專利名稱：：二相研磨性牙膏組合物的制作方法二相研磨性牙膏組合物本發(fā)明涉及包含研磨劑的多成分牙膏組合物。W099/55297(Colgate)公開了二組分潔齒劑，其中每種組分均包含硅質研磨劑。US-B1-6346235(Colgate)公開了二組分牙膏，包含硅石研磨劑。EP-A-0397452(Beecham)公開了包含研磨劑的牙膏組合物。WO99/39685(Unilever)公開了二組分牙膏，其中兩個分開的相從同一容器中分配，兩者都包含硅石研磨劑。WO99/63960(P&G)公開了包含硅石的牙膏，所述硅石具有特定的折射率并且牙膏具有透明的外觀。US2005/0163727(Doyle)公開了包含牙研磨劑的兩相組合物。EP-A-0740932(Unilever)公開了包含硅石的視覺透明的凝膠。GB1271944(Beecham)公開了帶條紋的牙膏組合物。US6682717(Alcan)公開了包含研磨性成分的牙齒護理組合物。US6521216(P&G)7^開了包含研磨劑的二組分牙膏。盡管有這些現(xiàn)有技術，仍然需要有包含改進的研磨性系統(tǒng)的改進口用組合物，所述研磨性系統(tǒng)具有更好視覺外，見。因此，本發(fā)明提供了牙膏，其使包含的研磨劑提供的清潔效果最大化，同時使制劑中由于它們的存在產(chǎn)生的限制性效果最小化，特別是它們對于透明的凝膠的乳濁作用。因此，本發(fā)明提供了包含當從容器中分配時相互接觸的第一制劑和第二制劑的牙膏組合物，第一牙膏制劑包含X。/。重量的研磨劑(A),所述研磨劑(A)具有致使其光透射率從0到70%的散射中心濃度，并且第二組合物包含O.l到0.9X重量比的研磨劑(B),所述研磨劑(B)具有致使其光透射率從0到70%的散射中心濃度。優(yōu)選的，第二組合物包含0.2到0.7,更優(yōu)選0.4到0.6并且特別優(yōu)選0.5X的研磨劑B。優(yōu)選的，X是第一制劑的重量的1到5%,更優(yōu)選2到4%并且特別是第一制劑的重量的3%。散射中心是粒子中將光散射并且因此降低通過其的光量的點。其可通過非常簡單的測量通過牙膏的液相中的研磨劑混合物的光的透射而測得。這可通過將一定量的液相中研磨劑置于試管中而獲得，對于透明的凝膠，所述研磨劑由重量比例90:10的含水山梨醇(在水中70%)和水組成。典型的，0.5g研磨劑與12g的70%山梨醇的水溶液混合，在589nm下測量光透射。優(yōu)選的，第一制劑中的研磨劑(A)具有致使其光透射率為0到50%更優(yōu)選10到40%的散射中心濃度。優(yōu)選的，第二制劑中的研磨劑(B)具有致使其光透射率為0到50%更優(yōu)選10到40%的散射中心濃度。優(yōu)選的，第二制劑中的研磨劑(B)與研磨劑(A)相同。優(yōu)選的，第二制劑是視覺透明的凝膠。-脫覺透明意味著具有20:20的視力的人可透過裝有制劑的lml試管分辨出12號的TimesRoman字體(font)。優(yōu)選的，牙膏組合物的第一制劑占組合物體積的2到40%,更優(yōu)選5到15%并且最優(yōu)選8到12%。利用降低水平的第一制劑允許制劑者更靈活的利用第二，和任何進一步的制劑，其中研磨劑內含物的負面效應可降低到最小。優(yōu)選的，第一制劑中的研磨劑(A)選自研磨性硅石，碳酸釣，焦磷酸鉤，煅燒氧化鋁，碳化鴒，珍珠巖，碳化硅，聚丙烯，聚碳酸酯，磷酸二鉀，羥磷灰石，三偏磷酸鹽，不溶六偏磷酸鹽和其混合物。更優(yōu)選的，第一制劑中的研磨劑是研磨性硅石，珍珠巖，碳化硅或碳化鴒。最優(yōu)選的，其是基于硅石的研磨劑，例如/人IneosSilicas可獲的AC33。優(yōu)選的，第二制劑中的研磨劑(B)選自研磨性硅石，碳酸鈣，焦磷酸鈣，煅燒氧化鋁，碳化鴒，珍珠巖，碳化硅，聚丙烯，聚碳酸酯，磷酸二鈣，羥磷灰石，三偏磷酸鹽，不溶六偏磷酸鹽和其混合物。更優(yōu)選的，第一制劑中的研磨劑是研磨性硅石，珍珠巖，碳化硅或碳化鎢。最優(yōu)選的，其是可獲自IneosSilicas的基于珪石的研磨劑。優(yōu)選的，組合物是帶條紋的牙膏組合物，并且所述條紋包含了第一制劑。因此，通過在第一制劑中儲存大多數(shù)(bulk)研磨劑獲得的益處可與帶條紋組合物提供的更好的視覺相結合。優(yōu)選的，通過利用多個條紋，濃縮的研磨劑可在組合物中作為一個整體鋪展，以避免將濃縮的磨損材料呈遞到牙齒表面。優(yōu)選的，當從容器中分配，第一制劑同軸地位于第二制劑之中。同軸表示沿著分配的膏體的第一制劑的長度的平均中心線基本上與全部分配的膏體的平均中心線接近。術語同軸不意味著表現(xiàn)任何數(shù)學精確度。這防止了使用者將濃縮的研磨劑鋪展到牙齒表面，并且也提供給使用者表現(xiàn)為完全透明的牙膏，不透明的核隱藏在凝膠帶中。優(yōu)選的，第一制劑和第二制劑具有在40。C下基本上類似的粘度(以5rpm的RV-TD)?；旧项愃票硎菊扯缺３衷?皮此的10000cps之內。牙膏還可包含進一步的研磨劑，只要它們不對牙膏的外觀產(chǎn)生不利影響。優(yōu)選進一步的研磨劑包括具有與基于含水山梨醇的組合物的折射率匹配的折射率的任何研磨劑。這通常已知為低折射率硅石。在本發(fā)明中用作研磨劑的低折射率硅石是具有與含水山梨醇基料的折射率匹配的折射率的硅石，所述含水山梨醇基料具有1.41-1.47,優(yōu)選1.435-1.445的表觀折射率，優(yōu)選具有5到15pm的重量平均的粒子大小，10到100m2/g的BET(氮)表面積和大約70-150cmVl00g的吸油率。具有1.435到1.445之間的R.I.的適當?shù)牡驼凵渎恃心バ怨枋牡湫屠邮荰ixosil63和73,來自RhonePoulenc;Sident10,來自Degussa;Zeodent113,來自Zeofinn;具有大約1.440的R丄的SorbosilAC77，來自Ineos。進一步的例子可在EP-A-0,549,287(Colgate)和WO94/10087(Crosfield)中找到，其在此引入作為參考。這些硅石在組合物中的量一般可以是5-60%重量，通常為5-20%重量。第二制劑的液相應該以如上所述致使其折射率與硅石折射率緊密匹配的方式配制。液相通常包含水和濕潤劑，后者通常是山梨醇或甘油。水具有1.333的RI,山梨醇(70%水溶液)具有1.457的RI并且甘油RI為1.473。其他的濕潤劑例如丙二醇，聚丙二醇和聚乙二醇也可存在。液相的折射率可從組分的各自折射率中計算。這種類型最優(yōu)選的研磨劑是可獲自IneosSilicas的AC77。根據(jù)本發(fā)明的口用組合物進一步包含本領域通常的成分，例如抗微生物試劑，例如三氯生，氯己定，銅-，鋅-和亞錫鹽例如檸檬酸鋅，硫酸鋅，氨基乙酸鋅，檸檬酸鋅鈉和焦磷酸亞錫，血;f艮堿提取物，滅滴靈，季銨化合物，例如十六烷基氯化吡口定镥；雙胍(bis-guanides),例如二葡萄糖酸氯己定，?？颂驵?，奧替尼啶，雙胍啶；和卣化雙盼化合物，例如2,2'亞甲基雙-(4-氯-6-溴苯酚)；抗炎試劑，例如布洛芬，氟比洛芬，阿司匹林，消炎痛等；抗齲試劑，例如氟化鈉和氟化亞錫，胺氟化物，單氟^粦酸鈉，三偏磷酸鈉和酪蛋白；齒菌斑緩沖劑，例如尿素，乳酸鈣，甘油磷酸鈣和聚丙烯酸鍶；維生素，例如維生素A,C和E;植物提取物；脫敏試劑，例如檸檬酸鉀，氯化鉀，酒石酸鉀，重石友酸《甲，草酸鉀，檸檬酸鉀和鍶鹽；抗結石試劑，例如堿-金屬焦磷酸鹽，含次磷酸鹽聚合物，有機膦酸鹽和含磷檸檬酸鹽(phosphocitrate)等；生物分子，例如細菌素，抗體，酶等；調料，例如薄荷油和荷蘭薄荷油；蛋白質原料，例如膠原質；防腐劑乳濁劑著色劑pH-調節(jié)試劑；甜味劑；藥學上可接受載體，例如淀粉，蔗糖，水或水/醇系統(tǒng)等；表面活性劑，例如陰離子，非離子，陽離子和兩性離子或兩性表面活性劑；濕潤劑，例如甘油，山梨醇，丙二醇，木糖醇，乳糖醇等；粘合劑和增稠劑，例如羧曱基纖維素鈉，黃原膠，阿拉伯膠等，以及合成的聚合物例如聚丙烯酸酯和羧乙蹄基聚合物例如Carbopol;可增強活性成分例如抗微生物試劑的遞送(delivery)的聚合化合物也可被包括。所述聚合物的例子是聚乙烯基甲基醚和馬來酸酐的共聚物和其他類似的遞送增強聚合物，例如描述于DE-A-3，942,643(Colgate)中的那些。為緩沖口用護理組合物的pH和離子強度的緩沖劑和鹽；以及其他可包括的任選組分是，例如漂白試劑，例如過氧化合物如過氧二磷酸鉀，起泡系統(tǒng)例如碳酸氫鈉/檸檬酸系統(tǒng)，變色系統(tǒng)，等。脂質體也可能用于增進活性組分的遞送或穩(wěn)定性。實施例下面的牙膏制劑利用已知方法制造。<table>tableseeoriginaldocumentpage7</column></row><table>權利要求1.牙膏組合物，包含當從容器中分配時相互接觸的第一制劑和第二制劑，第一牙膏制劑包含X％重量的研磨劑(A)，所述研磨劑(A)具有致使其光透射率為0到70％的散射中心濃度，并且第二組合物包含0.1到0.9X重量比的研磨劑(B)，所述研磨劑(B)具有致使其光透射率為0到70％的散射中心濃度。2.根據(jù)權利要求1的牙膏組合物，其中第一制劑占組合物體積的2到40%。3.根據(jù)權利要求1或2的牙膏組合物，其中第一制劑占組合物體積的5到15%。4.根據(jù)前述任一權利要求的牙膏組合物，其中第一制劑中的研磨劑選自研磨性硅石，碳酸釣，焦磷酸鈣，煅燒氧化鋁，碳化鎢，碳化硅，聚丙烯，聚碳酸酯，和其混合物。5.根據(jù)前述任一權利要求的牙膏組合物，其中第二制劑中的研磨劑選自研磨性硅石，碳酸鈣，焦磷酸鈣，煅燒氧化鋁，碳化鎢，碳化硅，聚丙烯，聚碳酸酯，和其混合物。6.根據(jù)前述任一權利要求的牙膏組合物，其中第一制劑中的研磨劑是基于硅石的研磨劑。7.根據(jù)前述任一的權利要求的牙膏組合物，其中第二制劑中的研磨劑是基于硅石的研磨劑。8.根據(jù)前述任一權利要求的牙膏組合物，其中組合物是帶條紋的牙膏組合物并且所述條紋包含第一制劑。9.根據(jù)前述任一權利要求的牙膏組合物，其中當從容器分配時，第一制劑同軸地位于第二制劑之中。全文摘要牙膏組合物，包含當從容器中分配時相互接觸的第一制劑和第二制劑，第一牙膏制劑包含X％重量的研磨劑(A)，所述研磨劑(A)具有致使其光透射率從0到70％的散射中心濃度，并且第二組合物包含重量比0到0.9X的研磨劑(B)，所述研磨劑(B)具有致使其光透射率從0到70％的散射中心濃度。文檔編號A61K8/26GK101394899SQ200780007461公開日2009年3月25日申請日期2007年2月23日優(yōu)先權日2006年3月2日發(fā)明者C·布里諾利,D·P·格里戈里,P·I·賴利申請人:荷蘭聯(lián)合利華有限公司