基于具有按需脫粘特性的化合物的牙科材料的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種牙科修復(fù)材料,其包含不耐熱的式I的化合物:[(Z1)m-Q1-X)]k-T-[Y-Q2-(Z2)n]l式I,其中T表示不耐熱的單元,所述不耐熱的單元包含至少一個基于非共價相互作用的不耐熱基團(tuán),Z1和Z2在每種情況下獨立地表示選自乙烯基基團(tuán)、CH2=CR1-CO-O-和CH2=CR1-CO-NR2-的可聚合的基團(tuán)或選自–Si(OR)3、-COOH、-O-PO(OH)2、-PO(OH)2、-SO2OH和-SH的粘性基團(tuán),Q1在每種情況下獨立地為缺失或表示(m+1)價的直鏈或支鏈的脂肪族C1-C20基,所述C1-C20基可以被-O-、-S-、-CO-O-、-O-CO-、-CO-NR3-、–NR3-CO-、-O-CO-NR3-、-NR3-CO-O-或-NR3-CO-NR3-間斷,Q2在每種情況下獨立地為缺失或表示(n+1)價的直鏈或支鏈的脂肪族C1-C20基,所述C1-C20基可以被-O-、-S-、-CO-O-、-O-CO-、-CO-NR3-、–NR3-CO-、-O-CO-NR3-、-NR3-CO-O-或-NR3-CO-NR3間斷,X和Y在每種情況下獨立地為缺失或表示-O-、-S-、-CO-O-、-O-CO-、-CO-NR3-或-NR3-CO-,R、R1、R2和R3在每種情況下獨立地表示H或C1-C7烷基,k和l在每種情況下獨立地為0、1、2或3,并且m和n在每種情況下獨立地為1、2或3。
【專利說明】基于具有按需脫粘特性的化合物的牙科材料
[0001]本發(fā)明涉及具有按需脫粘(debonding-on-demand(DoD))特性的化合物及其作為牙科材料中的組分的用途,特別地用于制備粘合劑和粘固劑的用途。
[0002]可以再次被脫粘的粘合劑粘合在許多【技術(shù)領(lǐng)域】中越來越重要。實例為在自動化制造工藝的框架中組分的分離、使用粘合劑粘合的亞組分進(jìn)行復(fù)雜組分的修補或當(dāng)在產(chǎn)品壽命周期結(jié)束時再循環(huán)此種組分時材料分離的簡單化。通過顯著降低粘合劑粘合層的強度,如通過加熱可以按需實現(xiàn)粘合劑粘合的脫粘。
[0003]因此,DE19832629A1描述了基于聚氨酯、聚脲或環(huán)氧樹脂,用于形成可逆的粘合劑粘合的粘合系統(tǒng),其中,可以通過引入能量活化其它組分,使得粘合劑組分發(fā)生降解。例如,通過引入熱能或輻射能可以從受阻的前體中釋放引起粘合劑樹脂降解的有機堿或酸。
[0004]W02010/128042A1描述了用于飛機或汽車結(jié)構(gòu)的可脫粘的粘合劑粘合的工業(yè)粘合劑組合物,其由通常的粘合劑基質(zhì)和顆粒膨脹材料如偶氮二甲酰胺組成。通過將粘合劑粘合至少加熱至膨脹材料的膨脹溫度使組分脫粘。
[0005]W002/46260A1和W02010/002262A1描述了可以用作粘合劑的超分子聚合物。加熱時,這些塑料分解為液態(tài)的、具有低粘度的低分子量化合物。該過程是可逆的,結(jié)果是冷卻時粘合劑復(fù)原。因此,通過加熱和冷卻可以可逆地建立和脫粘粘合劑粘合。 [0006]在牙科學(xué)中,粘合劑粘合的脫粘是畸齒矯正學(xué)中除了其它方面以外重要的,在畸齒矯正學(xué)中,通過粘合劑粘合到牙齒表面以矯正咬合不正的支架在成功矯正之后,在不破壞牙釉質(zhì)的前提下必須再次移除。此外,在修復(fù)或完成高強度烤瓷修復(fù)體或牙冠的更換的情況下,可以容易地軟化或分離的粘固劑粘合將是有利的,所述高強度烤瓷修復(fù)體或牙冠很難機械移除。
[0007]關(guān)于畸齒矯正應(yīng)用,US2007/0142498A1描述了牙科組合物,其包含熱可控制的添加劑,例如熱塑性聚合物。
[0008]US2007/0142497A1描述了基于二甲基丙烯酸酯及酸不穩(wěn)定的叔碳酸酯基團(tuán)和光生酸(photoacid)如三芳基锍鹽(triarylsulphonium salts)的牙科組合物。這些組合物可以使用適合的引發(fā)劑如二?;趸rgaCUre819及可見光進(jìn)行光化學(xué)固化(光粘合)并且通過使用UV光在升高的溫度下照射可以再次被軟化(光熱脫粘)。
[0009]本發(fā)明的一個目的是提供粘性牙科修復(fù)材料,所述粘性牙科修復(fù)材料顯示良好的基底粘附,特別是與牙齒結(jié)構(gòu)和/或牙科陶瓷的基底粘附并允許通過引入熱從基底脫粘,因此所述材料尤其適合于制備具有按需脫粘特性的粘合劑或復(fù)合粘固劑。
[0010]根據(jù)本發(fā)明,該目的通過基于不耐熱的式I的化合物的牙科修復(fù)材料來實現(xiàn):
[0011 ] [ (Z1) ^Q1-X) ] k-T- [Y-Q2- (Z2) JI
[0012]式I,
[0013]其中,
[0014]T表示不耐熱的單元,所述單元包含至少一個基于非共價相互作用的不耐熱基團(tuán),
[0015]Z1和Z2在每種情況下獨立地表示可聚合的基團(tuán),所述可聚合的基團(tuán)選自乙烯基基團(tuán)、CH2=CR1-CO-O-和 CH2=CR1-CO-NR2-或粘性基團(tuán),所述粘性基團(tuán)選自 _ Si (OR) 3、-C00H、_0-PO (OH)2, -PO (OH)2, -SO2OH 和 _SH,
[0016]Q1在每種情況下獨立地為缺失或表示(m+1)價的直鏈或支鏈的脂肪族C1-C2tl基(radical),所述C1-C2tl基可以被_0_、-S-、-C0-0-、-0-C0-、-CO-NR3-、- NR3-CO-、-O-CO-NR3-、-NR3-CO-O-或-NR3-CO-NR3-間斷,
[0017]Q2在每種情況下獨立地為缺失或表示(n+1)價的直鏈或支鏈的脂肪族C1-C2tl基,所述 C1-C2tl 基可以被-O-、-S-、-C0-0-、-0-C0-、-CO-NR3-、- NR3-CO-,-O-CO-NR3-,-NR3-CO-O-或-NR3-CO-NR3-間斷,
[0018]X和Y在每種情況下獨立地為缺失或表示-O-、-S-、-C0-0-、-0-C0-、-CO-NR3-、- NR3-CO-、-O-CO-NR3-、-NR3-CO-O-或-NR3-CO-NR3-,
[0019]R、R1、R2和R3在每種情況下獨立地表示H或C1-C7烷基,
[0020]k和I在每種情況下獨立地為0、1、2或3,和[0021 ] m和η在每種情況下獨立地為1、2或3。
[0022]在一個實施方案中,至少一個Z1或Z2是可聚合的基團(tuán),并且至少一個Z1或Z2是粘性基團(tuán)。關(guān)于這點,式I的那些化合物是優(yōu)選的,其中Z1和Z2中的一個表示可聚合的基團(tuán),而Z1和Z2中的另一個表示粘性基團(tuán)。此外,優(yōu)選的是k和I各自獨立地為1、2或3。在另一個實施方案中,Z1和Z2兩者表不可聚合基團(tuán)。在另一個實施方案中,Z1和Z2中的一個或兩者可以缺失。
[0023]基可以被諸如-O-的基團(tuán)間斷的指示要理解為使得所述基團(tuán)插入到基的碳鏈中,即,該基團(tuán)的兩側(cè)與碳原子相鄰。因此,這些基團(tuán)的數(shù)目為至少1,小于碳原子的數(shù)目,并且這些基團(tuán)不是末端。根據(jù)本發(fā)明,不被指定的基團(tuán)間斷的基是優(yōu)選的。
[0024]根據(jù)本發(fā)明,只考慮與化學(xué)價理論相容的那些化合物。
[0025]式I的那些化合物是特別優(yōu)選的,其中在每種情況下彼此獨立地,
[0026]Z1和Z2中的一個在每種情況下獨立地表示選自CH2=CR1-CO-O-和CH2=CR1-CO-NR2-的可聚合的基團(tuán),而Z1和Z2中的另一個在每種情況下獨立地表示選自CH2=CR1-CO-O-和 CH2=CR1-CO-NR2-的可聚合的基團(tuán)并且優(yōu)選地選自-Si (OR) 3、-C00H、-0_P0(OH)2, -PO (OH)2, -SO2OH 和-SH 的粘性基團(tuán),
[0027]Q1在每種情況下獨立地為缺失或表示(m+1)價的直鏈或支鏈的脂肪族C1-Cltl基,所述 C1-Cltl 基可以被-O-、-C0-0-, -0-C0-, -CO-NR3-,或-NR3-CO-間斷,
[0028]Q2在每種情況下獨立地為缺失或表示(n+1)價的直鏈或支鏈的脂肪族C1-Cltl基,所述 C1-Cltl 基可以被-O-、-C0-0-, -0-C0-, -CO-NR3-或-NR3-CO-間斷,
[0029]X和Y在每種情況下獨立地為缺失或表示-O-、-C0-0-、-0-C0-、-CO-NR3-或-NR3-CO-,
[0030]R在每種情況下獨立地為H、CH3或C2H5,
[0031 ] R1在每種情況下獨立地為H或CH3,
[0032]R2在每種情況下獨立地為H、CH3或C2H5,
[0033]R3在每種情況下獨立地為H、CH3或C2H5,和/或
[0034]k、1、m和η在每種情況下獨立地為I或2。
[0035]其中所有變量各自具有以上定義的優(yōu)選含義之一的化合物是特別優(yōu)選的。
[0036]適合的不耐熱基團(tuán)本身是已知的。根據(jù)本發(fā)明,這些不耐熱基團(tuán)被表征為其包含基于以下的一種或多種不耐熱鍵:非共價相互作用如氫鍵、配價鍵,金屬-配體相互作用,J1-JI相互作用,供體-受體相互作用,偶極-偶極相互作用,離子對相互作用,范德華相互作用,親水性相互作用和/或疏水性相互作用。優(yōu)選的不耐熱基團(tuán)包括:在氫鍵形成基序(motifs)之間具有不耐熱的氫鍵的基團(tuán),如2-脲基-4[1H]-嘧啶酮基團(tuán)(UPy基團(tuán))或其衍生物;具有不耐熱配價鍵或金屬-配體相互作用的基團(tuán),如2,6-雙-苯并咪唑-吡啶基團(tuán)或2,2':6',2〃-三聯(lián)吡啶基團(tuán)特別是與過渡金屬或鑭系離子的絡(luò)合物以及基于π-π相互作用和/或供體-受體相互作用的加合物,如缺電子富二酰亞胺和富電子芘基團(tuán)的加合物。具有非共價相互作用的不耐熱基團(tuán)的實例還描述于R.J.Wojtecki等人,NatureMaterials2011, 10, 14-27;J.D.Fox et al., MacromoIecules2009, 42, 6823 ;S.Sivakova等人,Chem.Soc.Rev.2005, 34, 9-21 和 S.J.Rowan 等人,Faraday Discussions2005, 128, 43。
[0037]在一個實施方案中,不耐熱單元T是不耐熱基團(tuán)。優(yōu)選地所述不耐熱基團(tuán)具有式-T1..T2-,其中,T1和T2表示通過不耐熱的非共價相互作用彼此連接的互補基團(tuán)。
[0038]關(guān)于這點,基于不耐熱的、可聚合的式II的化合物的牙科修復(fù)材料是特別優(yōu)選的:
[0039][ (Z1) ^Q1-X) ] k-T- [Y-Q2- (Z2) n] x
[0040]式II,
[0041]其中
[0042]T表示不耐熱基團(tuán),
[0043]Z1和Z2在每種情況下獨立地表示選自乙烯基基團(tuán)、CH2=CR1-CO-O-和CH2=CR1-CO-NR2-的可聚合的基團(tuán),或選自-0-P0 (OH) 2、-PO (OH) 2和-SO2OH的酸基團(tuán),其中至少一個Z1或Z2是可聚合的基團(tuán)并且至少一個Z1或Z2是粘性基團(tuán),
[0044]Q1在每種情況下獨立地為缺失或表示(m+1)價的直鏈或支鏈的脂肪族C1-Cltl基,所述 C1-Cltl 基可以被-O-、-S-、-C0-0-, -0-C0-, -CO-NR3-或-NR3-CO-間斷,
[0045]Q2在每種情況下獨立地為缺失或表示(n+1)價的直鏈或支鏈的脂肪族C1-Cltl基,所述 C1-Cltl 基可以被-O-、-S-、-C0-0-, -0-C0-, -CO-NR3-或-NR3-CO-間斷,
[0046]X和Y在每種情況下獨立地為缺失或表示-0-、-S-、-C0-0-、-0-C0-、-C0-NR3-或-NR3-CO-,
[0047]R1、R2和R3在每種情況下獨立地表示H或C1-C7烷基,和
[0048]k、l、m和η在每種情況下獨立地為1、2或3。
[0049]關(guān)于這點,式II的那些化合物是優(yōu)選的,其中Z1和Z2中的一個表示可聚合的基團(tuán),而Z1和Z2中的另一個表示酸基團(tuán)。
[0050]式II的那些化合物是特別優(yōu)選的,其中在每種情況下彼此獨立地,
[0051]Z1和Z2中的一個在每種情況下獨立地表示選自CH2=CR1-CO-O-和CH2=CR1-CO-NR2-的可聚合的基團(tuán),而Z1和Z2中的另一個在每種情況下獨立地表示選自-0-Ρ0 (OH)2, -PO (OH) 2 和-SO2OH 的酸基團(tuán),
[0052]Q1在每種情況下獨立地為缺失或表示(m+1)價的直鏈或支鏈的脂肪族C1-Cltl基,所述 C1-Cltl 基可以被-O-、-C0-0-, -0-C0-, -CO-NR3-,或-NR3-CO-間斷,
[0053]Q2在每種情況下獨立地為缺失或表示(n+1)價的直鏈或支鏈的脂肪族C1-Cltl基,所述 C1-Cltl 基可以被-O-、-C0-0-, -0-C0-, -CO-NR3-或-NR3-CO-間斷,[0054]X和Y在每種情況下獨立地為缺失或表示-O-、-C0-0-、-0-C0-、-CO-NR3-或-NR3-CO-,
[0055]R1在每種情況下獨立地為H或CH3,
[0056]R2在每種情況下獨立地為H、CH3或C2H5,
[0057]R3在每種情況下獨立地為H、CH3或C2H5,和/或
[0058]k、1、m和η在每種情況下獨立地為I或2。
[0059]其中所有變量各自具有以上定義的優(yōu)選的含義之一的化合物是特別優(yōu)選的。
[0060]在另一個實施方案中,不耐熱的單元T是低聚的或聚合的單元,其包含至少一個不耐熱的基團(tuán)和至少一個低聚的、均聚的、雜聚鏈P。適合的鏈P的實例是乙烯基、二烯、縮聚和加聚低聚物和聚合物、共聚物及其混合物。優(yōu)選地,鏈P的數(shù)均摩爾質(zhì)量為200至20000g/mol,優(yōu)選地為1000至lOOOOg/mol。玻璃化溫度為(TC或更低的無定形低聚、均聚和雜聚鏈,例如乙烯/ 丁烯共聚物、聚環(huán)氧乙烷或聚四氫呋喃是特別優(yōu)選的。
[0061]特別地,式I的那些化合物是優(yōu)選的,其中不耐熱單元T具有式III或IV:
[0062][-P-(X1-Q-Y 1-T1..T2-Y2-Q-X2-) q]p
[0063]式III,
[0064][-P- (X1-Q-Y1-T1-Y2-Q-X2-) q] p
[0065][ (-X2-Q-Y2-T2-Y1-Q-X1) q-P-] p
[0066]式IV,
[0067]其中
[0068]P在每種情況下獨立地表示低聚的、均聚的或雜聚鏈,優(yōu)選地,其數(shù)均摩爾質(zhì)量為200 至 20000g/mol,
[0069]T1和T2表示可以相同或不同并且通過不耐熱非共價相互作用彼此連接的基團(tuán),
[0070]Q在每種情況下獨立地為缺失或表示二價的、直鏈的、支鏈的和/或環(huán)狀的C1-C2tl基,其可以是完全或部分地不飽和的和/或芳香族的并且可以被-O-、-S-、-C0-0-、-0-C0-、-CO-NR3-、-NR3-CO-、-0-C0-NR3-、-NR3-CO-O-或-NR3-CO-NR3-間斷,
[0071]X1和X2在每種情況下獨立地為缺失或表示-O-、-S-、-C0-0-、-0-C0-、-CO-NR3-、-NR3-CO-、-0-C0-NR3-、-NR3-CO-O-或-NR3-CO-NR3-,
[0072]Y1和Y2在每種情況下獨立地為缺失或表示-O-、-S-、-C0-0-、-0-C0-、-CO-NR3-、-NR3-CO-、-0-C0-NR3-、-NR3-CO-O-或-NR3-CO-NR3-,和
[0073]P獨立地為I至100和
[0074]q獨立地為1、2、3或4。
[0075]那些單元T是特別優(yōu)選的,其中在式III和IV中,在每種情況下彼此獨立地
[0076]P在每種情況下獨立地表示低聚的、均聚的或雜聚的鏈,優(yōu)選地,其數(shù)均摩爾質(zhì)量為1000至10000g/mol,Q在每種情況下獨立地為缺失或表示二價的、直鏈或支鏈的C1-Cltl基,其可以被-0-、-S-、-C0-0-、-0-C0-、-C0-NR3-、- NR3-C0-、-0_C0-NR3-、-NR3-CO-O-或-NR3-CO-NR3-間斷,
[0077]X1和X2在每種情況下獨立地為缺失或表示-O-、-S-、-C0-0-、-0-C0-、-CO-NR3-、-NR3-CO-、-0-C0-NR3-、-NR3-CO-O-或-NR3-CO-NR3-,
[0078]Y1和Y2在每種情況下獨立地為缺失或表示-O-、-S-、-C0-0-、-0-C0-、-CO-NR3-、-NR3-CO-、-O-CO-NR3-、-NR3-CO-O-或-NR3-CO-NR3-,
[0079]p獨立地為I至50,特別地為5至50,特別優(yōu)選地為10至50,和
[0080]q獨立地為I或2,特別地為I。
[0081]其中所有變量各自具有以上定義的優(yōu)選的含義之一的化合物是特別優(yōu)選的。
[0082]根據(jù)本發(fā)明,其中不耐熱單元T能夠形成超分子基序的式I的化合物是優(yōu)選的。此種超分子基序可以通過兩個或多個化學(xué)物種(chemical species)聯(lián)合,通過非共價的分子間相互作用的方式來形成(Supramolecular Chemistry, J.-M.Lehn, Wiley-VCH, 1995andSupramolecular Chemistry:From Molecules to Nanomaterials, P.A.Gale andJ.ff.Steed (Eds.), Wiley, 2012)。此種聯(lián)合過程是超分子聚合物形成的基礎(chǔ),在所述超分子聚合物中,單個的聚合物鏈?zhǔn)峭ㄟ^以上描述的非共價鍵保持在一起的(Tom F.A.de Greef等人.,Nature2008, 453,171-173; T.Aida 等人,Science2012, 335,813-817)。通常,非共價鍵比共價鍵更弱且活力更大。因此,它們的形成常常是可逆的,結(jié)果是,通過例如升高溫度、降低濃度或增加溶劑的極性,它們可以被間斷破壞并且常常在需要時再形成。此種超分子基序作為不耐熱單元是特別適合的。
[0083]特別地,式I的那些化合物是優(yōu)選的,其中不耐熱基團(tuán)-T1..T2-選自:
[0084]
【權(quán)利要求】
1.一種牙科修復(fù)材料,其包含不耐熱的式I的化合物:
[(Z1)m-Q1-X) ]k-T-[y-Q2-(Z2)1Ji 式I, 其中 T表示不耐熱的單元,所述單元包含至少一個基于非共價相互作用的不耐熱基團(tuán), Z1和Z2在每種情況下獨立地表示選自乙烯基基團(tuán)、CH2=CR1-CO-O-和CH2=CR1-CO-NR2-的可聚合的基團(tuán)或選自-Si (OR) 3、-C00H、-0-P0(OH)2, -PO(OH)2、-SO2OH和-SH的粘性基團(tuán), Q1在每種情況下獨立地為缺失或表示(m+1)價的直鏈或支鏈的脂肪族C1-C2tl基,所述C1-C20 基可以被-O-、-S-、-C0-0-、-0-C0-、-CO-NR3-、- NR3-CO-、-O-CO-NR3-、-NR3-CO-O-或-NR3-CO-NR3-間斷, Q2在每種情況下獨立地為缺失或表示(n+1)價的直鏈或支鏈的脂肪族C1-C2tl基,所述C1-C20 基可以被-O-、-S-、-C0-0-、-0-C0-、-CO-NR3-、- NR3-CO-、-O-CO-NR3-、-NR3-CO-O-或-NR3-CO-NR3-間斷, X和Y在每種情況下獨立地為缺失或表示-O-、-S-、-C0-0-, -0-C0-, -CO-NR3-或-NR3-CO-, R、R1、R2和R3在每種情況下獨立地表示H或C1-C7烷基,和 k和I在每種情況下獨立地為0、1、2或3,和 m和η在每種情況下獨立地為1、2或3。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的牙科修復(fù)材料,其中所述不耐熱單元T為不耐熱基團(tuán)并且優(yōu)選地具有式-T1..Τ2-,其中T1和T2表示通過不耐熱的非共價相互作用彼此連接的互補基團(tuán)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的牙科修復(fù)材料,其包含不耐熱的、可聚合的式II的化合物:
[(Z1)m-Q1-X) ]k-T-[Y-Q2-(Z2)nL
式II, 其中 T表不不耐熱基團(tuán), Z1和Z2在每種情況下獨立地表示選自乙烯基基團(tuán)、CH2=CR1-CO-O-和CH2=CR1-CO-NR2-的可聚合的基團(tuán),或選自-0-P0 (OH) 2、-PO (OH) 2和-SO2OH的酸基團(tuán),其中至少一個Z1或Z2是可聚合的基團(tuán)并且至少一個Z1或Z2是酸基團(tuán), Q1在每種情況下獨立地為缺失或表示(m+1)價的直鏈或支鏈的脂肪族C1-Cltl基,所述C1-C10 基可以被-O-、-S-、-C0-0-, -0-C0-, -CO-NR3-或-NR3-CO-間斷, Q2在每種情況下獨立地為缺失或表示(n+1)價的直鏈或支鏈的脂肪族C1-Cltl基,所述C1-C10 基可以被-O-、-S-、-C0-0-, -0-C0-, -CO-NR3-或-NR3-CO-間斷, X和Y在每種情況下獨立地為缺失或表示-O-、-S-、-C0-0-、-0-C0-、-CO-NR3-或-NR3-CO-, R1、R2和R3在每種情況下獨立地表示H或C1-C7烷基,和 k、l、m和η在每種情況下獨立地為1、2或3。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的牙科修復(fù)材料,其中所述不耐熱單元T為低聚的或聚合的單元,所述低聚的或聚合的單元包含至少一個不耐熱的基團(tuán)和至少一個低聚的、均聚的或雜聚的鏈P。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的牙科修復(fù)材料,其中所述鏈P選自:乙烯基、二烯、縮聚和加聚反應(yīng)低聚物和聚合物、共聚物及其混合物。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的牙科修復(fù)材料,其中所述鏈P的數(shù)均摩爾質(zhì)量為200至20000g/molο
7.根據(jù)權(quán)利要求4至6中任一項所述的牙科修復(fù)材料,其中所述不耐熱單元T具有式III或式IV:
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項所述的牙科修復(fù)材料,其中所述不耐熱基團(tuán)選自:
9.根據(jù)前述任一項權(quán)利要求所述的牙科修復(fù)材料,其包含一種或多種自由基可聚合的單體。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的牙科修復(fù)材料,其包含: (甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸羥乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸芐酯、(甲基)丙烯酸四氫糠酯或(甲基)丙烯酸異冰片酯、雙酚A 二(甲基)丙烯酸酯、雙-GMA、UDMA、二(甲基)丙烯酸二乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸三乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸四乙二醇酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、甘油二(甲基)丙烯酸酯、1,4- 丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,12-十二烷二醇二(甲基)丙烯酸酯, 和/或 一種或多種N-單或雙取代的丙烯酰胺,N-乙基丙烯酰胺、N,N-二甲基丙烯酰胺、N-(2-羥乙基)丙烯酰胺、N-甲基-N-(2-羥乙基)丙烯酰胺,一種或多種N-單取代的甲基丙烯酰胺,N-乙基甲基丙烯酰胺、N-(2-羥乙基)甲基丙烯酰胺、N-乙烯吡咯烷酮,一種或多種交聯(lián)烯丙醚, 和/或 一種或多種交聯(lián)吡咯烷酮,1,6-雙(3-乙烯基-2-吡咯烷酮基)_己烷、一種或多種交聯(lián)雙丙烯酰胺,亞甲基或亞乙基雙丙烯酰胺、一種或多種交聯(lián)雙(甲基)丙烯酰胺,N,N’ - 二乙基-1,3-雙(丙烯酰胺基)_丙烷、1,3-雙(甲基丙烯酰胺基)_丙烷、1,4-雙(丙烯酰胺基)-丁燒、1,4-雙(丙烯?;?-哌嗪, 和/或 一種或多種不耐熱的交聯(lián)單體, 或其混合物。
11.根據(jù)前述任一項權(quán)利要求所述的牙科修復(fù)材料,其包含一種或多種自由基可聚合的、含有酸基團(tuán)的單體。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的牙科修復(fù)材料,其包含: 馬來酸、丙烯酸、甲基丙烯酸、2_(羥甲基)丙烯酸、4-(甲基)丙烯酰氧乙基偏苯三酸酐、10-甲基丙烯酰氧基癸基丙二酸、N-(2-羥基-3-甲基丙烯酰氧基丙基)-N-苯基甘氨酸、4-乙烯基苯甲酸,和/或 乙烯基膦酸、4-乙烯基苯基膦酸、4-乙烯基芐基膦酸、2-甲基丙烯酰氧乙基膦酸、2-甲基丙烯酰胺乙基膦酸、4-甲基丙烯酰胺基-4-甲基-戊基膦酸、2-[4-( 二羥基磷?;?-2_氧雜_ 丁基]-丙烯酸、2_[4_( 二羥基憐酸基)-2_氧雜_ 丁基]-丙烯酸乙酯或2- [4- ( 二羥基磷?;?-2-氧雜-丁基]-丙烯酸2,4,6-三甲基苯基酯, 和/或 2-甲基丙烯酰氧基丙基磷酸一或二氫酯、2-甲基丙烯酰氧乙基苯基磷酸氫酯、二季戊四醇五甲基丙烯酰氧基磷酸酯、10-甲基丙烯酰氧基癸基磷酸二氫酯、磷酸一(1-丙烯?;?哌啶-4-基)酯、6-(甲基丙烯酰胺基)己基磷酸二氫酯、1,3-雙(N-丙烯?;?N-丙基_氨基)-丙烷~2~基憐酸二氫酯, 和/或 乙烯基磺酸、4-乙烯基苯磺酸、3-(甲基丙烯酰胺基)丙基磺酸, 或其混合物。
13.根據(jù)前述任一項權(quán)利要求所述的牙科修復(fù)材料,其包含自由基聚合的引發(fā)劑。
14.根據(jù)前述任一項權(quán)利要求所述的牙科修復(fù)材料,其包含熱法釋放氣體的添加劑。
15.根據(jù)前述任一項權(quán)利要求所述的牙科修復(fù)材料,其包含可以將輻射的電磁輻射轉(zhuǎn)化為熱的添加劑。
16.根據(jù)前述任一項權(quán)利要求所述的牙科修復(fù)材料,其包含有機和/或無機填充劑。
17.根據(jù)前述任一項權(quán)利要求所述的牙科修復(fù)材料,其包含: a)0.1至50wt.-%,特別地I至40wt.-%,優(yōu)選地2至30wt.-%以及特別優(yōu)選地5至30wt.-%的式I的化合物, b)0.01至IOwt.-%,優(yōu)選地0.1至3.0wt.-%以及特別優(yōu)選地0.2至2wt.-%的引發(fā)劑, c)O至80wt.-%,優(yōu)選地I至60wt.-%以及特別優(yōu)選地5至50wt.-%的共聚單體, d)0至30wt.-%,優(yōu)選地0.5至15wt.-%以及特別優(yōu)選地I至5wt.-%的粘性單體, e)O至80wt.-%的填充劑, f)0至70wt.-%的溶劑。
18.根據(jù)權(quán)利要求16或17所述的牙科修復(fù)材料,其用作粘合劑,所述牙科修復(fù)材料包含O至20wt.-%的填充劑。
19.根據(jù)權(quán)利要求16或17所述的牙科修復(fù)材料,其用作復(fù)合材料,所述牙科修復(fù)材料包含20至80wt.-%的填充劑。
20.如權(quán)利要求1至8中任一項所定義的式I的化合物或如權(quán)利要求9至19中任一項所定義的組合物作為牙科修復(fù)材料或用于制備牙科修復(fù)材料的用途。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的用途,其是作為粘合劑或粘固劑或用于制備粘合劑或粘固劑的用途。
22.如權(quán)利要求1至8中任一項所定義的式I的化合物或如權(quán)利要求9至19中任一項所定義的組合物作為不可逆的粘合劑或自修復(fù)塑料材料或用于制備不可逆的粘合劑或自修復(fù)塑料材料的用途。
【文檔編號】A61K6/083GK103930085SQ201280043708
【公開日】2014年7月16日 申請日期:2012年9月10日 優(yōu)先權(quán)日:2011年9月8日
【發(fā)明者】N·莫斯奈爾, T·赫特, K·瑞斯特, U·薩爾茲, C·韋德, G·菲奧雷, C·海因茲曼, V·萊因伯格爾 申請人:義獲嘉偉瓦登特公司