專利名稱：一種金屬殼體及其制備方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種金屬殼體及其制備方法，尤其是一種具有漸變色效果的金屬殼體及其制備方法。
背景技術：
隨著生活水平的不斷提高以及手機技術的持續(xù)發(fā)展，人們對手機的外觀要求也越來越高。漸變是一種規(guī)律性很強的現象，這種現象運用在視覺設計中能產生強烈的透視感和空間感，是一種有順序，有節(jié)奏的變化。其獨特的裝飾效果極受消費者的歡迎。目前金屬鍍膜產品顏色雖然豐富，但是單色居多，雖然也有采用多色組合的方法，但是多色界限分明，無法實現過渡漸變效果。為了滿足手機在顏色多樣性的同時擁有絢麗的金屬鍍膜效果，現有技術一般都采用物理氣相沉積工藝在基板上沉積不同的金屬薄膜配合不同顏色的油墨來實現。目前制作漸變膜的通用工藝包括以下步驟在基板上先絲印單色漸變網點，然后在網點表面進行物理氣相沉積工藝，之后在進行絲印有色油墨調整顏色，即得到顏色漸變的產品。另外在蒸鍍方面通過掩膜也可以實現漸變，CN 101608297A公布了一種制作漸變色薄膜的物理氣相沉積工藝，它包括以下步驟1、將需要鍍膜的鍍膜基板置于真空鍍膜室內；2、對真空鍍膜室進行抽空，達到鍍膜要求后，開始采用物理氣相沉積方式鍍膜；3、在對基板進行物理氣相沉積過程中，使用掩膜板以一定速度將所述的基板逐步遮掩直至鍍膜結束ο但是現有的技術制作漸變色鍍膜產品通常存在以下缺點1、蒸鍍結合掩膜雖然可以實現漸變，但是針對真空狀態(tài)下的鍍膜設備，掩膜的應用要求其治具精度高、工藝過程復雜，并且需要對設備進行改造以便實現掩膜的自動化，大大增加了成本，降低了良率，量產難度大。2、絲印和PVD結合的方法同樣存在量產難度大的問題，因為采用先絲印再鍍膜的順序，很容易污染鍍膜的基板表面，造成鍍膜不良或者附著力不良；另外由于絲印的網點與基板表面存在高度差，在鍍具有高透過率的膜層時，膜層厚度會小于網點與基板的高度差， 導致薄膜性能不良，導致生產良率低。

發(fā)明內容
為了克服現有技術中漸變色金屬殼體加工難度大、成本高、漸變效果差的問題，提供一種金屬殼體，其工藝簡單、成本低、具有良好的漸變效果，同時該金屬殼體金屬質感強， 耐磨耐腐蝕性能優(yōu)良。本發(fā)明公開的金屬殼體包括金屬基材以及鍍層，所述金屬基材表面具有漸變紋理，所述鍍層位于該漸變紋理上；所述漸變紋理為孔狀和/或線狀圖紋，所述孔狀圖紋中， 孔直徑的變化梯度為0. 01-2. Omm和/或相鄰孔之間間距的變化梯度為0-2. Omm ；所述線狀圖紋中，線條寬度的變化梯度為0. 01-2. Omm和/或所述相鄰線條之間間距的變化梯度為 0-2. Omm0
同時，本發(fā)明還公開了上述金屬殼體的制備方法，包括對金屬基材表面進行初步漸變處理，使其表面具有前述漸變紋理；然后在所述漸變紋理表面形成鍍層。經過漸變噴砂等機械或化學處理方法處理后的產品表面已經具備了漸變紋理，但是產品表面視覺上漸變感不明顯，甚至有些突兀感，且耐磨耐腐蝕等性能差。通過在具有漸變紋理的金屬基材表面形成鍍層，漸變的效果在鍍層本身的顏色和光的干涉作用下，產品表面具備了明顯的顏色漸變效果，提高了其美觀度、時尚感，同時耐磨耐腐蝕等性能得到大大改善。同時，上述方法工藝簡單，成本低，適合大規(guī)模工業(yè)化應用。
具體實施例方式為了使本發(fā)明所解決的技術問題、技術方案及有益效果更加清楚明白，以下結合實施例，對本發(fā)明進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。本發(fā)明公開的金屬殼體包括金屬基材以及鍍層，所述金屬基材表面具有漸變紋理，所述鍍層位于該漸變紋理上；所述漸變紋理為孔狀和/或線狀圖紋，所述孔狀圖紋中， 孔直徑的變化梯度為0. 01-2. Omm和/或相鄰孔之間間距的變化梯度為0-2. Omm ；所述線狀圖紋中，線條寬度的變化梯度為0. 01-2. Omm和/或所述相鄰線條之間間距的變化梯度為 0-2. Omm0作為本領域技術人員所公知的，漸變是一種規(guī)律性很強的現象，這種現象運用在視覺設計中能產生強烈的透視感和空間感，是一種有順序，有節(jié)奏的變化。漸變的程度太大，速度太快就容易失去漸變所特有的規(guī)律性的效果，給人以不連貫和視覺上的躍動感。反之，如果漸變的程度太慢，會產生重復之感?，F有技術中制備的漸變色殼體的漸變效果較差。本發(fā)明在金屬基材表面通過上述特殊的漸變紋理和鍍層的通過作用大大提高了漸變的效果。本發(fā)明所采用的金屬基材沒有限制，可以為本領域常用的各種金屬基材，例如所述金屬基材選自不銹鋼、鋁合金、鋅合金中的一種或多種，優(yōu)選為不銹鋼。所述金屬基材的厚度對漸變效果沒有特別大的影響，可以在較大范圍內變動，所述金屬基材的厚度為 0. 4-2. Omm,更優(yōu)選為 0. 5-1. 0mm。本發(fā)明公開的金屬基材表面的漸變紋理為孔狀和/或線狀圖紋。上述孔可以為各種形狀的孔，例如圓孔、矩形孔、梯形孔或其他不規(guī)則的孔中的一種或多種。優(yōu)選情況下，所述孔為圓孔和/或不規(guī)則的孔。對于上述孔，其直徑和深度可在較大范圍內變動，優(yōu)選情況下，所述孔的直徑為0. 01-5. 0mm，優(yōu)選為0. 1-2. 0mm。對于圓孔，上述孔的直徑即為金屬基材表面圓的直徑。對于矩形或不規(guī)則的孔，所述孔的直徑可定義為能全部覆蓋所述孔的最小的圓的直徑，例如，對于矩形孔，在本發(fā)明中，其直徑即為該矩形外接圓的直徑。對于本發(fā)明，所述孔直徑的變化梯度為0. 01-2. 0mm，符合該條件分布的孔與鍍層相結合才能產生優(yōu)異的漸變效果。優(yōu)選情況下，所述孔直徑的變化梯度為0.2-0. 5mm。由于用于金屬殼體上， 圖案可以為各個方向上的，所以，上述孔直徑的變化梯度可以定義為某一方向上的相鄰孔之間直徑的差值的變化梯度。例如，依次排列的四個孔的孔徑依次為lmm、2 mm、3 mm、4 mm, 則可認定，這四個孔的直徑的變化梯度為1mm。當各個方向上的變化梯度均在上述范圍內時，效果更佳。
所述相鄰孔之間間距的變化梯度為0-2. Omm,更優(yōu)選為0-1. 0mm。對于孔與孔之間的距離，優(yōu)選情況下，所述相鄰孔之間的間距為0-5. 0mm，更優(yōu)選為0. 5-1. 0mm。上述相鄰孔之間的間距以相鄰孔的邊界之間距離為準，對于不規(guī)則的孔，以相鄰兩個孔之間最短的直線距離為該兩個孔的間距。當相鄰孔之間的間距為0時，即相鄰兩個孔為接觸的狀態(tài)。對于本發(fā)明，當孔直徑的變化梯度、相鄰孔之間間距的變化梯度或者孔直徑的變化梯度和相鄰孔之間間距的變化梯度均在上述范圍內時，即可產生良好的漸變效果。當然， 根據本發(fā)明，當漸變紋理為孔狀圖紋，并且孔直徑相同(即孔直徑的變化梯度為0)，則相鄰孔之間間距的變化梯度不可為0。即所述孔狀圖紋中，孔直徑的變化梯度為0. 01-2. Omm或相鄰孔之間間距的變化梯度大于Omm小于2. Omm或孔直徑的變化梯度為0. 01-2. Omm并且相鄰孔之間間距的變化梯度為0-2. 0mm。優(yōu)選情況下，所述孔的深度為0. 01-0. 3mm,更優(yōu)選為0. 05-0. 2mm。當孔的深度的變化梯度為0. 01-0. 2mm，優(yōu)選為0. 05-0. Imm時，對產生更多彩的漸變圖紋更有利。上述孔的深度的變化梯度以相鄰兩個孔之間深度的差值的變化梯度為準。對于孔與孔之間的距離，優(yōu)選情況下，所述相鄰孔之間的間距為0-5. 0mm，更優(yōu)選為0. 5-1. 0mm。進一步優(yōu)選情況下，所述相鄰孔之間間距的變化梯度為0-2. Omm,更優(yōu)選為 0-1. 0mm。上述相鄰孔之間的間距以相鄰孔的邊界之間距離為準，對于不規(guī)則的孔，以相鄰兩個孔之間最短的直線距離為該兩個孔的間距。當相鄰孔之間的間距為0時，即相鄰兩個孔為接觸的狀態(tài)。對于線狀圖紋，要求其線條寬度的變化梯度為0. 01-2. 0mm，優(yōu)選為0. 05-1. 0mm。 相鄰線條之間間距的變化梯度為0-2. Omm,優(yōu)選為0-0. 2mm。對于線狀圖紋，當存在上述一種情形時即可產生良好的漸變效果。值得注意的是，當線狀圖紋中，線條寬度相同時，相鄰線條之間間距的變化梯度不可為0。即，對于線狀圖紋，線條寬度的變化梯度為 0. 01-2. Omm或相鄰線條之間間距的變化梯度大于Omm小于2. Omm或者線條寬度的變化梯度為0. 01-2. Omm并且相鄰線條之間間距的變化梯度為0_2. 0mm。同樣，上述相鄰線條之間間距的變化梯度定義為相鄰線條之間間距的差值的變化梯度。對于上述線狀圖紋，其中，線條的寬度為0. 01-5. 0mm，優(yōu)選為0. 1-2. 0mm。與孔狀圖紋類似，為了獲得色彩效果更好的漸變效果，優(yōu)選情況下，線條的深度為 0. 01-0. 3mm，更優(yōu)選為0. 05-0. Imm0其中，當線條深度的變化梯度為0. 01-0. 2mm，尤其是變化梯度為0.05-0. Imm時，效果更好。上述寬度和深度的變化梯度可以定義為相鄰線條之間寬度和深度的差值的變化梯度。對于上述線狀圖紋，其中線條之間的距離可以在較大范圍內變動，優(yōu)選情況下，所述相鄰線條之間的間距為0. 01-5. 0mm，更優(yōu)選為0. 5-1. 0mm。當金屬基材表面具有上述漸變紋理后，并不足以產生優(yōu)美的漸變效果，根據本發(fā)明，還需要在其表面形成一鍍層，通過該鍍層與上述漸變紋理的共同作用，即可產生絢麗的漸變效果。對于上述鍍層，可以采用現有的各種鍍層，例如所述鍍層可以選自氮化鉻、氮化鈦、碳化鈦、氮鋁化鈦中的一種或多種。對于鍍層的厚度，沒有太大限制。但是，發(fā)明人發(fā)現， 當鍍層的厚度為0. 001-0. 02mm，尤其是厚度為0. 003-0. Olmm時，通過該鍍層的光學作用， 與前述的漸變紋理相結合，對產生優(yōu)美的漸變效果更為有利。
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根據本發(fā)明，還公開了上述金屬殼體的制備方法，包括對金屬基材表面進行初步漸變處理，使其表面具有前述的漸變紋理；然后在所述漸變紋理表面形成鍍層。對于上述初步漸變處理，可以采用多種方式進行，例如漸變噴砂、漸變拉絲、漸變激光蝕刻、漸變化學蝕刻、漸變鉆雕中的一種或多種。上述各種方法本身為現有的方法，只需通過改變方法的條件，使其能在金屬基材表面產生前述的漸變紋理即可。例如，所述漸變噴砂的方法為固定噴砂的壓力，使金屬基材加速或減速通過噴砂區(qū)域或者固定金屬基材的傳送速度，逐步增加或減小噴砂的壓力或者使金屬基材加速或減速通過噴砂區(qū)域并逐步增加或減小噴砂的壓力。具體的，優(yōu)選情況下，所述漸變噴砂的方法為設定噴砂壓力為1. 5-3. OPa，使金屬基材以0. 001-0. 01m/s的加速度通過噴砂區(qū)域。漸變噴砂是通過設置傳送履帶的速度控制程序，使產品的步進速度在一個傳送周期內，按照設定的加速度通過噴砂區(qū)域，速度的變化導致產品表面的各個區(qū)域處在噴砂范圍內的時間隨著變化，于是不同區(qū)域的表面被砂粒轟擊的程度也不同，從而在產品表面形成有序的漸變紋理。另外也可以通過改變轟擊在產品表面區(qū)域的力來實現漸變噴砂紋理， 例如設定噴砂機在一個周期內的初始壓力和最終壓力，隨著壓力按照設定的步長遞增或遞減，產品緩慢經過噴砂通道時，其表面受到的轟擊力也就呈現遞增或遞減的狀態(tài)，從而形成漸變紋理。所述漸變拉絲方法為選用絲與絲之間的間距和硬度都不同的絲輪對金屬基材表面進行拉絲處理；漸變激光蝕刻或漸變鉆雕的方法為將具有漸變效果的圖案編輯成程序，將程序導入激光雕刻機或鉆雕設備，在程序的控制下，通過激光或刀具在產品的表面完成雕刻或鉆雕，從而產生出漸變紋理。所述漸變化學蝕刻方法為制備具有漸變圖案的菲林，然后在金屬基材表面噴涂抗蝕刻感光油墨并固化，然后使用具有漸變圖案的菲林對其進行遮蔽并曝光，然后進行顯影、蝕刻。優(yōu)選情況下，所述漸變化學蝕刻方法為制備具有漸變圖案的菲林，然后在金屬基材表面噴涂抗蝕刻感光油墨，并于80-100°C烘烤固化15-20min，然后使用具有漸變圖案的菲林對其進行遮蔽，并于250-400mj/cm2的紫外線中曝光20_30s ；經顯影液顯影后在蝕刻液中刻蝕10-20min，最后除去殘留的油墨。通過上述方法在金屬基材表面形成漸變紋理后，對漸變紋理表面進行清理，然后即可在其表面形成鍍層。形成鍍層的具體方法可以為現有技術中的各種常用方法，例如電鍍、陽極氧化、物理氣相沉積、電泳或微弧氧化。優(yōu)選為在所述漸變紋理表面形成鍍層的方法為物理氣相沉積。上述物理氣相沉積的方法沒有太大限制，優(yōu)選情況下，所述物理氣相沉積的方法為將表面具有漸變紋理的金屬基材表面進行清洗，然后放置于在7.0X10—3帕以下的真空條件中，充入氬氣調節(jié)真空壓力為2. O X 10^-5. O X IO"1帕，進行多弧活化，偏壓200-600 伏，占空比30-75%，時間10-30min ；然后繼續(xù)充入氬氣，調節(jié)真空室壓力為0. 4-1.0帕，溫度調節(jié)為80-200°C;啟動靶材，第一階段電源功率為恒定值5-18千瓦，偏壓電源的偏壓為 100-300伏，占空比為15-75%，時間為10-40分鐘；第二階段電源功率為恒定值5_18千瓦， 偏壓電源的偏壓為100-200伏，占空比15-75%，通入反應氣，反應氣流量為10-200sccm，時間為20-80分鐘；然后關閉鉻靶、偏壓電源并停止通入反應氣，自然冷卻至80°C以下。C。
通過上述方法即可在漸變紋理表面形成上述鍍層，得到本發(fā)明公開的具有優(yōu)美漸變效果的金屬殼體。下面通過實施例對本發(fā)明進行進一步的說明。實施例1
本實施例用于說明本發(fā)明公開的金屬殼體及其制備方法。根據產品預期效果設置好傳送履帶的速度控制程序，在一個傳送周期20s內，采用2帕的噴砂壓力并按照加速度為0. 005m/s改變傳送的速率來控制厚度為0. 5mm的鋁合金的步進速度，使鋁合金表面的各個區(qū)域處在噴砂范圍內的時間為遞增的，因此不同區(qū)域的表面被砂轟擊的程度也不同，從而在鋁合金表面形成有序的漸變紋理。其中在基板上共形成了 5個漸變區(qū)域，顏色由暗到亮漸變，該漸變紋理為孔狀圖紋，其中，所述孔的直徑為 0.01mm，且在橫向的孔直徑相同，第一區(qū)域到第五區(qū)域相鄰孔之間間距以0. 005mm的梯度遞增。五個區(qū)域內孔的深度為0.01mm。將漸變噴砂處理后的產品進行清洗，之后放置真空室內的轉架上。啟動真空泵抽真空，使真空室壓力為7. OX 10_3帕。向真空室充入氬氣調節(jié)真空壓力為l.SXKT1帕，啟動多弧控制電源進行多弧活化，其中電流為210安培，偏壓420伏，占空比45%，時間20分鐘。關閉多弧控制電源，繼續(xù)充入氬氣，調節(jié)真空室壓力為0. 8帕，溫度調節(jié)為120度。 啟動鉻靶，第一階段電源功率為恒定值12千瓦，偏壓電源的偏壓為200伏，占空比為35%， 時間為10分鐘；第二階段電源功率為恒定值10千瓦，偏壓電源的偏壓為200伏，占空比 55%，通入氮氣，氮氣流量為lOOsccm，時間為20分鐘。然后關閉鉻靶、偏壓電源并停止通入氮氣，自然冷卻至80°C時取出工件，在工件表面形成CrN，膜層厚度為3微米。得到具有銀白色漸變效果膜層的金屬殼體Si。實施例2
本實施例用于說明本發(fā)明公開的金屬殼體及其制備方法。將厚度為1. 5mm的不銹鋼表面清洗干凈后，在整個表面上噴涂抗蝕刻感光油墨， 于80°C烘烤固化15min，然后取出不銹鋼，使用具有漸變圖案的菲林對其表面進行遮蔽并放入UV曝光機中曝光20s，曝光能量為250mj/cm2。曝光結束后用l%Na2C03溶液顯影，除去未曝光部分的油墨，讓不銹鋼表面需要被刻蝕的地方裸露在蝕刻液中刻蝕15min，蝕刻結束后用脫漆劑或2mol/L的NaOH溶液將曝光后留在鋁合金表面上的油墨去除，于是在不銹鋼表面的蝕刻紋路就形成了菲林圖案上的漸變效果。該漸變紋理為圓孔狀圖紋，其中，在橫向的孔直徑的變化梯度為0. 2mm,孔深度在橫向的變化梯度為0. 03mm。相鄰孔之間的間距為 0. 6mm，相鄰孔之間間距在橫向的變化梯度為Omm。將初步漸變處理后的不銹鋼進行清洗，之后放置真空室內的轉架上。啟動真空泵抽真空，使真空室壓力為7. OX 10_3帕。向真空室充入氬氣調節(jié)真空壓力為3. OX KT1帕，啟動多弧控制電源進行多弧活化，其中電流為200安培，偏壓480伏，占空比40%，時間20分鐘。關閉多弧控制電源，繼續(xù)充入氬氣，調節(jié)真空室壓力為0. 6帕，溫度調節(jié)為120度。 啟動鈦靶，第一階段電源功率為恒定值16千瓦，偏壓電源的偏壓為200伏，占空比為50%， 時間為10分鐘；第二階段電源功率為恒定值14千瓦，偏壓電源的偏壓為200伏，占空比40%，通入乙炔氣體，氮氣流量為40sCCm，步長為60秒，時間為50分鐘。然后關閉鈦靶、偏壓電源并停止通入乙炔氣體，自然冷卻至60°C時取出工件，在工件表面形成TiC，膜層厚度 4微米。得到具有黑色漸變效果膜層的金屬殼體S2。實施例3
本實施例用于說明本發(fā)明公開的金屬殼體及其制備方法。根據要求制作漸變色效果圖，將圖案編輯為相應的程序，將程序導入激光雕刻機， 在程序的控制下，通過激光在厚度為Imm的鋅合金的表面完成雕刻，就會產生出漸變紋理。 該漸變紋理為線狀圖紋，其中，在橫向的線條寬度變化梯度為0. 15mm，線條深度在橫向的變化梯度為0. 02mm。相鄰線條之間間距在橫向的變化梯度為0. 05mm。將漸變激光蝕刻處理后的鋅合金進行清洗，之后放置真空室內的轉架上。啟動真空泵抽真空，使真空室壓力為7. OX 10_3帕。向真空室充入氬氣調節(jié)真空壓力為2. 5X KT1帕，啟動多弧控制電源進行多弧活化，其中電流為190安培，偏壓450伏，占空比40%，時間15分鐘。關閉多弧控制電源，繼續(xù)充入氬氣，調節(jié)真空室壓力為0. 5帕，溫度調節(jié)為100度。 啟動鈦靶，第一階段電源功率為恒定值14千瓦，偏壓電源的偏壓為200伏，占空比為45%， 時間為10分鐘；第二階段電源功率為恒定值12千瓦，偏壓電源的偏壓為150伏，占空比 65%，通入氮氣，氮氣流量為12kccm，時間為50分鐘。然后關閉鈦靶、偏壓電源并停止通入氮氣，自然冷卻至80°C時取出工件，在工件表面形成TiN，膜層厚度為5微米。得到具有淺金黃色漸變效果膜層的金屬殼體S3。性能測試
權利要求
1.一種金屬殼體，包括金屬基材以及鍍層，所述金屬基材表面具有漸變紋理，所述鍍層位于該漸變紋理上；所述漸變紋理為孔狀和/或線狀圖紋，所述孔狀圖紋中，孔直徑的變化梯度為0. 01-2. Omm和/或相鄰孔之間間距的變化梯度為0_2. Omm ；所述線狀圖紋中，線條寬度的變化梯度為0. 01-2. Omm和/或相鄰線條之間間距的變化梯度為0_2. 0mm。
2.根據權利要求1所述的金屬殼體，其特征在于，所述孔狀圖紋中，孔的直徑為 0. 01-5. Omm ；孔的深度為0. 01-0. 3mm，相鄰孔之間的間距為0_5. 0mm。
3.根據權利要求1或2所述的金屬殼體，其特征在于，所述孔狀圖紋中的孔為圓孔和/ 或不規(guī)則的孔。
4.根據權利要求1所述的金屬殼體，其特征在于，所述孔狀圖紋中，孔深度的變化梯度為 0. 01-0. 2mm。
5.根據權利要求1所述的金屬殼體，其特征在于，所述線狀圖紋中，線條的深度為 0. 01-0. 3mm ；所述線條深度的變化梯度為0. 01-0. 2mm。
6.根據權利要求1所述的金屬殼體，其特征在于，所述線狀圖紋中，線條的寬度為 0. 01-5. 0mm。
7.根據權利要求1所述的金屬殼體，其特征在于，所述線狀圖紋中，相鄰線條之間的間距為 0. 01-5. 0mm。
8.根據權利要求1所述的金屬殼體，其特征在于，所述金屬基材的厚度為0.4-2. Omm ； 鍍層的厚度為0. 001-0. 02mm。
9.根據權利要求1或8所述的金屬殼體，其特征在于，所述金屬基材選自不銹鋼、鋁合金、鋅合金中的一種或多種；所述鍍層選自氮化鉻、氮化鈦、碳化鈦、氧化鈦、氮鋁化鈦中的一種或多種。
10.一種如權利要求1所述的金屬殼體的制備方法，包括對金屬基材表面進行初步漸變處理，形成所述漸變紋理；然后在所述漸變紋理表面形成鍍層。
11.根據權利要求10所述的制備方法，其特征在于，所述初步漸變處理的方法為漸變噴砂、漸變拉絲、漸變激光蝕刻、漸變化學蝕刻、漸變鉆雕中的一種或多種。
12.根據權利要求11所述的制備方法，其特征在于，所述漸變噴砂的方法為固定噴砂的壓力，使金屬基材加速或減速通過噴砂區(qū)域或者固定金屬基材的傳送速度，逐步增加或減小噴砂的壓力或者使金屬基材加速或減速通過噴砂區(qū)域并逐步增加或減小噴砂的壓力。
13.根據權利要求11或12所述的制備方法，其特征在于，所述漸變噴砂的方法為設定噴砂壓力為1. 5-3. 0帕，使金屬基材以0. 001-0. 01m/s的加速度通過噴砂區(qū)域。
14.根據權利要求11所述的制備方法，其特征在于，所述漸變拉絲方法為選用絲與絲之間的間距和硬度都不同的絲輪對金屬基材表面進行拉絲處理；漸變激光蝕刻或漸變鉆雕的方法為將具有漸變效果的圖案編輯成程序，將程序導入激光雕刻機或鉆雕設備，在程序的控制下，通過激光或刀具在產品的表面完成雕刻或鉆雕，從而產生出漸變紋理。
15.根據權利要求11所述的制備方法，其特征在于，所述漸變化學蝕刻方法為制備具有漸變圖案的菲林，然后在金屬基材表面噴涂抗蝕刻感光油墨并固化，然后使用具有漸變圖案的菲林對其進行遮蔽并曝光，然后進行顯影、蝕刻。
16.根據權利要求11或15所述的制備方法，其特征在于，所述漸變化學蝕刻方法為 制備具有漸變圖案的菲林，然后在金屬基材表面噴涂抗蝕刻感光油墨，并于80-100°C烘烤固化15-20min，然后使用具有漸變圖案的菲林對其進行遮蔽，并于250-400mj/cm2的紫外線中曝光20-30s ；經顯影液顯影后在蝕刻液中刻蝕10-20min，最后除去殘留的油墨。
17.根據權利要求10所述的制備方法，其特征在于，在所述漸變紋理表面形成鍍層的方法為物理氣相沉積。
18.根據權利要求10或17所述的制備方法，其特征在于，將表面具有漸變紋理的金屬基材表面進行清洗，然后放置于在7. 0 X ΙΟ"3帕以下的真空條件中，充入氬氣調節(jié)真空壓力為2. OX 10、5· OX KT1帕，進行多弧活化，偏壓200-600伏，占空比30-75%，時間10_30min ； 然后繼續(xù)充入氬氣，調節(jié)真空室壓力為0. 4-1. 0帕，溫度調節(jié)為80-20(TC ；啟動靶材，第一階段電源功率為恒定值5-18千瓦，偏壓電源的偏壓為100-300伏，占空比為15-75%，時間為10-40分鐘；第二階段電源功率為恒定值5-18千瓦，偏壓電源的偏壓為100-200伏，占空比15-75%，通入反應氣，反應氣流量為10-200SCCm，時間為20-80分鐘；然后關閉鉻靶、偏壓電源并停止通入反應氣，自然冷卻至80°C以下時取出工件。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種金屬殼體及其制備方法。該金屬殼體包括金屬基材以及鍍層，所述金屬基材表面具有漸變紋理，所述鍍層位于該漸變紋理上；所述漸變紋理為孔狀和/或線狀圖紋，所述孔狀圖紋中，孔直徑的變化梯度為0.01-2.0mm和/或相鄰孔之間間距的變化梯度為0-2.0mm；所述線狀圖紋中，線條寬度的變化梯度為0.01-2.0mm和/或相鄰線條之間間距的變化梯度為0-2.0mm。該金屬殼體的制備工藝簡單、成本低、具有良好的漸變效果，同時該金屬殼體金屬質感強，耐磨耐腐蝕性能優(yōu)良。
文檔編號H05K5/04GK102480533SQ20101055977
公開日2012年5月30日 申請日期2010年11月26日 優(yōu)先權日2010年11月26日
發(fā)明者鄒凌云, 郭麗芬, 陳云 申請人:比亞迪股份有限公司