專利名稱：離線淺綠色低輻射鍍膜玻璃的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種玻璃，特別是一種離線淺綠色低輻射鍍膜玻璃。
技術(shù)背景
現(xiàn)有的普通透明玻璃應(yīng)用很廣泛，其透射范圍正好與太陽輻射光譜區(qū)域重 合，因此，在透過可見光的同時(shí)，陽光中的紅外線熱能也能大量透過玻璃，而 3 5um中紅外波段的熱能又被大量的吸收，對暖氣發(fā)出的波長5um以上的熱福 射，普通玻璃不能直接透過而是近乎完全吸收，并通過傳導(dǎo)、輻射及與空氣對 流的方式將能熱傳遞到室外，使室內(nèi)的溫度降低，另外，普通玻璃不能阻擋紫 外線，易使室內(nèi)的家俱和織物褪色，目前還有一種淺綠色的低輻射鍍膜玻璃， 基本上都是以綠玻為基片來生產(chǎn)，以白玻為基片所生產(chǎn)出來的鍍膜玻璃&*值為 -5左右，只有在綠玻上鍍膜的產(chǎn)品a^值才能達(dá)到-7左右。由于色玻價(jià)格高(相 對同規(guī)格的白玻)和其工藝的不穩(wěn)定性(不同批次的色玻很容易有色差出現(xiàn)) 造成鍍膜玻璃最終產(chǎn)品的價(jià)格偏高和出現(xiàn)色差的現(xiàn)象。 發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的曰的是為了克服以上的不足，提供一種達(dá)到在白玻上鍍膜后
W值《-8，完全可以替代綠玻鍍膜的效果，價(jià)格低廉，工藝穩(wěn)定的離線淺綠色 低輻射鍍膜玻璃。
本實(shí)用新型的目的通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn) 一種離線淺綠色低輻射鍍膜 玻璃，包括玻璃層，玻璃層上設(shè)有依次設(shè)有氧化鈦TiOx層、第一氧化錫SnOx 層、金屬銀Ag層、氧化鎳鉻NiCrOx層、第二氧化錫Sn0x層、氮化硅SiNx層。
本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有以下優(yōu)點(diǎn)在不使用綠玻為基片的情況下， 可以使鍍膜玻璃的&*值《-8，且價(jià)格低廉，工藝穩(wěn)定。



圖1為木實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖中標(biāo)號(hào)1-玻璃層、2-氧化鈦TiOx層、3-第一氧化錫SnOx層、4-金 屬銀Ag層、5-氧化鎳鉻NiCrOx層、6-第二氧化錫Sn0x層、7_氮化硅SiNx 層。
具體實(shí)施方式
為了加深對本實(shí)用新型的理解，下面將結(jié)合實(shí)施例和附圖對木實(shí)用新型作 進(jìn)一步詳述，該實(shí)施例僅用于解釋本實(shí)用新型，并不構(gòu)成對本實(shí)用新型保護(hù)范 圍的限定。
如圖1示出了本實(shí)用新型離線淺綠色低輻射鍍膜玻璃的一種實(shí)施方式，包括玻
璃層1，玻璃層1上設(shè)有依次設(shè)有氧化鈦TiOx層2、第一氧化錫Sn0x層3、金 屬銀Ag層4、氧化鎳鉻NiCrOx層5、第二氧化錫Sn0x層6、氮化硅SiNx層7。 就是在雙端離線高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備中，在玻璃層l上濺射底層為氧化 鈦TiOx層2，第二層為第一氧化錫Sn0x層3，第三層為金屬銀Ag層4,第四 層為氧化鎳鉻NiCrOx層5，第五層為第二氧化錫Sn0x層6，第六層為氮化硅 SiNx7。本實(shí)用新型具有在不使用綠玻為基片的情況下，可以使鍍膜玻璃的a* 值《-8，且價(jià)格低廉，工藝穩(wěn)定的優(yōu)點(diǎn)。
在雙端離線高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備中，使其基礎(chǔ)真空達(dá)到103Pa時(shí)，在 6mm玻璃層1上濺射底層為20nm的氧化鈦TiOx層2，第二層為15nm的第 一氧化錫Sn0x層3、第三層為20nm的金屬銀Ag層4、第四層為25nm的氧化鎳鉻NiCrOx層5、第五層為60nm的第二氧化錫Sn0x層6、第六層為40nm的 氮化硅SiNx層7，且在高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備的線速度為2米/分鐘的情況 下，第一層氧化鈦TiOx層2的功率為20KW,第二層第一氧化錫SnOx層3的功 率為18KW,第三層金屬銀Ag層4的功率為7.5KW，第四層氧化鎳鉻NiCrOx層 5的功率為8KW，第五層第二氧化錫SnOx層6的功率為72KW ，第六層氮化硅 SiNx層7的功率為65KW。
權(quán)利要求1、一種離線淺綠色低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃層(1)，其特征在于所述玻璃層(1)上依次設(shè)有氧化鈦TiOx層(2)、第一氧化錫SnOx層(3)、金屬銀Ag層(4)、氧化鎳鉻NiCrOx層(5)，第二氧化錫SnOx層(6)、氮化硅SiNx層(7)。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述離線淺綠色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述玻璃層(1)的厚度為6mm，所述氧化鈦TiOx層(2)的厚度為20nm，所述第一氧化錫SnOx層(3)的厚度為15nm，所述金屬銀Ag層(4)的厚度為20nm，所述氧化鎳鉻NiCrOx層(5)的厚度為25nm，所述第二氧化錫SnOx層(6)的厚度為60nm，所述氮化硅SiNx層(7)的厚度為40nm。
專利摘要本實(shí)用型新涉及一種離線高透低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃層，玻璃層上設(shè)有依次設(shè)有氧化鈦TiOx層、第一氧化錫SnOx層、金屬銀Ag層、氧化鎳鉻NiCrOx層、第二氧化錫SnOx層、氮化硅SiNx層。本實(shí)用新型具有在不使用綠玻為基片的情況下，可以使鍍膜玻璃的a*值≤-8，且價(jià)格低廉，工藝穩(wěn)定的優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號(hào)C03C17/36GK201411412SQ20092004381
公開日2010年2月24日 申請日期2009年5月25日 優(yōu)先權(quán)日2009年5月25日
發(fā)明者俞立民, 王賢榮, 陳詠寧, 黃林沖 申請人:江蘇藍(lán)星玻璃有限公司