含有泵出管保護(hù)環(huán)和/或蓋的真空絕緣玻璃窗單元及制備其的方法相關(guān)申請的相互參照本申請涉及2011年9月28日提交的題為“真空絕緣玻璃VIG單元泵出管保護(hù)技術(shù)和/或與其合并的VIG單元”的共同委任未決的美國專利申請No.13/246,980,其全部內(nèi)容被納入此處作為參考。技術(shù)領(lǐng)域本說明書涉及一種含有泵出管的真空絕緣玻璃(VIG)單元配置。特別是,本說明書涉及一種VIG單元配置,包括保護(hù)部件,例如環(huán),用來防止泵出管在多個制造過程期間受到損壞,包括VIG單元配置有另一個層壓基片的過程中,但并不局限于此。本說明書還涉及一種蓋子,其可配置在另一個層壓基片上并在泵出管和護(hù)環(huán)之上。本說明書進(jìn)一步提出一種制備VIG單元的示例性方法,包括保護(hù)部件或環(huán),用來防止VIG單元的泵出管受到損壞。背景和示例性實施例概述真空絕緣玻璃VIG單元通常包括至少兩個分離的玻璃基片,其中附有排空或低壓空間。上述基片由外邊緣密封互相連接并通常包括隔離片,位于玻璃基片之間,來保持玻璃基片之間的間距,防止由于基片之間的低壓環(huán)境而造成的玻璃基片損毀。一些示例性VIG配置在類似美國專利Nos.5,664,395,5,657,607和5,902,652中被公開,在此其公開的內(nèi)容被納入此處作為參照。圖1和圖2示出現(xiàn)有的VIG單元1和用于形成VIG單元1的元件。例如VIG單元1可包括兩個分離的玻璃基片2、3,其中附有排空或低壓空間6。玻璃片或基片2、3由外邊緣密封4互相連接,其可由熔融焊料玻璃被制成。玻璃基片2、3之間可包括一組支承柱/隔離片5,鑒于基片2、3之間存在的低壓空間/間隙,來維持VIG單元1的基片2、3的間距。泵出管8可通過焊料玻璃9被氣密密封至孔/空穴10,從玻璃基片2的內(nèi)表面通向玻璃基片2外表面中的凹槽11底部。真空被連接至泵出管8,將內(nèi)部腔6排空至低壓。在腔6排空后,管8被熔化來密封真空。凹槽11用來固定密封的泵出管8。選擇性地,凹槽13中可包括化學(xué)吸氣劑12,其配置在玻璃基片,例如,玻璃基片2的內(nèi)表面中。通常,具熔融焊料玻璃外邊緣密封4的VIG單元,通過在基片2的外圍沉積溶液狀的玻璃熔塊被制造。該玻璃熔塊最終形成玻璃焊料邊緣密封4。第二基片3被配置在基片2上,從而使隔離片/支承柱5和玻璃熔塊溶液夾在兩個基片2,3之間。整個組件包括玻璃基片2,3、隔離片或支承柱5、和密封材料(例如,溶液狀的玻璃熔塊),然后加熱到至少約500℃的溫度,此時玻璃熔塊被熔化弄濕玻璃基片2,3的表面,并最終形成氣密密封的外圍或邊緣密封4。邊緣密封4形成之后,真空通過泵出管8被抽出,在基片2,3之間形成低壓空間6??臻g6中的壓力可通過排空處理方式產(chǎn)生且水平低于大氣壓力,例如10-2Torr以下。為了在空間或腔6中維持低壓力,基片2,3被氣密密封。在基片之間提供小的高強度隔離片或支承柱5,以維持基本平行的基片分離來對抗大氣壓力。當(dāng)基片2,3之間的空間6被排空,泵出管8可被密封,例如,通過激光熔化或類似等。泵出管8通常位于基片的一個角落,例如圖1和2中所示出的。泵出管8可由玻璃制成并突出于玻璃基片的表面之上,來促進(jìn)泵送和隨后的熔融。由于泵出管8通常是由玻璃制成并延伸至基片表面之上,因此其十分易碎并容易受到損壞。為了解決上述和其他易碎問題,有時在排空和熔融之后在管上配置保護(hù)蓋。保護(hù)蓋結(jié)構(gòu)和安裝方法有許多,如上述參考納入的美國專利申請No.13/246,980中指出的,一些配置仍具有缺陷。此外,一些新改進(jìn)的VIG結(jié)構(gòu)被開發(fā)。根據(jù)一些結(jié)構(gòu)配置,例如圖1和圖2中所示出的VIG單元1,制備為具有附加的層壓板或基片,例如可配置在含有泵出口的基片上或之上。附加的層壓板可通過含有聚合物粘合劑的層壓膜形式被粘合至常規(guī)VIG單元的一個基片,聚合物粘合劑可以是PVB或類似等。在處理上面層壓附加的基片的VIG配置中的泵出管時會出現(xiàn)附加的問題。例如,在將附加的基片層壓在VIG單元的設(shè)有泵出口的一側(cè)時,層壓的附加基片和層壓膜必須設(shè)置有孔來容納突出的泵出管。當(dāng)層壓基片和層壓膜配置在VIG單元的基片上時,孔必須具有可向泵出管提供足夠間隙的直徑。由于生成孔時的制造公差,以及保護(hù)蓋的后續(xù)配置,孔與保護(hù)蓋可能不同心或甚至不能基本同心地對齊。此外,附加的層壓基片中所形成的出入孔的玻璃邊緣可能具有粗糙的邊緣。所有的這些因素,例如,孔和保護(hù)蓋被較差的對準(zhǔn),以及層壓基片中的出入口周圍的粗糙邊緣,都會導(dǎo)致最終層壓的VIG單元外觀不理想。一個解決方案是,層壓過程之后在附加的層壓基片中的孔上配置蓋子,其在下面的VIG單元上提供層壓的基片,來形成層壓的VIG單元。但是,被提出的解決方案具有眾多缺陷。例如,如上所述,泵出管易碎,且在層壓過程期間被露出,從而其在層壓過程期間更容易被損壞。另一解決方案是在層壓過程結(jié)束時在第一蓋子上簡單地配置第二蓋子。該解決方案也具有一些缺陷,包括,例如,完成的層壓VIG單元將在多層保護(hù)蓋區(qū)域內(nèi)出現(xiàn)明顯的疊積高度。根據(jù)在此所述的示例性實施例,層壓過程之前可能包括在泵出管周圍配置處理保護(hù)環(huán)。其可與上述的其他可行性中的任何一個相結(jié)合被完成。在層壓過程期間,處理保護(hù)環(huán)提供屏障來保護(hù)泵出管,使其免于層壓過程期間可能發(fā)生的損壞。例如,當(dāng)層壓膜和/或?qū)訅夯行纬傻目椎倪吘壟c泵出管嚙合時,該力可能會打破或損壞泵出管。當(dāng)處理保護(hù)環(huán)配置在泵出管的露出部分周圍時,力會被處理保護(hù)環(huán)吸收,不然的話,力撞擊泵出管,從而可減少對泵出管的潛在損壞。在這方面,處理保護(hù)環(huán)的高度應(yīng)足以保護(hù)泵出管的露出部分。根據(jù)示例性實施例,優(yōu)選是,處理保護(hù)環(huán)的高度與密封的泵出管的高度相同??蛇x地,處理保護(hù)環(huán)的高度可小于或稍微小于密封的泵出管,只要處理保護(hù)環(huán)具有充分的高度對泵出管提供保護(hù)便可。此外優(yōu)選是,根據(jù)示例性實施例,處理保護(hù)環(huán)的高度小于或等于密封的泵出管的高度,從而避免完成的保護(hù)蓋具有附加的疊積高度。另外,通過提供處理保護(hù)環(huán),可減少層壓過程期間提供蓋子的必要性,且在一些非限制性的示例實施例中可能被去除。因此,層壓過程之后,單個的蓋子可配置在層壓膜和層壓基片中的孔上,其被提供用來容納突出的泵出管。此外,示例性實施例中,在泵出管之上提供單個不透明的或基本上不透明的保護(hù)蓋,處理保護(hù)環(huán),以及層壓膜和層壓基片中的孔,其優(yōu)點在于,單個外部的保護(hù)蓋可遮蓋所述孔和其露出的邊緣,從而遮蓋泵出管與孔的任何潛在的未對準(zhǔn)或非同心排列,否則可看見,來進(jìn)一步提高美觀性。根據(jù)進(jìn)一步的示例性實施例,保護(hù)蓋可進(jìn)一步配置有至少一個定位棱,配置在面對層壓玻璃基片的蓋的一側(cè)的外圍,從而棱可嚙合層壓基片中所形成的孔的內(nèi)邊緣。該定位棱為保護(hù)蓋提供附加的保護(hù)強度,當(dāng)保護(hù)蓋被置于層壓基片中的孔之上時可進(jìn)一步限制保護(hù)蓋的移動。此外,提供輪廓較低的保護(hù)蓋的優(yōu)點在于,其相比常規(guī)的保護(hù)蓋可提高層壓的VIG單元的美觀性。為了提供上述和其他優(yōu)點,一種示例性真空絕緣玻璃VIG組件,包括:第一和第二基本平行隔開的基本透明的基片;外圍邊緣密封,位于所述第一和第二隔開的基片的外圍,所述邊緣密封和所述第一和第二基片在其之間定義腔;泵出管,從靠近所述腔的所述第一基片的內(nèi)表面延伸,穿過所述第一基片并延伸至所述第一基片的外表面之外;和保護(hù)環(huán),配置在延伸至所述第一基片的外表面之外的所述泵出管的部分附近。根據(jù)進(jìn)一步的示例性實施例,提供一種層壓的真空絕緣玻璃組件,示例性層壓的真空絕緣玻璃組件包括:第一和第二基本平行隔開的玻璃基片;外圍邊緣密封,配置在所述第一和第二隔開的玻璃基片附近,所述邊緣密封和所述第一和第二玻璃基片在其之間定義腔,所述腔在低于大氣壓的壓力下;泵出管,從靠近所述腔的所述第一基片的內(nèi)表面延伸,穿過所述第一基片并延伸至所述第一基片的外表面之外;保護(hù)環(huán),配置在延伸至所述第一基片的外表面之外的所述泵出管的部分附近;第三玻璃基片,被層壓在所述第一基片之上,所述第三基片包括開口,在所述泵出管和所述保護(hù)環(huán)所在位置中;和蓋子,位于所述第三基片中的所述開口之上。根據(jù)示例性實施例,提供一種制備真空絕緣玻璃組件的示例性方法,示例性方法包括:提供第一玻璃基片;在所述第一基片上配置多個隔離片;沿所述第一基片的第一表面的外圍沉積邊緣密封材料;在所述第一玻璃基片上配置另一個玻璃基片,將所述隔離片和邊緣密封材料夾在其之間;加熱所述邊緣密封材料來形成密封,從而在所述基片之間形成腔;通過配置在一個所述基片中的泵出管將所述腔排空;通過將所述泵出管的一部分熔融來將其密封;將保護(hù)環(huán)配置在所述第一和第二玻璃基片中的一個之上并包圍所述泵出管的一部分,所述保護(hù)環(huán)被粘合連接至所述第一和第二玻璃基片中的一個;將第三基片層壓在至所述第一或第二基片上,所述泵出管的一部分延伸穿過其中;以及將蓋子配置在所述第三基片中的開口上,其中配置有所述保護(hù)環(huán)和所述泵出管的一部分。以下,有關(guān)示例性實施例參照附圖對上述和其他實施例的優(yōu)點進(jìn)行說明,其中,相同的參照符號表示相同的元件。附圖簡要說明圖1是示出現(xiàn)有的VIG單元的橫截面示圖。圖2是現(xiàn)有的VIG單元的俯視圖。圖3是示出根據(jù)示例性實施例的層壓VIG單元的橫截面示圖。圖4A是示出根據(jù)示例性實施例的處理保護(hù)環(huán)的俯視圖。圖4B是示出根據(jù)示例性實施例的處理保護(hù)環(huán)和粘合劑的仰視圖。圖5是示出根據(jù)示例性實施例的含有保護(hù)蓋的層壓VIG單元的橫截面示圖。圖6A是示出根據(jù)示例性實施例的保護(hù)蓋和粘合劑的仰視圖。圖6B是示出根據(jù)示例性實施例的保護(hù)蓋的橫截面示圖。圖7是示出根據(jù)示例性實施例的制備層壓VIG單元的方法的流程圖。示例性實施例的具體說明在此參照附圖對示例性實施例進(jìn)行詳細(xì)說明,相同的參照符號表示相同的元件。應(yīng)理解,在此所述的實施例僅用于說明,并不局限于此,本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在不脫離后附的權(quán)利要求書的精神和范圍下可進(jìn)行各種修改。根據(jù)示例性實施例,提供一種真空絕緣玻璃窗單元,具有至少一個處理保護(hù)環(huán),其圍繞于泵出管的露出部分,在排空過程之后被密封,從而在真空絕緣玻璃窗單元的第一和第二透明玻璃基片之間的腔中提供低壓(例如,低于大氣壓力)。示例性處理保護(hù)環(huán)可提供附加的保護(hù)來防止泵出管受到潛在的損壞(例如,泵出管的露出部分)。特別是,例如,在真空絕緣玻璃單元面對另外的制造過程時,類似通過層壓膜來層壓附加的玻璃基片。真空絕緣玻璃窗單元可作為建筑物的窗,例如:住宅、公寓大樓、和/或商業(yè)辦公大樓。真空絕緣玻璃窗單元還可作為建筑物門、冷凍室門的窗等。在示例性實施例中,真空絕緣玻璃窗單元具有至少30%的可見光透射率,更優(yōu)選是至少40%,甚至更優(yōu)選是至少50%,且甚至更優(yōu)選是至少60%或70%。根據(jù)進(jìn)一步的示例性實施例,層壓附加的透明玻璃基片之后,可在處理保護(hù)環(huán)和密封的泵出管之上配置保護(hù)蓋。優(yōu)選是,保護(hù)蓋可具有較低的輪廓來減少疊積高度,提高產(chǎn)品的美觀性,包括:例如遮蓋孔,從而隱藏可能會出現(xiàn)的任何不好看的視覺效果,類似層壓板、層壓膜、和泵出管中的孔未對準(zhǔn),孔的邊緣粗糙等,但并不局限于此。此外,保護(hù)蓋可配備有定位棱,被尺寸化從而可與層壓基片和/或?qū)訅耗ぶ械目讎Ш希浔挥脕砣菁{泵出管和處理保護(hù)環(huán),或是保護(hù)蓋一旦被置于孔之上后限制其的移動。參照圖3,示出根據(jù)示例性實施例的層壓VIG單元的橫截面示圖。層壓VIG單元20包括隔開的第一和第二透明玻璃基片2,3,通過邊緣密封4被互連,例如可以是熔合的焊料玻璃氣密封的邊緣密封。在實施例中,基片2,3可以是示例性實施例中的近似相同尺寸和/或相同尺寸。但是,在其他示例性實施例中,一個玻璃基片可大于所提供的另一個,例如,接近VIG單元的邊緣具有L形階梯。本領(lǐng)域中已知的常規(guī)邊緣密封組合物,可參照美國專利Nos.3,837,866;4,256,495;4,743,302;5,051,381;5,188,990;5,336,644;5,534,469;7,425,518,和美國公開號No.2005/0233885,其全部內(nèi)容被納入此處作為參考。其他合適的邊緣密封組合物在2012年1月20日提交的題為"用于釩基玻璃熔塊材料的熱膨脹系數(shù)填充物和/或制備其方法和/或使用其的方法"的美國專利申請No.13/354,963中被公開,其全部內(nèi)容被納入此處作為參考。邊緣密封組合物有時可以是基于VBZ(例如,釩、鋇、鋅)的組合物。進(jìn)一步的示例性邊緣密封材料在2011年2月22日提交的申請No.12/929,875和/或2011年9月21日提交的申請No.13/238,358中被公開,其全部內(nèi)容被納入此處作為參考。其他熔塊材料可以是,例如Ferro2824B和2824G熔塊。例如2011年2月22日提交的申請No.12/929,874,其全部內(nèi)容被納入此處作為參考。其他稱為"無鉛的"熔塊可在其他示例性實施例中用于密封4??紤]到低于基片2、3之間的腔6中最終所提供的大氣壓力,玻璃基片2,3之間可包括一組支承柱/隔離片5,來維持基片2和3的間距。在示例性實施例中,該隔離片的高度約為0.1-1.0mm,更優(yōu)選是約0.2-0.4mm。隔離片5優(yōu)選是不引人注目的小尺寸。根據(jù)示例性實施例,隔離片可由焊料玻璃、玻璃、陶瓷、金屬、聚合物,青玉或任何其他合適的材料制成。此外,隔離片5可以是,例如,常規(guī)圓柱形,圓形,球形,硬幣狀,C狀,枕狀和/或任何其他合適的形狀。泵出管8可通過焊料玻璃9被氣密密封,通過孔10穿過一個玻璃基片的內(nèi)表面,例如圖3中的基片3,并穿過玻璃基片3,延伸至其外表面之外。泵出管8在過程中被用來排空基片2,3之間的腔6,例如通過將真空泵與泵出管8連接,并以低壓將腔6排空,例如低于大氣壓的壓力。泵出過程之后,在優(yōu)選的示例中,腔6中的壓力優(yōu)選是10-2Torr以下,且更優(yōu)選是10-3Torr以下,甚至更優(yōu)選是5x10-4Torr以下。在示例性實施例中,泵出管8可具有0.1-1.0mm的直徑或距離,更優(yōu)選是0.3-0.7mm,且甚至更優(yōu)選是0.5mm。例如,使用熔合的焊料玻璃外圍邊緣密封4的真空絕緣玻璃窗單元可通過沉積玻璃熔塊被制造,例如任何上述引用的,以溶液狀態(tài)沉積在類似基片2的一個基片的外圍周圍。該玻璃熔塊經(jīng)固化后最終形成玻璃焊料邊緣密封4。第二基片,例如基片3被置于基片2上從而將隔離片/支柱5和玻璃熔塊溶液夾在兩個基片2、3中間。整個組件包括玻璃基片2、3;隔離片或支柱5;和密封材料(例如,溶液狀態(tài)的玻璃熔塊),然后被加熱至一個溫度,足夠使密封材料(例如,玻璃熔塊)熔化并使玻璃基片2、3的表面潮濕,形成密封的外圍/邊緣密封4。然后可使用泵出管8和真空裝置,以如上所述的示例性方式將基片2、3之間所形成的腔6排空,從而在基片2、3之間提供低壓(例如,低于大氣壓力)。腔6被排空至低壓之后,例如低于大氣壓的壓力,玻璃泵出管8的頂部或頂端,可通過使用激光或其他方式將管的露出部分熔化,從而被密封。密封泵出管8(如圖3所示)使腔6中維持低壓。管8被密封之后,管8的中央部分仍與腔6流體連通,但外部大氣沒有,這是由于管8的頂端/頂部被密封關(guān)閉。如上所述,在一些情況下,附加的透明玻璃基片15可層壓在基片2、3上或之上來定義腔6。在圖3的示例中,第三玻璃基片15可與基片3具有相同的尺寸。在優(yōu)選的示例性實施例中,附加層壓的玻璃基片15可通過使用層壓膜14被粘附至一個玻璃基片,例如基片3的外表面,該層壓膜可包括基于聚合物的粘合劑,例如:PVB或類似等。為了提供附加層壓的玻璃基片15,可在附加的玻璃基片15和層壓膜14中提供孔11,來容納上述密封的泵出管8的露出部分。當(dāng)層壓的基片15和層壓膜14被置于VIG單元20的基片3之上時,孔11為約泵出管8尺寸的足夠大的間隙。由于在生成孔11時的制造公差,基片中的孔與突出的泵出管口8不能被同中心地或基本同中心地對齊。此外,層壓基片15中所形成的出入孔11的玻璃邊緣可能具有粗糙邊緣。所有的這些因素,例如,基片3、5和泵出管口8被較差的對準(zhǔn),以及層壓基片15中的出入口11周圍的粗糙邊緣,都會導(dǎo)致最終層壓的VIG單元外觀不理想。為了克服上述和其他問題,可以在用于提供附加的層壓玻璃基片15的層壓過程之后,在泵出管8上提供保護(hù)蓋47。但是,如上所述,泵出管8需面臨層壓膜14和附加的層壓玻璃基片15被置于泵出管8的露出部分上的制造過程,因此,層壓過程期間,泵出管8可能潛在地被損壞,例如,由于層壓膜14和/或附加的層壓基片15中的孔11的邊緣與易碎的玻璃泵出管8接觸,但并不局限于此。為了在層壓過程期間防止破裂或,對露出的泵出管8造成損害,根據(jù)示例性實施例,層壓期間可在露出的泵出管8周圍提供處理保護(hù)環(huán)16,從而圖3中的單元被俯視時,包圍管8。根據(jù)示例性實施例,處理保護(hù)環(huán)16可附于基片3上并包圍泵出管8,例如使用膠帶,類似3MVHB膠帶,在用于將附加的玻璃基片15層壓至基片3的壓過程之前。根據(jù)優(yōu)選的示例,處理保護(hù)環(huán)16可具有與泵出管8的露出部分基本相等的高度高度。根據(jù)進(jìn)一步的示例性實施例,處理保護(hù)環(huán)的高度可稍微小于泵出管8的露出部分的高度,只要是處理保護(hù)環(huán)的尺寸可對泵出管8提供充分的保護(hù)便可。根據(jù)進(jìn)一步的實施例,優(yōu)選是,處理保護(hù)環(huán)16的高度小于或等于泵出管8的高度,來避免造成可能會影響層壓的VIG單元20外觀的明顯的疊積高度。當(dāng)從圖3-6上面俯視時,環(huán)16可以是圖4A-4B中所示出的圓形,或是橢圓形、基本圓形、基本方形,和/或基本矩形的形狀。參照圖4A和4B,示出示例性處理保護(hù)環(huán)16的仰視圖。根據(jù)示例性實施例處理保護(hù)環(huán)16,橫斷面可以是常規(guī)圓形,其他方面可為圓柱形。當(dāng)然,只要可在如上所述的層壓過程期間被用來充分保護(hù)泵出管8,其可以是其他合適的幾何形。圖4B是示例性處理保護(hù)環(huán)16的仰視圖,示出粘合劑17,例如3MVHB膠帶,或類似等,用于在層壓過程之前將處理保護(hù)環(huán)16粘合至基片的表面,例如,VIG單元20的基片3。如上所述,根據(jù)示例性實施例,優(yōu)選是,處理保護(hù)環(huán)16的的高度可設(shè)置為小于或基本上等于泵出管8的露出部分的高度,且優(yōu)選是具有足夠的高度,從而在層壓過程期間對泵出管8的露出部分提供保護(hù)。應(yīng)注意,通過在層壓之前提供處理保護(hù)環(huán)16,示例性實施例中的層壓過程期間可避免提供蓋子的必要性。因此,如以下所述,可在層壓膜14和層壓基片15中的孔11上配置蓋子,其被用來容納泵出管8的突出部分。如上所述,在層壓過程完成后(即,通過基于聚合物的粘合劑14將基片15層壓至基片3之后),可在如上所述的孔11上配置保護(hù)蓋,通過遮蓋露出的泵出管8來提供進(jìn)一步的保護(hù),并通過遮蓋層壓膜14和附加的層壓基片15中的層壓期間被形成用來容納露出的泵出管口8的孔11,例如通過遮蓋泵出管8與孔的任何潛在的未對準(zhǔn)或非同心排列,否則可看見,來進(jìn)一步提高美觀性。現(xiàn)參照圖5,以橫截面示出層壓的VIG單元20,包括:層壓的基片15、層壓膜14、處理保護(hù)環(huán)16和保護(hù)蓋47。圖5與圖3相似,但包括保護(hù)蓋47的示圖。保護(hù)蓋47可配置在孔(參照圖3的11)上,來容納如上所述的泵出管8的露出部分和處理保護(hù)環(huán)16。保護(hù)蓋47可通過膠帶19被粘附在附加的層壓玻璃基片15的外表面上,例如3MVHB膠帶,或類似等。優(yōu)選是,保護(hù)蓋47的尺寸可完全遮蓋孔11并具有較低的輪廓,來進(jìn)一步提高層壓的VIG單元20的美觀性。例如,保護(hù)蓋47包括內(nèi)腔21,其直徑和深度足以a容納泵出管8、處理保護(hù)環(huán)16,并完全遮蓋層壓基片15中的孔11。蓋子的基座部分的表面區(qū)域須可容納足夠的膠帶,向?qū)訅夯?5提供安全連接。保護(hù)蓋47也可選擇性在位于蓋子側(cè)面的外圍附近配置定位棱18,其面對層壓的玻璃基片15,常規(guī)圓形的保護(hù)蓋47(例如,見圖5-6)。優(yōu)選是,定位棱18可嚙合或非??拷鼘訅夯?5中的孔11的內(nèi)部,來為保護(hù)蓋提供附加的保護(hù)強度,一旦保護(hù)蓋被放置于層壓基片15(例如,見圖5)中的孔上,來進(jìn)一步限制保護(hù)蓋的移動。圖6A和6B分別是示例性實施例的保護(hù)蓋47的仰視圖和橫截面圖。參照圖6A,保護(hù)蓋47可具有常規(guī)的環(huán)形。定位棱18通常符合該形狀并配置在保護(hù)蓋47的側(cè)面的外圍區(qū)域中,來嚙合層壓基片15中的孔。根據(jù)圖6A的示例性實施例,示出膠帶19,例如3MVHB膠帶,或類似等。參照圖6B,根據(jù)一個示例性實施例的保護(hù)蓋47的橫截面圖。如圖6B所示,選擇性的定位棱18也可與如上所述的保護(hù)蓋47一起被提供。根據(jù)優(yōu)選的示例性實施例,定位棱18的外徑D2可嚙合層壓基片15中所形成的孔,或近乎嚙合孔。定位棱18的內(nèi)徑D1可足以將處理保護(hù)環(huán)16和泵出管8的露出部分容納至由保護(hù)蓋47的頂部和定位棱18定義的腔21中。雖然保護(hù)蓋47被示出具有常規(guī)的環(huán)形,但應(yīng)理解,可使用任何合適的形狀。此外,可使用與圓形的定位棱18結(jié)合的多邊形的外觀形狀。應(yīng)理解,優(yōu)選是,定位棱18的形狀足以嚙合至附加的層壓基片15中所形成的孔的內(nèi)部。根據(jù)另一個示例,定位棱18無需連續(xù),例如,可在保護(hù)蓋47的內(nèi)腔21的外圍附近配置一些突起。根據(jù)示例性實施例,保護(hù)蓋47可包括金屬、塑、硅膠,或其他一些合適的材料。此外,蓋子47和玻璃基片的熱膨脹系數(shù)可互相匹配,例如,約25%以下,更優(yōu)選是,約20%以下,甚至更優(yōu)選是在約10-20%的范圍中。圖7是示出根據(jù)示例性實施例的制備層壓VIG單元的示例性方法的流程圖。在步驟S1中提供第一基片,例如含有玻璃的基片。在步驟S3中,提供隔離片或至柱子,例如如上所述,位于第一基片的第一主要表面和并位于互相隔開的位置,用來維持第一基片和第二基片之間的空間。在步驟S5中,提供熔塊材料,例如如上所述的提供邊緣密封,配置(例如,印刷或應(yīng)用)在第一基片的外圍邊緣。在步驟S7中,提供第二基片,例如含有玻璃的基片,配置在第一基片上,將支柱或隔離片以及熔塊材料夾在兩個基片之間,從而定義腔。在步驟S9中,將含有第一和第二基片、隔離片和熔塊材料的子組件加熱至足夠的水平,來形成氣密邊緣密封。在步驟S11中,使用泵出管將兩個基片之間定義的腔排空至合適的真空水平,例如低于大氣壓。在步驟S13中,腔可被選選性地清潔,例如使用類似等離子清洗的合適的過程,但并不局限于此,如2011年5月31日提交的美國專利申請No.13/149,085和美國專利No.6,692,600中所公開的,其全部內(nèi)容被納入此處作為參考。在步驟S15中,泵出管可通過任何合適的方法被密封,例如使用激光熔化,將管露于其他熱能,或類似等,但并不局限于此。在步驟S17中,公開類型以及如上所述的處理保護(hù)環(huán)可配置在通過露出和密封的泵出管附近。處理保護(hù)環(huán)可通過膠帶被粘合至第二基片,例如,3MVHB膠帶但并不局限于此。在步驟S19中,在第二基片上配置層壓膜和附加的基片,并包括孔用來容納露出的密封的泵出管和處理保護(hù)環(huán)。例如層壓膜可含有基于聚合物的粘合劑,例如PVB。應(yīng)注意,如此形成的層壓VIG單元具有一系列基本對齊的孔,其容納露出的泵出管和周圍的處理保護(hù)環(huán)。在步驟S21中,提供保護(hù)蓋47,可用來遮蓋孔和露出的泵出管以及處理保護(hù)環(huán)。優(yōu)選是,保護(hù)蓋中的定位棱可配置用來嚙合層壓玻璃基片中孔的內(nèi)表面。在本發(fā)明的實施例中,提供一種真空絕緣玻璃窗組件,包括:第一和第二基本平行隔開的基本透明的基片;密封,至少位于所述第一和第二隔開的基片之間,所述密封和所述第一和第二基片在其之間定義腔,所述腔在低于大氣壓的壓力下;泵出管,至少部分延伸穿過所述第一基片中的孔,從而與所述腔聯(lián)通并延伸至所述第一基片的外部主表面之外;和保護(hù)環(huán),配置在所述第一基片的外部主表面附近,從而至少部分包圍所述真空絕緣玻璃窗組件的所述泵出管。如前段落中所述的真空絕緣玻璃窗組件,所述玻璃窗組件可進(jìn)一步包括:層壓在所述第一基片之上的第三基片。如前兩個段落中任何一項的真空絕緣玻璃窗組件,可進(jìn)一步包括:含有聚合物的層壓膜,配置在所述第一基片和所述第三基片之間,至少使所述第一和第二基片互相層壓。如前三個段落中任何一項的真空絕緣玻璃窗組件,可進(jìn)一步包括:蓋子,配置在所述泵出管和所述保護(hù)環(huán)之上。配置在每一個所述泵出管、所述保護(hù)環(huán)、和所述第三基片中所形成的開口之上。如前四個段落中任何一項的真空絕緣玻璃窗組件,所述蓋子可包括:定位棱,位于面對所述第三基片的所述蓋子的一側(cè)上。所述定位棱嚙合于或位于所述第三基片中所形成的孔的內(nèi)表面附近。如前五個段落中任何一項的真空絕緣玻璃窗組件,所述保護(hù)環(huán)的高度可小于或基本等于延伸至所述第一基片的外部主表面之外的所述泵出管的一部分的高度。如前六個段落中任何一項的真空絕緣玻璃窗組件,所述保護(hù)環(huán)的內(nèi)徑足夠容納延伸至所述第一基片的外部主表面之外的所述泵出管的一部分,當(dāng)所述保護(hù)環(huán)配置在所述第一基片之上和/或上時,不進(jìn)入接觸延伸至所述第一基片的外部主表面之外的所述泵出管的一部分。如前七個段落中任何一項的真空絕緣玻璃窗組件,所述泵出管可包含玻璃。如前八個段落中任何一項的真空絕緣玻璃窗組件,所述保護(hù)環(huán),可通過粘合帶被固定至所述第一基片的外部主表面。如前九個段落中任何一項的真空絕緣玻璃窗組件,所述第一和第二基片可為玻璃基片。如前十個段落中任何一項的真空絕緣玻璃窗組件,延伸至所述第一基片的外表面之外的所述泵出管的一部分可被密封。如前十一個段落中任何一項的真空絕緣玻璃窗組件,可進(jìn)一步包括多個隔離片,配置在所述第一和第二基片之間的所述腔中。如前十二個段落中任何一項的真空絕緣玻璃窗組件,所述密封可為邊緣密封。如前十三個段落中任何一項的真空絕緣玻璃窗組件,所述密封可包括玻璃熔塊。如前十四個段落中任何一項的真空絕緣玻璃窗組件,所述保護(hù)環(huán)可為常規(guī)的圓柱形。如前十五個段落中任何一項的真空絕緣玻璃窗組件,所述密封可包括釩和/或焊料玻璃。如上所述,雖然參照示例性實施例對本發(fā)明進(jìn)行了說明,但是應(yīng)理解,本發(fā)明并不局限于所述實施例,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可進(jìn)行各種修改和變形,修改將由后附的權(quán)利要求范圍定義。