影液。
另外，在保持俯視觀察時各噴出口 a的排列方向d朝向基板W的中心的 固定的方向的狀態(tài)下，水平移動機構(gòu)21沿該方向移動顯影液噴嘴11。因此， 在俯視觀察時，各噴出口 a總是位于通過基板W的中心的直線上。因此，從 基板W的中心到各噴出口 a的距離分別與顯影液噴嘴11所移動的距離成正 比均等地增減。因此，控制部31通過調(diào)整基板W的轉(zhuǎn)數(shù)(轉(zhuǎn)速")與顯影 液噴嘴11的移動速度v的關(guān)系，能夠控制附著位置的軌跡bL的位置。
而且，如上所述，由于能夠高精度地控制與各噴出口 a相對應的顯影液 的附著位置b和這些各附著位置的軌跡bL的位置，因此也能夠調(diào)整多個附著 位置的軌跡bL的相互位置關(guān)系。因此，在顯影液的供給量中無需包含多余部 分，能夠高效地將顯影液供給到基板W的整個面上。因此，能夠降低顯影液 的消耗量。
具體地講，在第一處理例中，與各噴出口a相對應的附著位置的軌跡bL 相互之間不重復。附著后擴散的顯影液D能夠可靠地供給間隙，該間隙是在附著時于相鄰附著位置的軌跡bL之間的部分上形成的間隙。由此，能夠向基
板W的整個面極高效地且均一地供給顯影液。
另外，第二處理例對于如下情況有效，§口，各噴出口 a之間的間隔la大 到不能夠向顯影液D被同時分離供給的附著位置b之間的部分供給顯影液D 的程度的情況。即，根據(jù)第二處理例，能夠通過后面的旋轉(zhuǎn)周數(shù)N來向相鄰 的附著位置b之間的范圍補充顯影液。由此，能夠向整個基板W可靠地供給 顯影液。
另外，第三處理例對于如下情況有效，S卩，從各噴出口a噴出的顯影液 一時變得不穩(wěn)定的情況。即，由于所有的噴出口 a分別在不同的旋轉(zhuǎn)周數(shù)中 向相同位置供給顯影液D，因此能夠可靠地向基板W的整個面供給顯影液。
本發(fā)明并不僅限于上述實施方式，能夠通過以下這樣的變形來實施。 (1)在所述的第一處理例(步驟Sla)中，作為噴出口 a之間的間隔la 及距離L例示了優(yōu)選值，但并不限定于此。只要是位于能夠通過附著后擴散 的顯影液D可靠地覆蓋相鄰附著位置b之間的范圍內(nèi)，就可以適當?shù)刈兏鼑?出口a之間的間隔la及距離L的值。另外，這些值越大，越能夠高效地供給 顯影液，而且減少顯影液的消耗量。
因此，也可以變更為在下述這樣的控制的基礎之上來進行第一處理例。 即，控制部31預先具有作為處理方法的這樣的處理條件，g卩，已設定有距離 L的上限值Lmax的值而非距離L的值的處理條件。
而且，也可以使控制部31控制馬達3和水平移動機構(gòu)21，使得距離L 在上限值Lmax以下(規(guī)定范圍內(nèi))，即，滿足對上述的式(7)進行變形后 的下述的式(23)。
L=vX2Jr/"-2r-mXP《Lmax...... (23)
通過控制部31的控制使式(23)的條件得到滿足，由此能夠進一步減少 在使顯影液噴嘴11從基板W的周邊緣向大致中心移動的過程中的基板W的 旋轉(zhuǎn)周數(shù)，并且能夠縮短附著位置的軌跡bL的全長。因此，能夠向基板W 的整個面更加高效地供給顯影液。
另外，可以作為處理條件除了所述的距離L的上限值Lmax以外，還預 先設定距離L的下限值Lmin，并且控制部31控制馬達3和水平移動機構(gòu)21 ， 使得距離L在上限值Lmax到下限值Lmin之間的規(guī)定范圍內(nèi)，g口，滿足對上述的式(7)進行變形后的下述式(24)?；谶@樣的控制，能夠適當?shù)剡M行
第一處理例。
Lmin《L= vX2兀/w-2r-mXPdnax...... (24)
(2) 在所述的第二處理例(步驟Slb)中，在使基板W旋轉(zhuǎn)一周的過 程中，僅使顯影液噴嘴ll向移動方向d移動這樣的距離，S卩，用從噴出口a 的總數(shù)減去1的數(shù)值來除相鄰各噴出口 a的中心間距離P后所得到的距離， 但并不僅限定于此。例如，也可以將在使基板W旋轉(zhuǎn)一周的過程中，將顯影 液噴嘴ll向移動方向d移動的距離變更為比相鄰的噴出口 a的中心間距離P 短的距離。
例如，只要變更為除了所述的條件式(11) 、 (12)以外，還將下面的 式(25)帶入式(3)中即可。
Xi「Xi2=-PXk...... (25)
k:系數(shù)(大于等于0且小于1的常數(shù))
因此，可以作為處理條件預先設定系數(shù)k或者比相鄰的噴出口 a的中心 間距離P短的距離(PXk)，并且控制部31控制馬達3和水平移動機構(gòu)21， 使得滿足式(3) 、 (11) 、 (12) 、 (25)。
(3) 在所述的實施例中，水平移動機構(gòu)21是使顯影液噴嘴11在水平方 向上移動的機構(gòu)，但并不僅限定于此。在俯視觀察時，只要能夠使顯影液噴 嘴11在基板W的周邊緣和中心之間變位，則其移動也可以包括其他方向的
(4) 在所述的各實施例中，通過在俯視觀察時朝向基板W大致中心的 方向來說明顯影液噴嘴11的移動方向d，但也可以使其在向該方向的相反方 向移動的同時供給顯影液。即，變更為在俯視觀察時顯影液噴嘴11沿徑向從 基板W的大致中心向基板W的周邊緣移動。
(5) 在所述的實施例中，噴出口a為圓形，但若能夠以棒狀流下所噴出 的顯影液，則能夠?qū)姵隹?a的形狀適當?shù)刈兏鼮榫匦?正方形)或其他的 形狀。
(6) 在所述的實施例中，特別是在對第一處理例的說明中提出了，作為 相鄰的噴出口 a之間的間隔la優(yōu)選同時分離附著的顯影液能夠在基板W上合 流的數(shù)值，但并不僅限定于此。例如，也可以較大地設計相鄰的噴出口 a之間的間隔la，達到即使同時分離附著的顯影液擴散到基板W上也不能夠合流 的程度。即使在變更為這樣的顯影液噴嘴11的情況下，通過執(zhí)行第二處理例 或第三處理例，能夠無間隙地向基板W的整個面供給顯影液。
在不脫離其思想或者本質(zhì)的前提下，能夠以其他具體實施方式
來實施本 發(fā)明，因此，作為表示發(fā)明的范圍并不是上述的說明，而應該參照附加的權(quán) 利要求。
權(quán)利要求
1. 一種顯影裝置，對基板進行顯影，其特征在于，包括旋轉(zhuǎn)保持部，其能夠旋轉(zhuǎn)地保持基板；顯影液供給部，其形成有排成一列的用于噴出顯影液的多個噴出口，使各噴出口噴出的顯影液以相互分離的狀態(tài)附著在基板上；移動機構(gòu)，其一邊將所述噴出口的排列方向保持在俯視觀察時朝向基板的中心的一個方向上，一邊沿著該一個方向移動所述顯影液供給部，從而使所述顯影液供給部在俯視觀察時的基板的大致中心和周邊緣之間移動；控制部，其控制所述旋轉(zhuǎn)保持部和所述移動機構(gòu)，使得顯影液從各噴出口分別以螺旋狀附著在基板上，由此對基板進行顯影。
2. 如權(quán)利要求1所述的顯影裝置，其特征在于，所述噴出口所噴出的顯 影液以棒狀流下。
3. 如權(quán)利要求l所述的顯影裝置，其特征在于，各噴出口設置為相互接 近，在各噴出口同時噴出了顯影液時，位于顯影液附著在基板上的附著位置 之間的基板面被附著后擴散的顯影液覆蓋。
4. 如權(quán)利要求1所述的顯影裝置，其特征在于，所述控制部控制所述旋 轉(zhuǎn)保持部和所述移動機構(gòu)，使得相鄰顯影液的附著位置的軌跡彼此相接近， 從而使位于這些軌跡與軌跡之間的基板面被附著后擴散的顯影液覆蓋。
5. 如權(quán)利要求1所述的顯影裝置，其特征在于，所述控制部控制所述旋 轉(zhuǎn)保持部和所述移動機構(gòu)以調(diào)整基板的轉(zhuǎn)速和所述顯影液供給部的移動速度 之間的關(guān)系，由此控制相鄰顯影液附著位置的軌跡之間的間隔。
6. 如權(quán)利要求5所述的顯影裝置，其特征在于，所述控制部進行控制， 以使所述間隔為預先設定的規(guī)定值或者在規(guī)定范圍內(nèi)。
7. 如權(quán)利要求l所述的顯影裝置，其特征在于，所述控制部在使基板旋 轉(zhuǎn)一周的過程中，使所述顯影液供給部的位于移動方向上的最后方的噴出口 移動至如下位置，§卩，在移動方向側(cè)與在開始旋轉(zhuǎn)一周的時刻位于最前方的 噴出口的位置相接近的位置。
8. 如權(quán)利要求1所述的顯影裝置，其特征在于，所述控制部進行控制， 以使在與各噴出口相對應的多個顯影液附著位置的軌跡中，至少任意兩個軌 跡相重疊。
9. 如權(quán)利要求8所述的顯影裝置，其特征在于，所述控制部進行控制， 以使與各噴出口相對應的顯影液附著位置的軌跡互相重疊。
10. 如權(quán)利要求1所述的顯影裝置，其特征在于，所述控制部在使基板 旋轉(zhuǎn)一周的過程中使所述顯影液供給部移動的距離，是用從噴出口的總數(shù)減 去1后的數(shù)值來除相鄰的噴出口的中心間距離所得到的值。
11. 如權(quán)利要求1所述的顯影裝置，其特征在于，所述控制部在使基板 旋轉(zhuǎn)一周的過程中使所述顯影液供給部移動的距離比相鄰的噴出口的中心間 距離更短。
12. 如權(quán)利要求1所述的顯影裝置，其特征在于，各噴出口是直徑約為 lmm的圓形，相鄰的噴出口之間分別相隔約3mm。
13. 如權(quán)利要求1所述的顯影裝置，其特征在于，所述控制部在使顯影 液從各噴出口分別以螺旋狀附著在基板上以對基板進行顯影時，將基板的轉(zhuǎn) 速及所述顯影液供給部的移動速度分別控制為恒定。
14. 一種顯影裝置，對基板進行顯影，其特征在于，包括 旋轉(zhuǎn)保持部，其能夠旋轉(zhuǎn)地保持基板；顯影液供給部，其形成有排成一列的用于噴出顯影液的多個噴出口，使 各噴出口噴出的顯影液以相互分離的狀態(tài)附著在基板上；移動機構(gòu)，其在使所述噴出口的排列方向與基板的徑向平行的狀態(tài)下， 使所述顯影液供給部沿著基板的徑向在基板的大致中心和周邊緣之間移動；控制部，其控制所述旋轉(zhuǎn)保持部和所述移動機構(gòu)，使得顯影液從各噴出 口分別以螺旋狀附著在基板上，由此對基板進行顯影。
15. 如權(quán)利要求14所述的顯影裝置，其特征在于，所述噴出口所噴出的 顯影液以棒狀流下。
16. 如權(quán)利要求14所述的顯影裝置，其特征在于，各噴出口設置為相互 接近，在各噴出口同時噴出了顯影液時，位于顯影液附著在基板上的附著位 置之間的基板面被附著后擴散的顯影液覆蓋。
17. 如權(quán)利要求14所述的顯影裝置，其特征在于，所述控制部控制所述 旋轉(zhuǎn)保持部和所述移動機構(gòu)，使得相鄰顯影液的附著位置的軌跡彼此相接近， 從而使位于這些軌跡與軌跡之間的基板面被附著后擴散的顯影液覆蓋。
18. 如權(quán)利要求14所述的顯影裝置，其特征在于，所述控制部控制所述旋轉(zhuǎn)保持部和所述移動機構(gòu)以調(diào)整基板的轉(zhuǎn)速和所述顯影液供給部的移動速 度之間的關(guān)系，由此控制相鄰顯影液附著位置的軌跡之間的間隔。
19. 如權(quán)利要求18所述的顯影裝置，其特征在于，所述控制部進行控制，以使所述間隔為預先設定的規(guī)定值或者在規(guī)定范圍內(nèi)。
20. 如權(quán)利要求14所述的顯影裝置，其特征在于，所述控制部在使基板 旋轉(zhuǎn)一周的過程中，使所述顯影液供給部的位于移動方向上的最后方的噴出 口移動至如下位置，即，在移動方向側(cè)與在開始旋轉(zhuǎn)一周的時刻位于最前方 的噴出口的位置相接近的位置。
全文摘要
一種顯影裝置，具有旋轉(zhuǎn)卡盤，其用于保持基板，而且所保持的所述基板能夠自由旋轉(zhuǎn)；顯影液噴嘴，其形成有排成一列的噴出顯影液的多個噴出口，并且使各噴出口噴出的顯影液以相互分離的狀態(tài)附著到基板上；水平移動機構(gòu)，在俯視觀察時，其將噴出口的排列方向保持在朝向基板中心的一個方向，同時沿該一個方向移動顯影液噴嘴，從而在俯視觀察時于基板的大致中心和周邊緣之間移動顯影液噴嘴；控制部，其控制旋轉(zhuǎn)卡盤和水平移動機構(gòu)，使顯影液分別以螺旋狀從各噴出口附著到基板上，從而對基板進行顯影。
文檔編號G03F7/30GK101414132SQ200810166610
公開日2009年4月22日 申請日期2008年10月15日 優(yōu)先權(quán)日2007年10月18日
發(fā)明者久井章博, 山口晃, 春本將彥, 杉山念, 黑田拓也 申請人:株式會社迅動