一種硅片清洗裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種硅片清洗裝置，包括主槽、副槽、管路和設(shè)于主槽內(nèi)的傳動系統(tǒng)，所述的主槽為一雙層槽結(jié)構(gòu)，其包括安裝于機(jī)架上的下槽，由下槽槽底向上伸出并高出其頂端的上槽；所述上槽的長、寬均小于下槽；所述的傳動系統(tǒng)設(shè)置在上槽中。本實(shí)用新型將主槽設(shè)計為雙層結(jié)構(gòu)，在保證主槽長度的基礎(chǔ)上縮小了副槽的體積，從而減少了藥液配置量，提高了藥液利用率；同時雙層結(jié)構(gòu)的主槽可防止藥液回流時溢出主槽，提高了設(shè)備運(yùn)行的安全性。
【專利說明】一種硅片清洗裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及太陽能光伏清洗設(shè)備和濕法處理設(shè)備領(lǐng)域，尤其涉及一種改進(jìn)主槽設(shè)計的硅片清洗裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在太陽能清洗設(shè)備和濕法處理設(shè)備中，尤其是鏈?zhǔn)教柲芮逑丛O(shè)備和濕法處理設(shè)備中，硅片均是在帶有藥液循環(huán)功能的主反應(yīng)槽內(nèi)進(jìn)行處理。為滿足硅片處理時間的要求，一些主反應(yīng)槽需要做很長，由此導(dǎo)致配套的循環(huán)副槽的體積非常龐大，每次所需要配置的化學(xué)藥液也更多。如果單純將主反應(yīng)槽變淺，雖可以減小循環(huán)副槽的體積，但是槽體的綜合力學(xué)性能會降低，容易變形，且不利于其它附屬系統(tǒng)的安裝和穩(wěn)定性的保持。
[0003]如何設(shè)計一種既能保證主槽長度，又能縮小副槽體積減少藥液配置量，且能保證裝置整體穩(wěn)定性的硅片清洗裝置是業(yè)內(nèi)亟待解決的技術(shù)問題。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0004]本實(shí)用新型的目的是針對上述現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷，提供一種用于鏈?zhǔn)教柲芮逑丛O(shè)備和濕法處理設(shè)備中的硅片清洗裝置。
[0005]本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是，設(shè)計一種硅片清洗裝置，包括主槽、副槽、管路和設(shè)于主槽內(nèi)的傳動系統(tǒng)，其中:所述的主槽為一雙層槽結(jié)構(gòu)，其包括安裝于機(jī)架上的下槽，由下槽槽底向上伸出并高出其頂端的上槽；所述上槽的長、寬均小于下槽；所述的傳動系統(tǒng)設(shè)置在上槽中。
[0006]所述上槽的側(cè)壁向下伸出一支架，該支架與下槽槽底固定。
[0007]所述的管路包括由副槽引出并與上槽連通的進(jìn)液管路，由下槽引出并與副槽連通的回液管路；所述進(jìn)液管路上設(shè)有進(jìn)水泵。
[0008]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型將主槽設(shè)計為雙層結(jié)構(gòu)，在保證主槽長度的基礎(chǔ)上縮小了副槽的體積，從而減少了藥液配置量，提高了藥液利用率；同時雙層結(jié)構(gòu)的主槽可防止藥液回流時溢出主槽，提高了設(shè)備運(yùn)行的安全性。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0009]圖1為本實(shí)用新型一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0010]在保證主槽長度的基礎(chǔ)上，為了減小副槽的體積、減少藥液配置量，本實(shí)用新型將主槽設(shè)計為雙層結(jié)構(gòu)，使主槽的體積縮小了約1/3，而且還可以防止藥液回流時溢出主槽，提高了設(shè)備運(yùn)行的安全性。
[0011]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)的說明。
[0012]如圖1所示，本實(shí)用新型提出的硅片清洗裝置，包括安裝在機(jī)架3上的主槽1、安裝在一側(cè)的副槽2，主、副槽通過管路相連通，在主槽內(nèi)還安裝有用于傳送硅片的傳動系統(tǒng)4，在本實(shí)施例中采用的是鏈?zhǔn)綕L動傳動系統(tǒng)。從圖1中可以看出，主槽I包括固定安裝在機(jī)架3上面的下槽11，從下槽內(nèi)向上伸出并高出其頂端的上槽12，該上槽的側(cè)壁向下伸出一支架13，該支架與下槽的槽底固定，并且上槽12的長寬均小于下槽的長寬，這樣設(shè)計便于上槽中的藥液溢流到下槽中，保證了系統(tǒng)的安全性。
[0013]管路包括從副槽2中引出并與上槽12連通的進(jìn)液管路51，由下槽11引出并與副槽2連通的回液管路52，同時在進(jìn)液管路51中安裝有進(jìn)水泵6。
[0014]本實(shí)施例中，主槽I為分為兩層結(jié)構(gòu)的反應(yīng)區(qū)，第一層的下槽11作為回流的緩沖區(qū)，第二層的上槽12作為托水盤，其內(nèi)有傳動系統(tǒng)4，該傳動系統(tǒng)承載硅片7進(jìn)行連續(xù)處理，藥液由副槽2經(jīng)進(jìn)液管路51并通過進(jìn)水泵6進(jìn)入上槽12中，滿液后通過其兩端進(jìn)行溢流，溢流到下槽11后經(jīng)回液管路52回到副槽2中，依次循環(huán)處理。當(dāng)藥液短時內(nèi)來不及溢流時，藥液可在下槽11內(nèi)進(jìn)行緩沖。現(xiàn)有技術(shù)中的主槽需要全部充滿藥液才能進(jìn)行生產(chǎn)，而本實(shí)用新型中將主槽進(jìn)行了雙層設(shè)計，有效減少了主槽對藥液的需求量，也減小了副槽的體積，提高了藥液利用率。
[0015]上述實(shí)施例僅用于說明本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】。應(yīng)當(dāng)指出的是，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和變化，這些變形和變都應(yīng)屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種硅片清洗裝置，包括主槽、副槽、管路和設(shè)于主槽內(nèi)的傳動系統(tǒng)，其特征在于:所述的主槽為一雙層槽結(jié)構(gòu)，其包括安裝于機(jī)架上的下槽，由下槽槽底向上伸出并高出其頂端的上槽；所述上槽的長、寬均小于下槽；所述的傳動系統(tǒng)設(shè)置在上槽中。
2.如權(quán)利要求1所述的硅片清洗裝置，其特征在于:所述上槽的側(cè)壁向下伸出一支架，該支架與下槽槽底固定。
3.如權(quán)利要求1所述的硅片清洗裝置，其特征在于:所述的管路包括由副槽引出并與上槽連通的進(jìn)液管路，由下槽引出并與副槽連通的回液管路；所述進(jìn)液管路上設(shè)有進(jìn)水泵。
【文檔編號】B08B11/00GK203448356SQ201320515020
【公開日】2014年2月26日 申請日期:2013年8月22日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月22日
【發(fā)明者】戴洪燁, 左國軍 申請人:常州捷佳創(chuàng)精密機(jī)械有限公司