專利名稱：清洗治具的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種夾持裝置，尤其涉及一種用于清洗光學(xué)元件的治具。
背景技術(shù)：
隨著多媒體技術(shù)的發(fā)展，照相機(jī)、數(shù)碼照相機(jī)、手機(jī)照相鏡頭等成像器材越來越為廣大消費者青睞，在人們對照相機(jī)、數(shù)碼照相機(jī)、手機(jī)照相鏡頭追求小型化的同時，對其拍攝出物體的影像質(zhì)量提出更高的要求，即希望拍攝物體的影像畫面清晰，而物體的成像質(zhì)量于很大程度上取決于相機(jī)內(nèi)各光學(xué)儀器的優(yōu)劣。
相機(jī)內(nèi)成像模組一般包括透鏡、光學(xué)濾光片及影像感測元件，如電荷耦合器Charge Coupled Device，簡稱CCD，或者補(bǔ)充性氧化金屬半導(dǎo)體Complementary Metal-Oxide Semiconductor，簡稱CMOS。在生產(chǎn)透鏡及光學(xué)濾光片等這些光學(xué)元件過程中，為達(dá)到較高的潔凈度，一般在這些光學(xué)元件鍍膜前及鍍膜后，都需經(jīng)過清洗過程，目的是為了去除附著于這些光學(xué)元件表面的臟污、油漬及微粒等。而在清洗過程中，需將這些光學(xué)元件固定于治具上，并以適當(dāng)?shù)娜芤杭案呒兌热ルx子水進(jìn)行清洗。
一般的光學(xué)元件清洗用的治具30，如圖1所示，該治具30是利用三點固定的方式固定待清洗之光學(xué)元件40。治具30中的三個清洗條302是可在此治具30上做適當(dāng)距離的調(diào)整，利用嵌在該清洗條302上鐵氟龍(Teflon)材料所形成的V槽304，分別在元件的左、右、下方給予支撐。惟，鐵氟龍所形成的V槽304的厚度及深度會阻擋水流，使光學(xué)元件40被夾持的部份清洗不干凈，再者在清洗過程中，若夾持光學(xué)元件40太松，光學(xué)元件40無法承受后期超音波震蕩而脫落。或夾持太緊，光學(xué)元件40不易放入及不易取出，容易造成損壞。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，有必要提供一種可有效輔助清洗光學(xué)元件的治具。
一種用于清洗光學(xué)元件的治具，其中，包括一個蓋體及至少一個本體。該蓋體至少開設(shè)一個第一通孔。該本體至少開設(shè)有一個與第一通孔相對應(yīng)的第二通孔，該第二通孔具有一個第一開口與一個第二開口，蓋體與本體配合時，第一開口較第二開口更接近該蓋體，可使蓋體與本體配合清洗時，于本體中形成至少一個用于收容光學(xué)元件的收容空間，該收容空間限定該光學(xué)元件，以防止該光學(xué)元件從第一通孔或第二通孔的第二開口脫落。
所述的治具，在蓋體與本體配合清洗時，可形成用于收容待清洗的光學(xué)元件的收容空間，光學(xué)元件在收容空間內(nèi)有活動的空間，不會阻擋清洗液的流動，使光學(xué)元件在清洗過程中可全面接觸清洗液，從而可被全面清洗，提高了清洗潔凈度與良率。由于在清洗過程中，光學(xué)元件被限定在收容空間內(nèi)，不會造成脫落；清洗完畢后，只需將蓋體與本體分離，便可方便地取出光學(xué)元件。


圖1為現(xiàn)有技術(shù)的一種用于清洗光學(xué)元件的治具的使用狀態(tài)示意圖。
圖2為本發(fā)明第一實施例提供的一種用于清洗光學(xué)元件的治具截面示意圖。
圖3為圖2所示治具的一種蓋體的一個平面示意圖。
圖4為圖2所示治具的另一種蓋體的一個平面示意圖。
圖5為圖2所示治具的一種本體的一個平面示意圖。
圖6為圖5所示治具的一種本體的一個剖面示意圖。
圖7為圖2所示治具的另一種本體的一個平面示意圖。
圖8為圖2所示治具在清洗過程中的一個使用狀態(tài)示意圖。
圖9為圖2所示治具在清洗過程中的另一個使用狀態(tài)示意圖。
圖10為本發(fā)明第二實施例提供的一種用于清洗光學(xué)元件的治具剖面示意圖。
圖11為圖10所示治具在清洗過程中的一個使用狀態(tài)示意圖。
具體實施例方式
下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明實施例作進(jìn)一步的詳細(xì)說明。
請參閱圖2，本發(fā)明第一實施例提供一種治具10，該治具10包括一個蓋體100及一個本體200。該治具10的材料為鋁、鋁合金、不銹鋼、鈦合金、銅和耐熱工程塑料中的一種，并可以使用CNC加工技術(shù)加工制作該治具10。
蓋體100開設(shè)有多個第一通孔102，該多個第一通孔102是相隔一定的距離而開設(shè)在蓋體100上。本實施例中，如圖3所示，該多個第一通孔102為圓形孔。當(dāng)然，該多個第一通孔102也可為方形孔，如圖4所示，或及其他形狀，如三角形孔，菱形孔等。
本體200開設(shè)有多個與蓋體100的多個第一通孔102相對應(yīng)的第二通孔202，如圖5所示。每個第二通孔202圓形孔，其具有一個第一開口204與一個第二開口206，第一開口204的孔徑比第一通孔102的孔徑及第二開口206的孔徑大，如圖6所示。當(dāng)蓋體100與本體200配合使用時，第一開口204較第二開口206更接近蓋體100。優(yōu)選的，當(dāng)蓋體100與本體200配合時，該第一開口204與第二開口206為同心開設(shè)在本體200中，及第二通孔202與第一通孔102同心開設(shè)于治具10上。本實施例中，該第二通孔200的截面為一級階梯。如此，當(dāng)蓋體100與本體200相疊起配合使用時，就會于本體200中形成多個用于收容待清洗光學(xué)元件的收容空間300，該收容空間300限定該光學(xué)元件，以防止該光學(xué)元件從第一通孔102或第二通孔202的第二開口206脫落。需要指出的是，該多個第二通孔200也可為方形孔，如圖7所示，或其他形狀，如三角形孔、菱形孔等。
優(yōu)選的，蓋體100的第一通孔102的孔徑與本體200的第二通孔202的第二開口206的孔徑相同，且該孔徑比待清洗的光學(xué)元件的尺寸要小。而本體200的第一開口204的孔徑比待清洗的光學(xué)元件的尺寸要大。如待清洗的光學(xué)元件是圓形，則第一通孔102與第二開口206的孔徑要比該圓形光學(xué)元件的直徑小，而第一開口204的孔徑比該圓形光學(xué)元件的直徑大。另外，當(dāng)蓋體100與本體200配合使用時，為了可以收容待清洗的光學(xué)元件，第一開口204的深度應(yīng)比待清洗的光學(xué)元件的厚度大。例如，對于直徑3.5毫米(mm)、厚0.3mm的待清洗光學(xué)元件，可將蓋體100的第一通孔102的孔徑設(shè)計為直徑等于3.2±0.1mm，而第二通孔202的第一開口204的孔徑設(shè)計為直徑等于3.7±0.1mm，及第二開口206的孔徑設(shè)計為直徑等于3.2±0.1mm。而第二通孔202的第一開口204的深度則比待清洗光學(xué)元件的厚度大，如第一開口204的深度為0.6±0.1mm，及第二開口206的深度為0.6±0.1mm。
為了避免在清洗光學(xué)元件時，蓋體100與本體200發(fā)生移位或脫落，可于蓋體100的四個角落的開設(shè)四個第一螺孔104，如圖3所示，及于本體200開設(shè)四個與該四個第一螺孔104相對應(yīng)的第二螺孔208，如圖5所示，最后以螺絲400及螺帽500鎖住四個角落，如圖8所示，從而可固定蓋體100與本體200的相對位置，保證清洗過程能順利完成。當(dāng)然，也可以使用其他手段固定蓋體100與本體200的相對位置，如以多個夾子600將蓋體100與本體200夾住，如圖9所示。
請再次參閱圖8及圖9，當(dāng)清洗玻璃或塑料鏡片20，或其他光學(xué)元件前，首先，將待清洗的光學(xué)元件20自第二通孔202的第一開口204中放進(jìn)本體200中，然后，將蓋體100、本體200疊起并使第二通孔202的第一開口204較第二開口206更接近蓋體100，再以上述的固定手段或其他固定手段固定蓋體100與本體200的相對位置。
請參閱圖10，本發(fā)明第二實施例提供一種治具10’，該治具10’與第一實施例提供的治具10的不同之處在于，該治具10’包括一個蓋體100及兩個本體200，該蓋體100與兩個本體200為堆疊設(shè)置在一起。該兩個本體200的第二通孔與蓋體100的第一通孔同心設(shè)置在治具10’上。需要指出的是，本體200的數(shù)目也可以三個或以上。
請參閱圖11，當(dāng)使用治具10’用于清洗光學(xué)元件20時，上一個本體200可以作為下一個本體200的蓋體，從而可節(jié)省治具的制造成本，并可達(dá)到批量清洗光學(xué)元件20的目的，有效縮短批量生產(chǎn)光學(xué)元件20的制造工時?？梢岳斫獾氖?，用于固定該蓋體100與多個本體200的相對位置可采用本發(fā)明第一實施例提供的固定手段；當(dāng)該兩個本體200與蓋體100配合時，蓋體100的通孔與本體200的通孔較佳地同心開設(shè)于該治具10’上。
本實施例提供的治具10，通過本體200上開設(shè)的不同孔徑的開口，及蓋體100與本體200配合形成用于收容待清洗的光學(xué)元件20的收容空間300，光學(xué)元件20在收容空間300內(nèi)有活動的空間，不會阻擋清洗液的流動，使光學(xué)元件20在清洗過程中可全面接觸清洗液，從而可被全面清洗，提高了清洗潔凈度與良率。由于在清洗過程中，光學(xué)元件20被限定在收容空間300內(nèi)，不會造成脫落；清洗完畢后，只需將蓋體100與本體200分離，便可方便地取出光學(xué)元件20。一個蓋體100與多個本體200配合使用，更可達(dá)到批量清洗光學(xué)元件20的目的，有效縮短批量生產(chǎn)光學(xué)元件20的制造工時。
另外，本領(lǐng)域技術(shù)人員還可以在本發(fā)明精神內(nèi)做其它變化，如通孔形狀的變化，蓋體及/或本體的形狀變化，及本體數(shù)目的變化。當(dāng)然，這些依據(jù)本發(fā)明精神所做的變化，都應(yīng)包含在本發(fā)明所要求保護(hù)的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種用于清洗光學(xué)元件的治具，其特征在于，包括一個蓋體，該蓋體至少開設(shè)一個第一通孔；及一個本體，該本體至少開設(shè)有一個與第一通孔相對應(yīng)的第二通孔，該第二通孔具有一個第一開口與一個第二開口，蓋體與本體配合時，第一開口較第二開口更接近該蓋體，可使蓋體與本體配合清洗時，于本體中形成至少一個用于收容光學(xué)元件的收容空間，該收容空間限定該光學(xué)元件，以防止該光學(xué)元件從第一通孔或第二通孔的第二開口脫落。
2.如權(quán)利要求1所述的治具，其特征在于，所述的第一通孔為圓形通孔或方形通孔。
3.如權(quán)利要求2所述的治具，其特征在于，所述的第二通孔為圓形通孔或方形通孔。
4.如權(quán)利要求3所述的治具，其特征在于，所述的第二通孔的截面為階梯形狀。
5.如權(quán)利要求1所述的治具，其特征在于，所述的第一開口與第二開口為同心開設(shè)在本體上。
6.如權(quán)利要求5所述的治具，其特征在于，所述的蓋體與本體配合時，第一通孔與第二通孔同心開設(shè)在該治具上。
7.如權(quán)利要求1所述的治具，其特征在于，所述的蓋體進(jìn)一步包括位于其四個角落的四個第一螺孔，及本體進(jìn)一步包括四個與該四個第一螺孔相對應(yīng)的第二螺孔。
8.如權(quán)利要求1所述的治具，其特征在于，所述的治具進(jìn)一步包括另一個相同的本體，當(dāng)該兩個本體與蓋體配合時，該兩個本體的第二通孔與第一通孔為同心開設(shè)在治具上。
9.如權(quán)利要求1所述的治具，其特征在于，所述的治具是用至少一個夾子將蓋體與本體配合在一起以固定蓋體與本體的相對位置。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于清洗光學(xué)元件的治具，其包括一個蓋體及至少一個本體。蓋體至少開設(shè)一個第一通孔。本體至少開設(shè)有一個與第一通孔相對應(yīng)的第二通孔，該第二通孔具有一個第一開口與一個第二開口，蓋體與本體配合時，第一開口較第二開口更接近蓋體，使蓋體與本體配合時，于本體中形成一個用于收容光學(xué)元件的收容空間，收容空間限定光學(xué)元件。所述治具在蓋體與本體配合時可形成用于收容待清洗的光學(xué)元件的收容空間，清洗時，不會阻擋清洗液的流動，使光學(xué)元件在清洗過程中可全面接觸清洗液，提高了清洗潔凈度與良率。由于在清洗過程中，光學(xué)元件被限定在收容空間內(nèi)，不會造成脫落；清洗完畢后，只需將蓋體與本體分離，便可方便地取出光學(xué)元件。
文檔編號B25B11/00GK101088637SQ20061006113
公開日2007年12月19日 申請日期2006年6月14日 優(yōu)先權(quán)日2006年6月14日
發(fā)明者董才士, 李欣和 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司