專利名稱：清洗治具的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種夾持裝置，尤其涉及一種用于清洗光學(xué)元件的清洗治具。
背景技術(shù)：
隨著多媒體技術(shù)的發(fā)展，照相機、數(shù)碼照相機、手機照相鏡頭等成像器 材越來越為廣大消費者青睞，在人們對照相機、數(shù)碼照相機、手機照相鏡頭 追求小型化的同時，對其拍攝出物體的影像質(zhì)量提出更高的要求，即希望拍 攝物體的影像畫面清晰，而物體的成像質(zhì)量于很大程度上取決于相機內(nèi)各光 學(xué)儀器的優(yōu)劣。
相機內(nèi)成像模組一般包括透鏡、光學(xué)濾光片及影像感測元件，如電荷耦
合器Charge Coupled Device,簡稱CCD,或者補充性氧化金屬半導(dǎo)體 Complementary Metal-Oxide Semiconductor,簡稱CMOS。在生產(chǎn)透鏡及光學(xué) 濾光片等這些光學(xué)元件過程中，為達到較高的潔凈度， 一般在這些光學(xué)元件 鍍膜前及鍍膜后，都需經(jīng)過清洗過程，目的是為了去除附著于這些光學(xué)元件 表面的臟污、油漬及微粒等。而在清洗過程中，需將這些光學(xué)元件固定于治 具上，并以適當(dāng)?shù)娜芤杭案呒兌热ルx子水進行清洗。
一般的光學(xué)元件清洗用的治具30,如圖1所示，該治具30是利用三點固定 的方式固定待清洗之光學(xué)元件40。治具30中的三個清洗條302是可在此治具30 上做適當(dāng)距離的調(diào)整，利用嵌在該清洗條302上鐵氟龍(Teflon)材料所形成的 V槽304,分別在元件的左、右、下方給予支撐。惟，鐵氟龍所形成的V槽304 的厚度及深度會阻擋水流，使光學(xué)元件40被夾持的部份清洗不干凈，再者在 清洗過程中，若夾持光學(xué)元件40太松，光學(xué)元件40無法承受后期超音波震蕩 而脫落?；驃A持太緊，光學(xué)元件40不易放入及不易取出，容易造成損壞。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，有必要提供一種可有效輔助清洗光學(xué)元件的清洗治具。
一種用于清洗光學(xué)元件的清洗治具，其中，包括 一個蓋體及一個本體。 該蓋體至少開設(shè)一個第一通孔，該第一通孔呈漏斗狀，該第一通孔具有一個 第 一開口及一個與第 一開口相對且位于漏斗狀第 一通孔底部的第二開口 。該 本體至少開設(shè)有一個與第一通孔相對應(yīng)的第二通孔，該第二通孔具有一個第 三開口及一個與第三開口相對的第四開口 ，該第二通孔的孔壁至少具有一個 位于第三開口與第四開口之間的環(huán)狀突出支撐部，該支撐部與第四開口之間 的第二通孔部分呈倒漏斗狀，蓋體與本體配合清洗時，第二開口與第三開口 相接，使該支撐部與蓋體間至少形成一個收容空間，該收容空間限定該光學(xué) 元件，以防止該光學(xué)元件從治具中脫落。
所述的治具，在蓋體與本體配合清洗時，可形成用于收容待清洗的光學(xué) 元件的收容空間，光學(xué)元件在收容空間內(nèi)有活動的空間，不會阻擋清洗液的 流動，使光學(xué)元件在清洗過程中可全面接觸清洗液，從而可^皮全面清洗，提 高了清洗潔凈度與良率。由于在清洗過程中，光學(xué)元件被限定在收容空間內(nèi)， 不會造成脫落；清洗完畢后，只需將蓋體與本體分離，便可方便地取出光學(xué) 元件。漏斗狀的通孔設(shè)計，可增加清洗過程中清洗液的流動性，從而提高清 洗液流帶走光學(xué)元件表面臟污的能力，更有效地清洗光學(xué)元件。


圖l為現(xiàn)有技術(shù)的一種用于清洗光學(xué)元件的清洗治具的使用狀態(tài)示意圖。
圖2為本發(fā)明第一實施例提供的一種用于清洗光學(xué)元件的清洗治具截面 示意圖。
圖3為圖2所示清洗治具的一種蓋體的截面示意圖。
圖4為圖3所示清洗治具的一種蓋體的平面示意圖。
圖5為圖3所示清洗治具的另一種蓋體的平面示意圖。
圖6為圖2所示清洗治具的一種本體的平面示意圖。
圖7為圖6所示清洗治具的一種本體的截面示意圖。
圖8為圖2所示清洗治具的另一種本體的平面示意圖。
圖9為圖2所示清洗治具在清洗過程中的 一個使用狀態(tài)示意圖。
圖10為圖2所示清洗治具在清洗過程中的另一個使用狀態(tài)示意圖。
具體實施方式

下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明實施例作進一步的詳細說明。
請參閱圖2 ，本發(fā)明第 一 實施例提供一種用于清洗光學(xué)元件的清洗治具
10,該治具10包括一個蓋體100、 一個本體200及多個用于收容光學(xué)元件的收 容空間300。該治具10的材料為鋁、鋁合金、不銹鋼、鈦合金、銅和耐熱工程 塑料中的一種，并可以使用CNC(Computerized Numerical Control)加工技術(shù)加 工制作該治具IO。
請參閱圖3及圖4，蓋體100開設(shè)有多個第一通孔102，該多個第一通孔102 是相隔一定的距離而開設(shè)在蓋體100上。該第一通孔102呈漏斗狀，該第一通 孔102具有一個第一開口 104及一個與第一開口 104相對且位于漏斗狀第一通 孔102底部的第二開口 106，第一開口 104的孔徑比第二開口 106的孔徑大。漏 斗狀的通孔可增加清洗過程中清洗液的流動性，從而提高清洗液流帶走光學(xué) 元件表面臟污的能力。本實施例中，每個第一通孔102沿垂直于該第一通孔102 軸向方向的截面為圓形。當(dāng)然，第一通孔102沿垂直于該第一通孔102軸向方 向的截面也可為方形，如圖5所示，或及其他形狀，如三角形，菱形等。
本體200開設(shè)有多個與蓋體100的多個第一通孔102相對應(yīng)的第二通孔 202，如圖6所示。每個第二通孔202沿垂直于該第二通孔202軸向方向的截面 為圓形，其具有一個第三開口204與一個與第三開口204相對的第四開口206， 第三開口204的孔徑比第二開口 106的孔徑大。每個第二通孔202的孔壁具有一 個位于第三開口 204與第四開口 206之間的環(huán)狀突出支撐部208，該環(huán)狀突出支 撐部208所形成的開口為第五開口210。該支撐部208可用于支撐光學(xué)元件，該 支撐部208與第四開口206間的第二通孔202部分呈倒漏斗狀，如圖7所示，也 可增加清洗過程中清洗液的流動性，從而^是高清洗液流帶走光學(xué)元件表面臟 污的能力。當(dāng)蓋體100與本體200配合使用時，第二開口 106較第一開口 104更 接近本體IOO,且第二開口 106與第三開口204相接。優(yōu)選的，當(dāng)蓋體100與本 體200配合時，第一開口104>第二開口106、第三開口204及第四開口206為同 心開設(shè)在治具10上。當(dāng)蓋體100與本體200相疊起配合清洗時，便會于本體200 中形成多個用于收容待清洗光學(xué)元件的收容空間300，該收容空間300限定該 光學(xué)元件，以防止該光學(xué)元件在清洗過程中從治具10中脫落。需要指出的是，
每個第二通孔202沿垂直于該第二通孔202軸向方向的截面也可為方形，如圖8 所示，或其他形狀，如三角形、菱形等。
優(yōu)選的，蓋體100的第一通孔102的第二開口的孔徑與第五開口210孔徑 相同，且該孔徑比待清洗的光學(xué)元件的尺寸要小。而本體200的第三開口204 的孔徑比待清洗的光學(xué)元件的尺寸要大。如待清洗的光學(xué)元件是圓形，則第 一通孔102的第二開口 106的孔徑與第五開口210孔徑相同，且都比該圓形光學(xué) 元件的直徑小，而第三開口204的孔徑比該圓形光學(xué)元件的直徑大。另外，當(dāng) 蓋體100與本體200配合使用時，為了可以收容待清洗的光學(xué)元件，第三開口 204與第五開口210間的距離應(yīng)比待清洗的光學(xué)元件的厚度大。例如，對于直 徑3.5毫米(mm)、厚0.3mm的待清洗光學(xué)元件，可將蓋體100的第一通孔102 的第二開口 106的孔徑設(shè)計為直徑等于3.2土0.1mm,而第二通孔202的第三開 口204的孔徑設(shè)計為直徑等于3.7士0.1mm，及第五開口 210的孔徑設(shè)計為直徑 等于3.2土0.1mm。而第二通孑L202的第三開口 204與第五開口 210間的距離則比 待清洗光學(xué)元件的厚度大，如第三開口 204與第五開口 210間的距離為 0.6土0,lmm。
為了避免在清洗光學(xué)元件時，蓋體100與本體2Q0發(fā)生移位或脫落，可于 蓋體100的四個角落的開設(shè)四個第一螺孔108，如圖4所示，及于本體200開設(shè) 四個與該四個第一螺孔108相對應(yīng)的第二螺孔212,如圖6所示，最后以螺絲400 及螺帽500鎖住四個角落，如圖9所示，從而可固定蓋體100與本體200的相對 位置，保證清洗過程能順利完成。當(dāng)然，也可以使用其他手段固定蓋體IOO 與本體200的相對位置，如以多個夾子600將蓋體100與本體200夾住，如圖IO 所示。
請再次參閱圖9及圖10,當(dāng)清洗玻璃或塑料鏡片20,或其他光學(xué)元件前， 首先，將待清洗的光學(xué)元件20自第二通孔202的第三開口 204中放進本體200 中，支撐部208用于支撐該光學(xué)元件20,然后，將蓋體IOO、本體200疊起并使 第一通孔102的第二開口 106較第一開口 104更接近該本體200,且第二開口 106 與第三開口204相接，再以上述的固定手段或其他固定手段固定蓋體100與本 體200的相對位置。
本實施例提供的治具IO，通過本體200上開設(shè)的不同孔徑的開口 ，及蓋體 100與本體200配合形成用于收容待清洗的光學(xué)元件20的收容空間300，光學(xué)元
件20在收容空間300內(nèi)有活動的空間，不會阻擋清洗液的流動，使光學(xué)元件20 在清洗過程中可全面接觸清洗液，從而'可被全面清洗，提高了清洗潔凈度與 良率。由于在清洗過程中，光學(xué)元件20被限定在收容空間300內(nèi)，不會造成脫 落；清洗完畢后，只需將蓋體100與本體200分離，便可方便地取出光學(xué)元件 20。漏斗狀的通孔設(shè)計，可增加清洗過程中清洗液的流動性，從而提高清洗 液流帶走光學(xué)元件20表面臟污的能力，更有效地清洗光學(xué)元件20。
另外，本領(lǐng)域技術(shù)人員還可以在本發(fā)明精神內(nèi)做其它變化，如通孔形狀 的變化，蓋體及/或本體的形狀變化。當(dāng)然，這些依據(jù)本發(fā)明精神所做的變化， 都應(yīng)包含在本發(fā)明所要求保護的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種用于清洗光學(xué)元件的清洗治具，其特征在于，包括一個蓋體，該蓋體至少開設(shè)一個第一通孔，該第一通孔呈漏斗狀，該第一通孔具有一個第一開口及一個與第一開口相對且位于漏斗狀第一通孔底部的第二開口；及一個本體，該本體至少開設(shè)有一個與第一通孔相對應(yīng)的第二通孔，該第二通孔具有一個第三開口及一個與第三開口相對的第四開口，該第二通孔的孔壁至少具有一個位于第三開口與第四開口之間的環(huán)狀突出支撐部，該支撐部與第四開口之間的第二通孔部分呈倒漏斗狀，蓋體與本體配合清洗時，第二開口與第三開口相接，使該支撐部與蓋體間至少形成一個收容空間，該收容空間限定該光學(xué)元件，以防止該光學(xué)元件從治具中脫落。
2. 如權(quán)利要求l所述的清洗治具，其特征在于，所述的第一通孔沿垂直于該第一通孔軸向方向的截面為圓形或方形。
3. 如權(quán)利要求2所述的清洗治具，其特征在于，所述的第二通孔沿垂直 于該第二通孔軸向方向的截面為圓形或方形。
4. 如權(quán)利要求l所述的清洗治具，其特征在于，所述的第一開口、第二 開口、第三開口及第四開口為同心開設(shè)在清洗治具上。
5. 如權(quán)利要求l所述的清洗治具，其特征在于，所述的蓋體進一步包括 位于其四個角落的四個第一螺孔，所述本體進一步包括四個與該四個第一螺孔相對應(yīng)的第二螺孔。
6. 如權(quán)利要求l所述的清洗治具，其特征在于，所述的治具是用至少一 個夾子將蓋體與本體配合在一起以固定蓋體與本體的相對位置。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種清洗治具，其包括一個蓋體及一個本體。該蓋體至少開設(shè)一個第一通孔，該第一通孔呈漏斗狀，該第一通孔具有一個第一開口及一個與第一開口相對且位于漏斗狀第一通孔底部的第二開口。該本體至少開設(shè)有一個與第一通孔相對應(yīng)的第二通孔，該第二通孔具有一個第三開口及一個與第三開口相對的第四開口，該第二通孔的孔壁至少具有一個位于第三開口與第四開口之間的環(huán)狀突出支撐部，該支撐部與第四開口之間的第二通孔部分呈倒漏斗狀，蓋體與本體配合時，第二開口與第三開口相接，使該支撐部與蓋體間至少形成一個收容空間，該收容空間限定該光學(xué)元件，以防止該元件從治具中脫落。漏斗狀的通孔設(shè)計，可增加清洗液的流動性，有效地清洗光學(xué)元件。
文檔編號B25B11/00GK101099970SQ20061006156
公開日2008年1月9日 申請日期2006年7月7日 優(yōu)先權(quán)日2006年7月7日
發(fā)明者李欣和, 董才士 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司