粉體研磨的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型為一種粉體研磨機(jī)，其包含一研磨裝置，該研磨裝置包含一研磨單元組，其特征在于：該研磨單元組的表面分別具有一隔絕層，以防止該研磨單元組內(nèi)部的組成物釋出。
【專利說(shuō)明】粉體研磨機(jī)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型關(guān)于一種研磨機(jī)，尤指一種粉體研磨機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來(lái)由于生活質(zhì)量的提升，相對(duì)地于工業(yè)水平的要求亦日趨嚴(yán)格，尤其是在環(huán)保意識(shí)抬頭以及食品、藥品制造的GMP標(biāo)準(zhǔn)的制定后，一臺(tái)能符合1.成份2.噪音3.含鐵量(主要來(lái)源是磨輪損耗)4.溫度5.污染等多項(xiàng)嚴(yán)格GMP標(biāo)準(zhǔn)的粉體研磨機(jī)，就顯得格外殷切。
[0003]粉體研磨機(jī)可包含吸送粉裝置、分離裝置、研磨裝置及傳動(dòng)裝置等組件，其運(yùn)作方式主要藉由傳動(dòng)裝置的帶動(dòng)使吸送粉裝置將原料傳送至研磨裝置內(nèi)部。
[0004]研磨裝置主要由外磨輪，以及若干個(gè)設(shè)置于外磨輪內(nèi)側(cè)面的內(nèi)滾輪，以及用以驅(qū)動(dòng)該外磨輪產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)裝置所組成，將原料一一擠入外磨輪及內(nèi)滾輪之間，即可將原料研磨、粉碎。
[0005]而其中所使用的分離裝置利用若干高速旋轉(zhuǎn)的分離葉片產(chǎn)生的渦旋氣流，將抽風(fēng)裝置帶動(dòng)上升的氣流中所夾帶的粉體顆粒藉由離心力作用，使得顆粒較粗的粉體受離心力作用，而向外甩開(kāi)，重新落回到研磨裝置進(jìn)行研磨，而僅容許顆粒較細(xì)的粉體通過(guò)分離裝置，而被粉體收集裝置所收集。
[0006]一臺(tái)設(shè)計(jì)完善的粉體研磨機(jī)必需考慮五大因素:a.扭力，b.離心力c.破壞力，d.溫度，e.噪音。而五種因素間又有密不可分的關(guān)系，當(dāng)馬達(dá)或轉(zhuǎn)動(dòng)軸等傳動(dòng)裝置將能量傳入粉體研磨機(jī)時(shí)，先產(chǎn)生扭力，再由扭力形成離心力，離心力傳達(dá)至研磨裝置后藉由研磨裝置的重力即形成研磨所需的破壞力，以將原料研磨、粉碎，而在產(chǎn)生破壞力的同時(shí)又帶來(lái)了溫度的援升以及噪音的問(wèn)題。各個(gè)因素間環(huán)環(huán)相扣，皆不容忽視。
[0007]而習(xí)知粉體研磨機(jī)的設(shè)計(jì)，其馬達(dá)轉(zhuǎn)速若為固定，所以輸入的扭力也就固定，相對(duì)的其破壞力也就固定，所以輸入的扭力也就固定，相對(duì)地其破壞力也就固定，一旦粉體研磨機(jī)基于某些考慮需提聞廣能時(shí)，惟有提聞馬達(dá)轉(zhuǎn)速以提聞扭力，然而在任意提聞馬達(dá)轉(zhuǎn)速的情形下，過(guò)大的破壞壓力容易使研磨裝置或機(jī)器材資耗損以及溫度的提升。
[0008]一旦，研磨裝置因?yàn)檫\(yùn)作時(shí)間過(guò)久或是馬達(dá)輸入的扭力增加而使得整體溫度過(guò)高時(shí)，高溫會(huì)造成研磨裝置的表面硬度降低，使得研磨質(zhì)量不佳，且于研磨的過(guò)程中，研磨裝置所含的重金屬將會(huì)釋出至研磨中的原料中，使得研磨完成后的粉體中含有重金屬殘留。
[0009]本實(shí)用新型即是考慮到目前粉體研磨機(jī)在其整體施行使用上仍存有改進(jìn)的空間，因此，如何發(fā)展一種可增加研磨裝置的表面硬度及降低重金屬污染的粉體研磨機(jī)，實(shí)為目前迫切需要解決的問(wèn)題。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0010]本實(shí)用新型的主要目的在于提供一種粉體研磨機(jī)，可增加研磨裝置的表面硬度。
[0011]本實(shí)用新型的另一目的在于提供一種粉體研磨機(jī)，可降低重金屬污染。[0012]為了達(dá)到上述的目的，本實(shí)用新型提供一種粉體研磨機(jī)，其包含一研磨裝置，該研磨裝置包含一研磨單元組，其特征在于:該研磨單元組的表面分別具有一隔絕層，以防止該研磨單元組內(nèi)部的組成物釋出。
[0013]上述方案中，其中該隔絕層為一奈米陶瓷鍍膜。
[0014]上述方案中，其中該研磨單元組具有一第一研磨單元，其呈圓盤狀。
[0015]上述方案中，其中該研磨單元組更具有至少一第二研磨單元，其設(shè)置于該第一研磨單元的內(nèi)側(cè)面。
[0016]上述方案中，其中該第二研磨單元沿該第一研磨單元的內(nèi)側(cè)面旋轉(zhuǎn)。
[0017]上述方案中，其中該第一研磨單元及該第二研磨單元的表面均具有該隔絕層。
[0018]上述方案中，其中該組成物為重金屬組成物。
[0019]實(shí)施本實(shí)用新型的有益效果:本實(shí)用新型的粉體研磨機(jī)藉由于研磨裝置的研磨單元組的表面分別設(shè)置一隔絕層，于研磨單元組整體溫度提高時(shí)，藉由隔絕層之間的隔絕，可以增加研磨單元組的表面硬度，以提升研磨質(zhì)量及研磨速度。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0020]下面將結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明，附圖中:
[0021]圖1:其為本實(shí)用新型一較佳實(shí)施例的粉體研磨機(jī)的整體外觀平面視圖。
[0022]圖2:其為圖1的部分結(jié)構(gòu)組合立體圖。
[0023]圖3:其為圖2所示的研磨裝置的立體結(jié)構(gòu)示意圖。
[0024]圖4:其為圖2所示的第二研磨單元的剖面圖。
[0025]【圖號(hào)對(duì)照說(shuō)明】
[0026]粉體研磨機(jī):I
[0027]本體:10
[0028]抽風(fēng)口:101
[0029]研磨裝置:11
[0030]研磨單元組:110
[0031]第一研磨單元:111
[0032]隔絕層:1111、1121
[0033]第二研磨單元:112
[0034]驅(qū)動(dòng)裝置:113
[0035]分離裝置:12
[0036]集粉裝置:13
[0037]抽風(fēng)管:131
[0038]排氣管:132
[0039]鼓風(fēng)機(jī):14
[0040]原料進(jìn)料桶:15。
【具體實(shí)施方式】
[0041]為使對(duì)本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)特征及所達(dá)成的功效有更進(jìn)一步的了解與認(rèn)識(shí)，用以較佳的實(shí)施例及附圖配合詳細(xì)的說(shuō)明，說(shuō)明如下:
[0042]本實(shí)用新型的粉體研磨機(jī)可將欲研磨的原料研磨成為粉體且可防止研磨裝置內(nèi)部的組成物污染該粉體。
[0043]請(qǐng)參閱圖1，其為本實(shí)用新型一較佳實(shí)施例的粉體研磨機(jī)的整體外觀平面視圖，如圖所示，本實(shí)用新型的粉體研磨機(jī)I可包含本體10、研磨裝置11、分離裝置12、集粉裝置13、鼓風(fēng)機(jī)14及原料進(jìn)料桶15，其中，原料進(jìn)料桶15內(nèi)部?jī)?chǔ)存欲研磨的原料，且本體10可概呈圓筒狀結(jié)構(gòu)。
[0044]請(qǐng)參閱圖2并配合圖1,其中圖2為圖1的部分結(jié)構(gòu)組合立體圖,如圖2所示,粉體研磨機(jī)I的研磨裝置11設(shè)置于本體10內(nèi)部的下半段空間內(nèi)，而分離裝置12則設(shè)置于本體10內(nèi)部的上半段空間中，且與研磨裝置11相對(duì)應(yīng)設(shè)置。另外，于本體10的上端部設(shè)置有一個(gè)抽風(fēng)口 101，其與集粉裝置13連接，集粉裝置13具有與抽風(fēng)口 101連接的抽風(fēng)管131，可藉由抽風(fēng)管131將本體10內(nèi)部的空氣從頂端的抽風(fēng)口 101抽出，而將粉體研磨機(jī)I研磨后的粉體吸入到集粉裝置13的中并加以搜集。集粉裝置13另具有一排氣管132，其與設(shè)置于本體10底端的鼓風(fēng)機(jī)14連接。
[0045]當(dāng)本實(shí)用新型的粉體研磨機(jī)I啟動(dòng)時(shí)，鼓風(fēng)機(jī)14將一并啟動(dòng)，并將氣流送入本體10的下部空間之中，然后再?gòu)脑O(shè)置于本體10上方的抽風(fēng)口 101吸出，而構(gòu)成一個(gè)從本體10內(nèi)部空間的底部往上升起的氣流循環(huán)。藉由該向上升起的氣流循環(huán)，即可將研磨裝置11研磨過(guò)的粉體顆粒向上帶起通過(guò)分離裝置12，然后藉由分離裝置12篩選該氣流中的粉體顆粒，使得這些粉體顆粒中，已經(jīng)達(dá)到預(yù)定直徑的粉體顆粒能夠順利通過(guò)分離裝置12，而依序經(jīng)由抽風(fēng)口 101及抽風(fēng)管131被收集至集粉裝置13中。
[0046]至于，尚未到達(dá)預(yù)定直徑大小的較粗粉體顆粒，則被分離裝置12分離開(kāi)來(lái)，并且重新落下到下方的研磨裝置11中重新進(jìn)行研磨。
[0047]請(qǐng)參閱圖3及圖4，其中圖3為圖2所示的研磨裝置的立體結(jié)構(gòu)示意圖，圖4為圖2所示的第二研磨單元的剖面圖,如圖3所示,本實(shí)用新型的研磨裝置11具有一研磨單元組110以及驅(qū)動(dòng)裝置113，研磨單元組110可由一第一研磨單元111及至少一第二研磨單元112所組成，于本實(shí)施例中，第二研磨單元112的數(shù)量可為3個(gè)，但并不以此為限，可依據(jù)實(shí)際需求變更設(shè)計(jì)。
[0048]請(qǐng)?jiān)賲㈤唸D3，于本實(shí)用新型中，第一研磨單元111為呈圓盤狀的外磨輪，而第二研磨單元112則為設(shè)置于第一研磨單元111內(nèi)側(cè)面的內(nèi)滾輪，第二研磨單元112沿第一研磨單元111的內(nèi)側(cè)面旋轉(zhuǎn)，以產(chǎn)生研磨作用，而驅(qū)動(dòng)裝置113則用來(lái)驅(qū)動(dòng)第一研磨單元111產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)，當(dāng)欲研磨的原料擠入第一研磨單元111及第二研磨單元112之間時(shí),第一研磨單元111及第二研磨單元112之間因旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的研磨作用即可將原料研磨、粉碎。
[0049]請(qǐng)?jiān)賲㈤唸D3，第一研磨單元111的外表面具有一隔絕層1111，隔絕層1111可為奈米陶瓷鍍膜，但不以此為限，只要是可達(dá)到防止第一研磨單元111內(nèi)部的組成物，例如:重金屬，釋出的實(shí)施態(tài)樣均為本案所保護(hù)的范圍。
[0050]請(qǐng)?jiān)賲㈤唸D3及圖4，第二研磨單元112的外表面具有一隔絕層1121，隔絕層1121可為奈米陶瓷鍍膜，但不以此為限，只要是可達(dá)到防止第二研磨單元112內(nèi)部的組成物，例如:重金屬，外泄的實(shí)施態(tài)樣均為本案所保護(hù)的范圍。
[0051]一旦，研磨裝置11的研磨單元組110因?yàn)檫\(yùn)作時(shí)間過(guò)久或是驅(qū)動(dòng)裝置113輸入的扭力增加而使得整體溫度提高時(shí)，由于第一研磨單元111的外表面具有一隔絕層1111以及第二研磨單元112的外表面具有一隔絕層1121，藉由隔絕層1111以及隔絕層1121的隔絕，可以增加第一研磨單元111及第二研磨單元112的表面硬度，以提升研磨質(zhì)量及研磨速度，且于研磨的過(guò)程中，第一研磨單元111及第二研磨單元112內(nèi)部所含的組成物，例如:重金屬，更可藉由隔絕層1111以及隔絕層1121的阻隔而防止其外泄至研磨中的原料中，可達(dá)到降低研磨完成后的粉體中重金屬殘留的功效。
[0052]綜上所述，本實(shí)用新型的粉體研磨機(jī)藉由于研磨裝置的研磨單元組的表面分別設(shè)置一隔絕層，于研磨單元組整體溫度提高時(shí)，藉由隔絕層之間的隔絕，可以增加研磨單元組的表面硬度，以提升研磨質(zhì)量及研磨速度。
[0053]應(yīng)當(dāng)理解的是，對(duì)本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，可以根據(jù)上述說(shuō)明加以改進(jìn)或變換，而所有這些改進(jìn)和變換都應(yīng)屬于本實(shí)用新型所附權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種粉體研磨機(jī)，其包含一研磨裝置，該研磨裝置包含一研磨單元組，其特征在于:該研磨單元組的表面分別具有一防止該研磨單元組內(nèi)部的組成物釋出的隔絕層。
2.如權(quán)利要求1所述的粉體研磨機(jī)，其特征在于，其中該隔絕層為一奈米陶瓷鍍膜。
3.如權(quán)利要求1所述的粉體研磨機(jī)，其特征在于，其中該研磨單元組具有一第一研磨單元，其呈圓盤狀。
4.如權(quán)利要求3所述的粉體研磨機(jī)，其特征在于，其中該研磨單元組更具有至少一第二研磨單元，其設(shè)置于該第一研磨單元的內(nèi)側(cè)面。
5.如權(quán)利要求4所述的粉體研磨機(jī)，其特征在于，其中該第二研磨單元沿該第一研磨單元的內(nèi)側(cè)面旋轉(zhuǎn)。
6.如權(quán)利要求4所述的粉體研磨機(jī)，其特征在于，其中該第一研磨單元及該第二研磨單元的表面均具有該隔絕層。
7.如權(quán)利要求1所述的粉體研磨機(jī)，其特征在于，其中該組成物為重金屬組成物。
【文檔編號(hào)】B02C23/32GK203635267SQ201320816511
【公開(kāi)日】2014年6月11日 申請(qǐng)日期:2013年12月11日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月11日
【發(fā)明者】蔡青潭 申請(qǐng)人:孫于婷