專利名稱：一種高紅外反射的低輻射鍍膜玻璃及其夾層玻璃制品的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及玻璃鍍膜領(lǐng)域，特別是涉及高可見光透過率、高紅外反射和可熱處理的低輻射鍍膜玻璃及其夾層玻璃制品，尤其適用于交通工具上面的雙銀或三銀鍍膜夾層玻
璃O
背景技術(shù)：
低輻射薄膜(low-e膜)玻璃具有透過可見光和反射紅外線的優(yōu)點，因此作為ー種緑色環(huán)保產(chǎn)品在建筑和交通工具上面有巨大的市場需求。低輻射薄膜的核心材料是ー層或者多層的銀層(9納米 15納米)，由于銀層容易被腐蝕和氧化，所以必須在銀層的上、下方都沉積能夠透過可見光的透明介質(zhì)層；這些介質(zhì)層能夠保護銀層在后續(xù)加工，特別是高溫?zé)崽幚?如鋼化和烘彎成型)過程中不被破壞；此外，銀層上、下方的介質(zhì)層還起到減反射 的作用，能夠提高低輻射鍍膜玻璃的可見光透過率。在具有至少ー層銀層的低輻射薄膜結(jié)構(gòu)中，沉積在最遠(yuǎn)離玻璃基片的銀層上方的介質(zhì)層或者介質(zhì)層組合必須具有優(yōu)良的氧原子阻隔能力、優(yōu)良的化學(xué)穩(wěn)定性和機械穩(wěn)定性。表I列舉了專利文獻中披露的常見的沉積在最遠(yuǎn)離玻璃基片的銀層上方的上介質(zhì)層膜層搭配結(jié)構(gòu)，主要的膜層材料選自Si3N4、ZnSnOx、SnO2等，同時在銀層的上、下方設(shè)置ZnO膜層以增強熱穩(wěn)定性，在最外層設(shè)置保護涂層例如TiO2, SiOxNy、ZrO2, Zn2TiO4, TiN等改善膜層的機械和化學(xué)耐久性。表I專利文獻中披露的部分上介質(zhì)層結(jié)構(gòu)
專利__上介質(zhì)層結(jié)構(gòu)_
CN1020639C··-IZn2SnO4ITiO2,其中TiO2層厚度為幾個納米，可被SiOxNy或者
US6495251 _ ZrO,取代 _
CN12U9489C — ".IZnOIZiiSiiCKITia _
U SB 15 8263 B2 — ---IZnOISnO,_
—CN1272271C — "·| ZnOISi3N4, _··-IZnOITiNZNbNISi3Ni _
US6159621 _IZnSnOxiAl.SblSnO.ITiO^_
CNI906136B -"IZnOISi3N,-----
US7858I93B2 -..iZiiC^AliShNUIZnSnSbCKIZn^TiC^
US8043707B2 —…|ZnO:Al|NiCrOx|Si;N4|TiZrHrYCK，_---|ZnO:Al|ZnSnOx|NiCrOx|SiN _ CN100349819C -.-ISnO2IZri2TiO4: Al
CN1852871B -"ITiO, _
US8142622 __-iSnO；|Si；N4 _
_US78972.60B2 — ...!ZnOISiiO .IShN4 _
_US6730352 _ ".ISi3N4 _
US5450238_し··| TiO^ 成 Nb^O,|SiO^ _表I披露的現(xiàn)有技術(shù)存在若干缺點，例如專利US6495251和CN1209489C公開了 ZnSnOx作為上介質(zhì)層的ー種膜層結(jié)構(gòu)，但Zn2SnO4基材料偏軟；專利CN100349819C、US615962UUS8142622和US7897260公開了 SnO2作為上介質(zhì)層的ー種膜層結(jié)構(gòu)，但SnO2偏軟、致密性和氧原子阻隔能力較差；專利CN1906136B公開了 ZnO作為上介質(zhì)層，Si3N4作為保護層的ー種膜層結(jié)構(gòu)，但Si3N4和ZnO之間的界面穩(wěn)定性不夠。專利US5450238公開了TiO2作為上介質(zhì)層的ー種膜層結(jié)構(gòu)，但以TiO2作為上介質(zhì)層的主體的高溫?zé)崽幚矸€(wěn)定性不足，同時Ti金屬靶材的濺射效率低，不能滿足大批量高效的生產(chǎn)。因此需要獲得氧原子阻隔能力強、致密、硬度高、化學(xué)穩(wěn)定性好和鍍膜生產(chǎn)過程中濺射速度快的上介質(zhì)層，以改善low-e鍍膜產(chǎn)品的特性。ZrO2或者ZrOxNy膜層具有很高的硬度，而且難溶于普通的酸、堿溶液，常用為low-e膜的最外保護層，其作用類似于TiO2，如專利US7314668所描述的；鑒于Zr對氧原子的高親和能力，ZrO2作為銀的犧牲層保護銀不被氧化，其作用類似于Ti和NiCr，如US7713587所描述的；Zr02作為封閉層直接沉積在玻璃表面，如專利W02008060453A2所描述的；此外專利US7951473還披露了…| ZrO2或ZrOxNy | ZnO| Ag|…的疊層結(jié)構(gòu)，其中ZrO2或者ZrOxNy作為力學(xué)穩(wěn)定性增強層。
盡管ZrO2在濺射鍍膜和low-e薄膜領(lǐng)域是公知的材料，然而依據(jù)本領(lǐng)域技術(shù)人員的一般認(rèn)識，ZrO2.—種優(yōu)良的氧離子導(dǎo)體，不適合于作為low-e膜層的上介質(zhì)層來阻隔氧原子的擴散。但是令人驚訝的，ZrO2膜層作為雙銀和三銀low-e膜層的上介質(zhì)層的主體而不是常規(guī)的最外層保護層，在ZrO2膜層上增加ー層保護層之后，在高溫?zé)崽幚磉^程中有效的保護了銀層不被氧化。此外，以ZrO2膜層作為low-e膜的上介質(zhì)層，體現(xiàn)出了優(yōu)異的機械穩(wěn)定性。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服上述缺陷，提供ー種具有改進的機械穩(wěn)定性和高溫?zé)崽幚矸€(wěn)定性以及高可見光透過率的高紅外反射的低輻射鍍膜玻璃及其夾層玻璃制品。本發(fā)明采用的技術(shù)方案是一種高紅外反射的低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板和自所述玻璃基板表面向上交替疊加的至少三個介質(zhì)層和至少兩個紅外反射層，交替疊加的順序為先介質(zhì)層后紅外反射層，交替疊加的膜層的最上層為介質(zhì)層，其特征在干位于最上層的上介質(zhì)層包括1)第二介質(zhì)膜，選自ZrO2和ZrOxNy (0〈y〈x〈2)中的至少ー種；2)沉積在所述第二介質(zhì)膜上的第三介質(zhì)膜，所述第三介質(zhì)膜選自Ti、Al、Si、Ta、Hf、Nb、Cr、Ni、Fe、Mo、W、Y等金屬的氧化物中的至少ー種，或者選自Ti、Al、Ta、Nb、Fe、Hf、Ni、Cr等金屬的氮化物中的至少ー種，或者選自Ti、Al、Ta、Nb、Fe、Hf、Ni、Cr等金屬的氮氧化物中的至少ー種。優(yōu)選地，所述低輻射鍍膜玻璃包括兩個紅外反射層，膜層結(jié)構(gòu)自玻璃基板向上依次包括玻璃基板、第一介質(zhì)層、第一紅外反射層、第二介質(zhì)層、第二紅外反射層、上介質(zhì)層。優(yōu)選地，所述低輻射鍍膜玻璃包括三個紅外反射層，膜層結(jié)構(gòu)自玻璃基板向上依次包括玻璃基板、第一介質(zhì)層、第一紅外反射層、第二介質(zhì)層、第二紅外反射層、第三介質(zhì)層、第三紅外反射層、上介質(zhì)層。優(yōu)選地，所述上介質(zhì)層還包括沉積在所述第二介質(zhì)膜之下的第一介質(zhì)膜，所述第一介質(zhì)膜包括ZnO膜或摻雜的ZnO膜，所述摻雜的ZnO膜中的摻雜元素選自Al、Ga、In、Sn、Mo、Y、B、Si、Ge、Ti、Hf、Zr、F、Sc 等元素中的至少ー種。
優(yōu)選地,所述上介質(zhì)層的第二介質(zhì)膜的幾何厚度為5 40nm ;所述上介質(zhì)層的第三介質(zhì)膜的幾何厚度為5 lOOnm。優(yōu)選地，所述紅外反射層為銀層或含銀的合金層，膜層的幾何厚度為7 20nm。優(yōu)選地，所述低輻射鍍膜 玻璃至少有ー個紅外反射層之上在沉積其他膜層之前沉積有阻隔層，所述阻隔層的材料選自Ti、Zr、Zn、Ni、Cr、Nb、Ta等金屬、或其不完全氧化物、或其不完全氮化物中的至少ー種，所述阻隔層的幾何厚度為O. 5 10nm。優(yōu)選地,第一介質(zhì)層包含至少一種Zn、Sn、Si、Al、Ti、Zr、Nb、Ta、Bi、Ni、Cr等金屬或其合金的氧化物，或者包含至少ー種Si、Al、Zr、Ti、Nb、Ta等金屬或其合金的氮化物、氮氧化物，第一介質(zhì)層的幾何厚度為10 50nm ;第二介質(zhì)層包含至少ー種Zn、Sn、Si、Al、Ti、Zr、Nb、Ta、Bi、Ni、Cr等金屬或其合金的氧化物，或者包含至少一種Si、Al、Zr、Ti、Nb、Ta等金屬或其合金的氮化物、氮氧化物，第二介質(zhì)層的幾何厚度為40 lOOnm。優(yōu)選地，第三介質(zhì)層包含至少一種Zn、Sn、Si、Al、Ti、Zr、Nb、Ta、Bi、Ni、Cr等金屬或其合金的氧化物，或者包含至少ー種Si、Al、Zr、Ti、Nb、Ta等金屬或其合金的氮化物、氮氧化物，第三介質(zhì)層的幾何厚度為40 lOOnm。本發(fā)明還提供一種夾層玻璃制品，包括兩塊玻璃和兩塊玻璃之間的夾層聚合物，兩塊玻璃中至少ー塊選自以上任一所述的高紅外反射的低輻射鍍膜玻璃，所述高紅外反射的低輻射鍍膜玻璃的低輻射薄膜與所述夾層聚合物相鄰。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明能夠提供光學(xué)質(zhì)量合格、化學(xué)耐久性和機械耐久性均有改善的低輻射鍍膜玻璃，體現(xiàn)出了如下主要優(yōu)點第一，ZrO2和ZrOxNy膜層折射率高，利于獲得中性外觀的鍍膜產(chǎn)品；第二，ZrO2和ZrOxNy的化學(xué)穩(wěn)定性和機械性能均優(yōu)于ZnSnOx、SnO2等常規(guī)膜層；第三，與Si3N4相比，ZrO2在和ZnO等膜層接觸時能夠保持熱處理過程中的界面穩(wěn)定性，不會出現(xiàn)熱處理時的界面破壞，或者在構(gòu)成產(chǎn)品后的膜層之間或者膜層最外層和夾層聚合物之間粘結(jié)カ不夠造成產(chǎn)品不合格；第四，在采用同種濺射靶材(金屬靶或者陶瓷靶)的情況下，ZrO2和ZrOxNy的濺射速率高于TiO2，保證了足夠的生產(chǎn)效率。


圖I為本發(fā)明所述的高紅外反射的低輻射鍍膜玻璃的雙銀膜系結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本發(fā)明所述的高紅外反射的低輻射鍍膜玻璃的三銀膜系結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本發(fā)明所述的夾層玻璃制品的一種結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為本發(fā)明所述的夾層玻璃制品的另ー種結(jié)構(gòu)示意圖。圖中1為玻璃基板；2為第一介質(zhì)層,21為第一介質(zhì)層下層,22為第一介質(zhì)層上層；3為第一紅外反射層；4為第一阻隔層；5為第二介質(zhì)層，51為第二介質(zhì)層下層，52為第ニ介質(zhì)層中間層，53為第二介質(zhì)層上層；6為第二紅外反射層；7為第二阻隔層；8為第三介質(zhì)層，81為第三介質(zhì)層下層，82為第三介質(zhì)層中間層，83為第三介質(zhì)層上層；9為第三紅外反射層；10為第三阻隔層；11為上介質(zhì)層，111為上介質(zhì)層的第一介質(zhì)膜，112為上介質(zhì)層的第二介質(zhì)膜，113為上介質(zhì)層的第三介質(zhì)膜；12為外層玻璃板；13為內(nèi)層玻璃板；14為夾層聚合物；15為低輻射薄膜。
具體實施例方式以下結(jié)合附圖對本發(fā)明的內(nèi)容作進ー步說明。如圖I和圖2所示，本發(fā)明所述的高紅外反射的低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板和自所述玻璃基板表面向上交替疊加的至少三個介質(zhì)層和至少兩個紅外反射層，交替疊加的順序為先介質(zhì)層后紅外反射層，交替疊加的膜層的最上層為介質(zhì)層，其特征在于位于最上層的上介質(zhì)層11包括1)第二介質(zhì)膜112，選自ZrO2和ZrOxNy (0〈y〈x〈2)中的至少ー種；2)沉積在所述第二介質(zhì)膜112上的第三介質(zhì)膜113，所述第三介質(zhì)膜113選自Ti、Al、Si、Ta、Hf、Nb、Cr、Ni、Fe、Mo、W、Y等金屬的氧化物中的至少ー種，或者選自Ti、Al、Ta、Nb、Fe、Hf、Ni、Cr等金屬的氮化物中的至少ー種，或者選自Ti、Al、Ta、Nb、Fe、Hf、Ni、Cr等金屬的氮氧化物中的至少ー種。其中，ZrO2和ZrOxNy膜層具有優(yōu)良的化學(xué)、力學(xué)耐久性；Zr02和ZrOxNy膜層折射率高，利于獲得中性外觀的鍍膜產(chǎn)品；在采用同種濺射靶材(金屬靶或者陶瓷靶)的情況 下，ZrO2和ZrOxNy (0〈y〈x〈2)的濺射速率高于TiO2，保證了足夠的生產(chǎn)效率。上介質(zhì)層中包含…I ZrO2或ZrOxNy |第三介質(zhì)膜的疊層結(jié)構(gòu)，ZrO2或ZrOxNy膜層112和第三介質(zhì)膜113直接接觸，ZrO2或ZrOxNy膜層作為low-e膜層的上介質(zhì)層的主體而不是常規(guī)的最外層保護層，在其上沉積第三介質(zhì)膜113作為保護層之后，在高溫?zé)崽幚磉^程中有效的保護了銀層不被氧化。其中，ZrO2或ZrOxNy膜層112的幾何厚度范圍為5 40nm，第三介質(zhì)膜113的幾何厚度為5 lOOnm。優(yōu)選地，所述上介質(zhì)層11還包括沉積在所述第二介質(zhì)膜112之下的第一介質(zhì)膜111，所述第一介質(zhì)膜111包括ZnO膜或摻雜的ZnO膜，所述摻雜的ZnO膜中的摻雜元素選自 Al、Ga、In、Sn、Mo、Y、B、Si、Ge、Ti、Hf、Zr、F、Sc 等元素中的至少ー種。ZnO 膜或摻雜的ZnO膜可以提高銀層在高溫?zé)崽幚碇械姆€(wěn)定性。ZnO膜層中的摻雜元素利于提高膜層濺射過程中的穩(wěn)定性和減少膜層缺陷，可以為銀層提供有利的生長界面，提高銀層的導(dǎo)電性，降低輻射率。此外，ZnO和ZrO2膜層接觸時能夠保持熱處理過程中的界面穩(wěn)定性，不會出現(xiàn)熱處理時的界面破壞，或者在構(gòu)成產(chǎn)品后的膜層之間或者膜層的最外層和夾層聚合物之間粘結(jié)カ不夠造成產(chǎn)品不合格。本發(fā)明的實施例中上介質(zhì)層11的厚度不限制本發(fā)明的保護范圍，并且可以選擇，上介質(zhì)層11的幾何厚度范圍10 140nm，優(yōu)選厚度為20 80nm。優(yōu)選地，所述低輻射鍍膜玻璃包括兩個紅外反射層，膜層結(jié)構(gòu)自玻璃基板向上依次包括玻璃基板I、第一介質(zhì)層2、第一紅外反射層3、第二介質(zhì)層5、第二紅外反射層6、上介質(zhì)層11。優(yōu)選地，所述低輻射鍍膜玻璃包括三個紅外反射層，膜層結(jié)構(gòu)自玻璃基板向上依次包括玻璃基板I、第一介質(zhì)層2、第一紅外反射層3、第二介質(zhì)層5、第二紅外反射層6、第三介質(zhì)層8、第三紅外反射層9、上介質(zhì)層11。設(shè)置三個紅外反射層具有更高的紅外反射率，可以獲得極佳的保溫和隔熱效果。在本發(fā)明中，所述第一紅外反射層3、第二紅外反射層6和第三紅外反射層9的主要功能是用于反射紅外線，減少紅外線從低輻射鍍膜玻璃中透射，所以上述反射層的膜層材料可以選用能夠反射紅外線的任何材料，例如(但不局限干)銀、金、銅、鋁等，在本發(fā)明中優(yōu)選為銀或含銀的合金，其中含銀的合金在本發(fā)明中優(yōu)選為銀與金、鋁、銅中至少ー種的合金。在本發(fā)明的實施例中均選用了銀，能夠有效降低輻射率，提高隔熱和保溫性能。實施例中銀的厚度不限制本發(fā)明的保護范圍，并且可以選擇，以提供低輻射系數(shù)的鍍膜玻璃。本發(fā)明的實施例中優(yōu)選厚度為7 20nm的銀作為紅外反射金屬層。在本發(fā)明中，第一介質(zhì)層2用于減少可見光區(qū)域的反射、阻止熱處理過程中玻璃表面的破壞性原子(例如Na和O原子)向第一紅外反射層3的擴散以及引導(dǎo)第一紅外反射層3的結(jié)晶。第一介質(zhì)層2選自Zn、Sn、Si、Al、Ti、Zr、Nb、Ta、Bi、Ni、Cr等金屬或其合金的氧化物中的至少ー種，或者選自Si、Al、Zr、Ti、Nb、Ta等金屬或其合金的氮化物、氮氧化物中的至少ー種。優(yōu)選地，第一介質(zhì)層2至少包含第一介質(zhì)層下層21和第一介質(zhì)層上層22,其中第一介質(zhì)層上層22直接和第一紅外反射層3接觸,第一介質(zhì)層上層22的優(yōu)選材料為ZnO膜或摻雜的ZnO膜，所述摻雜的ZnO膜中的摻雜元素選自Al、Ga、In、Sn、Mo、Y、B、Si、Ge、Ti、Hf、Zr、F、SC等元素中的至少ー種，用于提高紅外反射層的結(jié)晶質(zhì)量、降低鍍膜產(chǎn)品
的方塊電阻和可見光吸收。本發(fā)明的實施例中第一介質(zhì)層2的厚度不限制本發(fā)明的保護范圍，并且可以選擇，第一介質(zhì)層2的優(yōu)選厚度為10 50nm。在本發(fā)明中，第二介質(zhì)層5用于減少可見光區(qū)域的反射、保持膜系熱穩(wěn)定性和引導(dǎo)第二紅外反射層6的結(jié)晶。第二介質(zhì)層5選自Zn、Sn、Si、Al、Ti、Zr、Nb、Ta、Bi、Ni、Cr等金屬或其合金的氧化物中的至少ー種，或者選自Si、Al、Zr、Ti、Nb、Ta等金屬或其合金的氮化物、氮氧化物中的至少ー種。優(yōu)選地，第二介質(zhì)層5至少包含第二介質(zhì)層下層51、第二介質(zhì)層中間層52和第二介質(zhì)層上層53，其中第二介質(zhì)層下層51和第二介質(zhì)層上層53的優(yōu)選材料為ZnO膜或摻雜的ZnO膜，所述摻雜的ZnO膜中的摻雜元素選自Al、Ga、In、Sn、Mo、Y、B、Si、Ge、Ti、Hf、Zr、F、Sc 等元素中的至少ー種。在本發(fā)明中，第三介質(zhì)層8用于減少可見光區(qū)域的反射、保持膜系熱穩(wěn)定性和引導(dǎo)第三紅外反射層9的結(jié)晶。第三介質(zhì)層8選自Zn、Sn、Si、Al、Ti、Zr、Nb、Ta、Bi、Ni、Cr等金屬或其合金的氧化物中的至少ー種，或者選自Si、Al、Zr、Ti、Nb、Ta等金屬或其合金的氮化物、氮氧化物中的至少ー種。優(yōu)選地，第三介質(zhì)層8至少包含第三介質(zhì)層下層81、第三介質(zhì)層中間層82和第三介質(zhì)層上層83，其中第三介質(zhì)層下層81和第三介質(zhì)層上層83的優(yōu)選材料為ZnO膜或摻雜的ZnO膜，所述摻雜的ZnO膜中的摻雜元素選自Al、Ga、In、Sn、Mo、Y、B、Si、Ge、Ti、Hf、Zr、F、Sc 等元素中的至少ー種。本發(fā)明實施例中所述第一介質(zhì)層2、第二介質(zhì)層5、第三介質(zhì)層8和上介質(zhì)層11中的膜層是由本領(lǐng)域技術(shù)人員所公知的磁控濺射技術(shù)沉積到玻璃基板I上的，其中，上介質(zhì)層11的第二介質(zhì)膜112的膜層材料選用ZrO2或ZrOxNy膜層，上介質(zhì)層11的第三介質(zhì)膜113的膜層材料選用SiO2或TiO2膜層。所述ZrO2膜層采用Zr金屬靶在Ar/02流量比例為3/1 1/1的氣氛下中頻反應(yīng)派射沉積，或者采用ZrOx陶瓷祀在O2的流量為I 10%的Ar、02混合氣氛中中頻派射沉積的；所述ZrOxNy (0〈y〈x〈2)膜層是用Zr金屬祀在Ar/02/N2混合氣氛下中頻反應(yīng)濺射沉積的，其中N2占總氣體流量的比例不超過20% ;所述SiO2膜層采用SiAl合金靶在Ar/02流量比例為1/1 1/2的氣氛下中頻濺射沉積；所述TiO2膜層是采用TiOx靶在O2的流量為I 10%的Ar、O2混合氣氛中中頻濺射沉積的。優(yōu)選地，所述低輻射鍍膜玻璃至少有ー個紅外反射層之上在沉積其他膜層之前沉積有阻隔層，所述阻隔層的材料選自Ti、Zr、Zn、Ni、Cr、Nb、Ta等金屬、或其不完全氧化物、或其不完全氮化物中的至少ー種，所述阻隔層的幾何厚度為O. 5 10nm。
在本發(fā)明中，如圖I所示，在所述第一紅外反射層3上設(shè)置第一阻隔層4，以防止第ー紅外反射層3在后續(xù)膜層沉積以及高溫?zé)崽幚磉^程中受到氧化破壞，在所述第二紅外反射層6上設(shè)置第二阻隔層7，以防止第二紅外反射層6在后續(xù)膜層沉積以及高溫?zé)崽幚磉^程中受到氧化破壞；如圖2所示，在所述第一紅外反射層3上設(shè)置第一阻隔層4，以防止第一紅外反射層3在后續(xù)膜層沉積以及高溫?zé)崽幚磉^程中受到氧化破壞，在所述第二紅外反射層6上設(shè)置第二阻隔層7，以防止第二紅外反射層6在后續(xù)膜層沉積以及高溫?zé)崽幚磉^程中受到氧化破壞，在所述第三紅外反射層9上設(shè)置第三阻隔層10，以防止第三紅外反射層9在后續(xù)膜層沉積以及高溫?zé)崽幚磉^程中受到氧化破壞；進ー步地，以上所述的阻隔層材料選自Ti、Zr、Zn、Ni、Cr、Nb、Ta等金屬及其不完全氧化物或者不完全氮化物中的至少ー種。如圖3和圖4所示的本發(fā)明所述的夾層玻璃制品，包括外層玻璃板12、內(nèi)層玻璃板13、夾層聚合物14和低輻射薄膜15，所述外層玻璃板12是指裝配在汽車上時面向車外的玻璃；所述內(nèi)層玻璃板13是指裝配在汽車上時面向車內(nèi)的玻璃；所述夾層聚合物14是 指PVB膜片；在圖3中，低輻射薄膜15位于內(nèi)層玻璃板13的上面，且位于內(nèi)層玻璃板13上靠近夾層聚合物14的一面，即此夾層玻璃制品的內(nèi)層玻璃為低輻射鍍膜玻璃；在圖4中，低輻射薄膜15位于外層玻璃板12的上面，且位于外層玻璃板12上靠近夾層聚合物14的一面，即此夾層玻璃制品的外層玻璃為低輻射鍍膜玻璃；可以理解的是，本發(fā)明保護的夾層玻璃制品，包括兩塊玻璃和兩塊玻璃之間的夾層聚合物，其中，兩塊玻璃中至少ー塊選自以上所述的低輻射鍍膜玻璃，所述高紅外反射的低輻射鍍膜玻璃的低輻射薄膜與所述夾層聚合物相鄰。以下為了更詳細(xì)地說明和更具說服力地支撐本發(fā)明的發(fā)明點，現(xiàn)列舉一些實施例進行詳細(xì)闡述。實施例I 6 :以厚度為2. I毫米的鈉鈣硅酸鹽浮法綠玻為基片，經(jīng)過了切割、磨邊、洗滌、烘干后，進入磁控濺射鍍膜線進行沉積，本底真空度高于9X 10_4Pa。根據(jù)如表2所示不同膜系結(jié)構(gòu)在玻璃上依次沉積。其中ZrO2采用Zr金屬靶在Ar/02流量比例為3/1的混合氣氛下中頻反應(yīng)濺射沉積，TiO2采用TiOx陶瓷靶在Ar和含有微量O2 (O2流量比例為5%)的氣氛中中頻濺射沉積。其余各層的膜層材料和厚度在表2中均有體現(xiàn)，其濺射エ藝也均為本領(lǐng)域技術(shù)人員所公知，故在此不一一詳述。表2 :對比例I 3和實施例I 6膜系結(jié)構(gòu)以及烘彎熱處理前后的外觀和關(guān)鍵
技術(shù)指標(biāo)比較
權(quán)利要求
1.一種高紅外反射的低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板和自所述玻璃基板表面向上交替疊加的至少三個介質(zhì)層和至少兩個紅外反射層，交替疊加的順序為先介質(zhì)層后紅外反射層，交替疊加的膜層的最上層為介質(zhì)層，其特征在于位于最上層的上介質(zhì)層包括1)第二介質(zhì)膜，選自ZrO2和ZrOxNy (0〈y〈x〈2)中的至少一種；2)沉積在所述第二介質(zhì)膜上的第三介質(zhì)膜，所述第三介質(zhì)膜選自Ti、Al、Si、Ta、Hf、Nb、Cr、Ni、Fe、Mo、W、Y等金屬的氧化物中的至少一種，或者選自Ti、Al、Ta、Nb、Fe、Hf、Ni、Cr等金屬的氮化物中的至少一種，或者選自Ti、Al、Ta、Nb、Fe、Hf、Ni、Cr等金屬的氮氧化物中的至少一種。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的高紅外反射的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述低輻射鍍膜玻璃包括兩個紅外反射層，膜層結(jié)構(gòu)自玻璃基板向上依次包括玻璃基板、第一介質(zhì)層、第一紅外反射層、第二介質(zhì)層、第二紅外反射層、上介質(zhì)層。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的高紅外反射的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述低輻射鍍膜玻璃包括三個紅外反射層，膜層結(jié)構(gòu)自玻璃基板向上依次包括玻璃基板、第一介質(zhì)層、第一紅外反射層、第二介質(zhì)層、第二紅外反射層、第三介質(zhì)層、第三紅外反射層、上介質(zhì)層。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的高紅外反射的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述上介質(zhì)層還包括沉積在所述第二介質(zhì)膜之下的第一介質(zhì)膜，所述第一介質(zhì)膜包括ZnO膜或摻雜的ZnO膜，所述摻雜的ZnO膜中的摻雜元素選自Al、Ga、In、Sn、Mo、Y、B、Si、Ge、Ti、Hf、Zr、F、Sc等元素中的至少一種。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的的高紅外反射的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述上介質(zhì)層的第二介質(zhì)膜的幾何厚度為5 40nm ;所述上介質(zhì)層的第三介質(zhì)膜的幾何厚度為5 IOOnm0
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的高紅外反射的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述紅外反射層為銀層或含銀的合金層，膜層的幾何厚度為7 20nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的高紅外反射的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述低輻射鍍膜玻璃至少有一個紅外反射層之上在沉積其他膜層之前沉積有阻隔層，所述阻隔層的材料選自Ti、Zr、Zn、Ni、Cr、Nb、Ta等金屬、或其不完全氧化物、或其不完全氮化物中的至少一種，所述阻隔層的幾何厚度為O. 5 10nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的高紅外反射的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于第一介質(zhì)層包含至少一種Zn、Sn、Si、Al、Ti、Zr、Nb、Ta、Bi、Ni、Cr等金屬或其合金的氧化物，或者包含至少一種Si、Al、Zr、Ti、Nb、Ta等金屬或其合金的氮化物、氮氧化物,第一介質(zhì)層的幾何厚度為10 50nm ;第二介質(zhì)層包含至少一種Zn、Sn、Si、Al、Ti、Zr、Nb、Ta、Bi、Ni、Cr等金屬或其合金的氧化物，或者包含至少一種Si、Al、Zr、Ti、Nb、Ta等金屬或其合金的氮化物、氮氧化物，第二介質(zhì)層的幾何厚度為40 lOOnm。
9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的高紅外反射的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于第三介質(zhì)層包含至少一種Zn、Sn、Si、Al、Ti、Zr、Nb、Ta、Bi、Ni、Cr等金屬或其合金的氧化物，或者包含至少一種Si、Al、Zr、Ti、Nb、Ta等金屬或其合金的氮化物、氮氧化物,第三介質(zhì)層的幾何厚度為 40 lOOnm。
10.一種夾層玻璃制品，包括兩塊玻璃和所述兩塊玻璃之間的夾層聚合物，其特征在于兩塊玻璃中至少一塊選自權(quán)利要求I 9任一所述的高紅外反射的低輻射鍍膜玻璃，所述高紅外反射的低輻射鍍膜玻璃的低輻射薄膜與所述夾層聚合物相鄰。
全文摘要
本發(fā)明涉及玻璃鍍膜領(lǐng)域，特別是涉及高可見光透過率、高紅外反射和可熱處理的低輻射鍍膜玻璃及其夾層玻璃制品。膜層結(jié)構(gòu)包括自玻璃基板向上交替疊加的介質(zhì)層和紅外反射層，交替疊加的順序為先介質(zhì)層后紅外反射層，其特征在于位于最上層的上介質(zhì)層包括第二介質(zhì)膜，選自ZrO2和ZrOxNy中的至少一種；沉積在第二介質(zhì)膜上的第三介質(zhì)膜，所述第三介質(zhì)膜選自Ti、Al、Si、Ta、Hf、Nb、Cr、Ni、Fe、Mo、W、Y的氧化物中的至少一種，或者選自Ti、Al、Ta、Nb、Fe、Hf、Ni、Cr的氮化物、氮氧化物中的至少一種。優(yōu)點在于該鍍膜玻璃及其夾層玻璃制品可見光透過率高，機械穩(wěn)定性和高溫?zé)崽幚矸€(wěn)定性好。
文檔編號C03C17/36GK102807330SQ20121030429
公開日2012年12月5日 申請日期2012年8月24日 優(yōu)先權(quán)日2012年8月24日
發(fā)明者曹暉, 林柱, 袁軍林, 朱謐, 何立山, 盧國水, 彭穎昊, 福原康太 申請人:福耀玻璃工業(yè)集團股份有限公司