專利名稱：烹飪裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及介電加熱待加熱物體的炊具。
背景技術：
因為一般為微波加熱裝置的微波爐能夠直接加熱作為待加熱物體的食物，它由于 不需要準備鍋或者鐵罐的簡單性而變?yōu)樯钪胁豢扇鄙俚脑O備。如今，流行的微波爐是這 樣的，即其中在傳送微波的加熱室中容納食物的空間的尺寸具有大約300至400毫米的寬 度尺寸和深度尺寸以及大約200毫米的高度尺寸。近年來，產(chǎn)品正在被推向實用，其中加熱室具有這樣的形狀，即容納食物的空間的 底部表面是平的，寬度尺寸設置為400毫米或以上以比深度尺寸相對更大，并且寬度大，這 提高便利性，因為可以安置和加熱多個碟子。此外，隨著微波爐的多功能化，微波爐正在被引向具有除了現(xiàn)有的所謂的“加熱功 能”(高頻波加熱，其通過輻射到食物上的輻射微波加熱食物)之外的“烘烤功能”的市場。 烘烤功能包括用于升高盛放食物所在的加熱板的溫度的裝置，從而經(jīng)由加熱盤加熱食物； 用于通過加熱的加熱器加熱食物的裝置；或者通過這些方法的組合通過直接火焰類型(進 行烹飪的烹飪精加工以使得內(nèi)部多汁而外部松脆)烹飪食物的功能。在現(xiàn)有技術中，如圖22的傳統(tǒng)的高頻波加熱裝置的構型圖所示，這種類型的高頻 波加熱裝置300包括波導管303，其傳輸從作為典型的微波產(chǎn)生裝置的磁控管302輻射出 的微波；加熱室301 ；盛放臺306，其固定在加熱室301中用于盛放食物(未示出)，其中食 物為典型的待加熱的物體并且具有微波能夠容易地穿過其中的屬性，因為盛放臺是由低損 耗的介電材料例如陶瓷或者玻璃制成；天線空間310，其形成在加熱室301中的盛放臺306 的下面；轉動天線305，其附著到加熱室301的中心附近并從波導管303跨到天線空間310 以為了將波導管303中的微波輻射到加熱室301中；用作典型的驅動裝置的電機304，其能 夠驅使轉動天線305轉動；加熱盤308，其取決于應用而安裝在加熱室301中；盤接收部分 307，其支撐加熱盤308 ；以及加熱器309，其執(zhí)行電加熱。在加熱功能的情形下，其中待加熱的物體是通過高頻波加熱直接加熱和保溫的， 高頻波加熱處理通過盛放在盛放臺306上的食物等執(zhí)行。從磁控管302輻射的微波通過波 導管303暫時吸收在轉動天線305中，然后，微波從轉動天線305的輻射部分的上表面向著 加熱室301輻射。此時，通常，為了均勻攪動加熱室301中的微波，轉動天線305以恒定速 度轉動的同時輻射微波。此外，在烘烤功能的情形下，其中執(zhí)行直接火焰類型烹飪，食物(例如，無骨雞腿、 魚等)盛放在加熱盤308上，加熱盤布置在盤接收部分307上。在該狀態(tài)下，食物的表面部 分通過位于食物上方的加熱器309加熱處理。另一方面，食物的后表面部分通過加熱盤308 加熱處理，其中加熱盤的溫度已經(jīng)通過微波升高。在加熱和烹飪中，其中微波聚集在食物上，食物內(nèi)部的濕氣由于微波的屬性的原 因而過度散失。相反，在通過加熱器和加熱盤加熱食物的過程中，食物可以通過所謂的直接火焰類型的精加工而精加工以使得食物的表面松脆而濕氣或者味道包裹在食物內(nèi)部(參 照專利文獻1)。[專利文獻 1] JP-A-2004-071216

發(fā)明內(nèi)容
技術問題在專利文獻1中公開的傳統(tǒng)的高頻波加熱裝置中，假定，在保溫功能的情形下，加 熱盤308移除，盛放在盛放臺306上的食物等通過微波加熱處理，并且在烘烤功能的情形 下，加熱盤308的溫度通過微波在其中食物等沒有盛放在盛放臺306上的狀態(tài)下升高，并且 盛放在加熱盤308上的食物的后表面部分被加熱處理。也就是，傳統(tǒng)的高頻波加熱裝置不 是基于對盛放在盛放臺306和加熱盤308上的食物等執(zhí)行加熱處理的構思而發(fā)明的，而是 基于對要么盛放在盛放臺306要么盛放在加熱盤308上的食物執(zhí)行加熱處理的構思而發(fā)明 的。如果試圖通過微波在食物等盛放在盛放臺306上的情形下升高加熱盤308的溫 度，從盛放臺306下方輻射的微波將被吸收和散射，并且由于盛放在盛放臺306上的食物等 而傳送，這樣，不同于其中食物等并不盛放在盛放臺306上的狀態(tài)，加熱盤308的溫度不能 充分升高。本發(fā)明是在考慮了上述情形而進行的，本發(fā)明的目的是提供一種炊具，該炊具能 夠適于在待加熱物體盛放的狀態(tài)下，或者甚至在其中待加熱的物體僅盛放在也用作加熱室 的底部表面的盛放臺上的狀態(tài)下(在此及后，對僅盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放 臺上的待加熱物體執(zhí)行的加熱處理稱作正常功能)，或者設置在其中待加熱物體分別盛放 在也用作加熱室的底部表面的盛放臺和加熱盤上的狀態(tài)下(在此及后，對盛放在也用作加 熱室的底部表面的盛放臺和加熱盤二者上的待加熱物體執(zhí)行的加熱處理稱為上下組合功 能)執(zhí)行加熱處理。技術方案本發(fā)明的炊具包括加熱室，其中待加熱物體盛放在也用作其底部表面的盛放臺 上；可拆卸加熱盤，其可拆卸地設置在加熱室內(nèi)部并且不同于所述待加熱物體的待加熱物 體盛放在其上；產(chǎn)生微波的高頻波供應裝置；輻射由高頻波供應裝置產(chǎn)生的微波的天線； 以及控制待加熱物體的加熱處理的控制裝置，其中該控制裝置控制天線以開關用于待加熱 物體的微波輻射控制以使得微波輻射控制對于其中至少一個待加熱物體盛放在也用作加 熱室的底部表面的盛放臺上的情形和其中至少一個待加熱物體盛放在加熱室的盛放臺和 加熱盤的每一個上的情形變得不同，并且在待加熱物體的加熱完成之后停止操作。有益技術效果根據(jù)本發(fā)明的炊具，可以執(zhí)行適于其中盛放待加熱物體的狀態(tài)下的加熱處理，要 么是其中待加熱物體僅盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放臺上的狀態(tài)下，要么是其中 待加熱物體分別盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放臺和加熱盤上的狀態(tài)下。


圖1示出當本發(fā)明的實施例的炊具從前面部分(其中安置用于可視地認知加熱室內(nèi)部的透明窗的表面)觀看時的構型的例子。圖2是當本發(fā)明的實施例的炊具從左到右(向著炊具的前面部分的左和右方向) 剖開時的截面視圖。圖3是當本發(fā)明的實施例的炊具的頂部表面的頂板在頂部表面方向剖開的截面 視圖。圖4是示出蒸汽相對于光波長吸收光的比率的圖表。圖5是當本發(fā)明的實施例的炊具在前后方向(從炊具的前面部分向著加熱室的深 度側面的方向)剖開的截面視圖。圖6是在本發(fā)明的實施例的炊具中加熱盤的構型圖。圖7是在本發(fā)明的實施例的炊具的旋轉天線附近的詳細的構型圖(從前部觀看的 截面視圖)。圖8是沿著圖7的B-B’剖開的炊具的截面視圖。圖9示出本發(fā)明的實施例的炊具的旋轉天線的取向的例子。圖10示出本發(fā)明的實施例的炊具的旋轉天線的取向的例子。圖11示出本發(fā)明的實施例的炊具的旋轉天線的取向的例子。圖12示出本發(fā)明的實施例的炊具的旋轉天線的取向的例子。圖13示出本發(fā)明的實施例的炊具的旋轉天線的取向的例子。圖14是沿著圖7的D-D’剖開的炊具的截面視圖。圖15是本發(fā)明的實施例的炊具中的紅外傳感器10的構型圖。圖16是示出圖7的C-C’截面中的紅外溫度檢測點的視圖。圖17是用于解釋本發(fā)明的實施例中的紅外溫度檢測點的炊具的截面視圖(前視 圖)。圖18是示出本發(fā)明的實施例的炊具的構型的功能框圖。圖19是示出通過本發(fā)明的實施例的炊具進行的加熱處理的概況的流程圖。圖20是通過本發(fā)明的實施例的炊具進行的上下組合功能的流程圖。圖21是通過本發(fā)明的實施例的炊具進行的正常功能的流程圖。圖22是傳統(tǒng)的高頻波加熱裝置的構型圖。
具體實施例方式附圖標記說明11 加熱室Ila 也用作加熱室的底部表面的盛放臺12 食物20 紅外線產(chǎn)生裝置21 氬加熱器30 加熱盤40 高頻波產(chǎn)生裝置41 磁控管42 波導管
43 旋轉天線炊具的一個方面包括加熱室，其中待加熱物體盛放在也用作其底部表面的盛放 臺上；可拆卸加熱盤，其可拆卸地設置在加熱室內(nèi)部并且不同于前述待加熱物體的待加熱 物體盛放在其上；產(chǎn)生微波的高頻波供應裝置；輻射由高頻波供應裝置產(chǎn)生的微波的天 線；以及控制待加熱物體的加熱處理的控制裝置，其中該控制裝置控制天線以開關用于待 加熱物體的微波輻射控制使得微波輻射控制對于其中至少一個待加熱物體盛放在也用作 加熱室的底部表面的盛放臺上的情形和其中至少一個待加熱物體盛放在加熱室的盛放臺 和加熱盤的每一個上的情形變得不同，并且在待加熱物體加熱完成之后停止操作。通過這樣的構型，即使在其中待加熱物體僅盛放在也用作加熱室的底部表面的盛 放臺上的狀態(tài)下，或者在其中待加熱物體盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放臺和加熱 盤二者上的狀態(tài)下，都可以執(zhí)行適于其中盛放有待加熱物體的狀態(tài)的加熱處理。本發(fā)明的炊具的一個方面還包括供熱裝置，該供熱裝置通過不同于微波加熱的熱 輻射加熱盛放在加熱盤上的待加熱物體，其中當?shù)谝淮訜嵛矬w盛放在也用作加熱室的底 部表面的盛放臺上并且第二待加熱物體盛放在加熱盤上時，控制裝置執(zhí)行控制以開關通過 微波的加熱和通過供熱裝置的熱輻射以加熱第一待加熱物體和第二待加熱物體。通過該構型，盛放在加熱盤上的待加熱物體能夠通過由微波輻射進行的加熱和由 不同于由微波輻射進行的加熱的熱輻射加熱而進行加熱。本發(fā)明的炊具的一個方面還包括控制裝置執(zhí)行控制以在微波輻射到第一待加熱 物體、第二待加熱物體和加熱盤之后通過供熱裝置加熱第二待加熱物體。通過該構型，在也用作加熱室的底部表面的盛放臺上的第一待加熱物體和加熱盤 或者盛放在加熱盤上的第二待加熱物體在盛放在加熱盤上的待加熱物體通過輻射熱加熱 之前通過微波同時加熱，以使得與第一待加熱物體和第二待加熱物體被獨立加熱時的總時 間相比時間能夠縮短。本發(fā)明的炊具的一個方面還包括供熱裝置包括光學加熱器，并且控制裝置執(zhí)行 控制以使得通過光學加熱器加熱待加熱的第二待加熱物體。通過該構型，盛放在加熱盤上的待加熱物體能夠更加快速和均一地加熱和變?yōu)楹?色。本發(fā)明的炊具的一個方面還包括光學加熱器是能透過蒸汽的加熱器。通過該構型，當能夠傳輸通過蒸汽的光(特別地，紅外光)直接輻射到待加熱物體 的表面上時，盛放在加熱盤上的待加熱物體的表面能夠被精加工為松脆的，其僅取決于加 熱室中的一些蒸汽。本發(fā)明的炊具的一個方面還包括操作單元，該操作單元選取其中至少一個待加熱 物體盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放臺上的正常功能和其中至少一個待加熱物體 盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放臺和加熱盤的每一個上的上下組合功能之一，其中 控制裝置控制天線以開關用于待加熱物體的微波輻射控制，以使得基于從指定待加熱物體 盛放的位置的操作單元接收的信息微波輻射控制變得不同。通過該構型，即使要么在其中待加熱物體僅盛放在也用作加熱室的底部表面的盛 放臺上的狀態(tài)下，或者其中待加熱物體盛放在也用作加熱室底部表面的盛放臺和加熱盤二 者上的狀態(tài)下，都可以執(zhí)行適于其中盛放有待加熱物體的狀態(tài)的加熱處理。進一步地，當炊具配置為以使得上下組合菜單通過輸入指定待加熱物體類型(菜單)的識別信息而執(zhí)行 時，用戶可以從伴隨上下組合菜單的復雜的輸入操作解脫出來。本發(fā)明的炊具的一個方面還包括控制裝置基于從操作單元接收的關于盛放在也 用作加熱室的底部表面的盛放臺上的第一待加熱物體和盛放在加熱盤上的第二待加熱物 體的信息控制具有高輻射方向性的天線的一部分的取向，并且在第一和第二待加熱物體的 加熱完成之后停止操作。通過該構型，即使在其中待加熱物體盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放臺上 的狀態(tài)下，加熱盤的溫度也能夠通過微波有效升高，并且盛放在加熱盤上的待加熱物體也 能夠通過微波有效加熱。這允許在其中待加熱物體盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放 臺和加熱盤上的狀態(tài)下開始加熱處理即上下加熱的新型的烹飪方法以使得由加熱盤隔開 的上下空間在一個處理中進行加熱，先前的烹飪方法并非如此。本發(fā)明的炊具的一個方面還包括控制裝置控制具有高輻射方向性的天線的一部 分的取向以使得當通過微波進行的加熱處理在第一待加熱物體上執(zhí)行時微波輻射到第一 待加熱物體，并且當加熱處理在第二待加熱物體上執(zhí)行時微波輻射待第二待加熱物體或者 加熱盤。通過該構型，在其中具有高輻射方向性的一部分旋轉天線所面對的方向沒有待加 熱物體。相應地，從旋轉天線輻射的微波能夠以最小衰減抵達加熱盤，從而升高加熱盤的溫 度，并以最小衰減地加熱盛放在加熱盤上的待加熱物體。本發(fā)明的炊具的一個方面還包括控制裝置控制具有高輻射方向性的天線的一部 分的取向以使得當微波輻射到第二待加熱物體時微波輻射到加熱盤的周邊部分。通過該構型，在其中具有高輻射方向性的一部分旋轉天線所面對的方向沒有待加 熱物體。相應地，從旋轉天線輻射的微波能夠透過加熱盤的周邊部分，從而以最小衰減地加 熱盛放在加熱盤上的待加熱物體。本發(fā)明的炊具的一個方面還包括加熱盤包括高頻波吸收器。通過該構型，高頻波吸收器吸收微波從而具有高溫，并且盛放在加熱盤上的待加 熱物體能夠從也用作加熱室的底部表面的盛放臺進行加熱。本發(fā)明的炊具的一個方面還包括蒸汽供應裝置，該蒸汽供應裝置通過蒸汽加熱待 加熱物體，其中控制裝置進行控制以通過蒸汽供應裝置加熱第一待加熱物體或第二待加熱 物體。通過該構型，待加熱的物體的表面能夠被防止燒焦同時促進待加熱物體內(nèi)部的溫 度升高。此外，因為適當?shù)臐穸葢玫剿霰砻?，待加熱物體的表面被蒸汽包裹，物體內(nèi)部 的濕氣難以逃離。結果，可以執(zhí)行其中表面被烘焙為松脆的而內(nèi)部為多汁的烹飪。在此及后，將參照附圖描述本發(fā)明的實施例。此外，本發(fā)明并于限于下面將要描述 的實施例。首先，將描述本發(fā)明的實施例的炊具的外觀的例子。圖1示出當從前表面(其中 設置用于可視地認知加熱室內(nèi)部的透明窗70的表面)觀看本發(fā)明的實施例的炊具時的構 型例子。用于可視地認知加熱室11內(nèi)部的透明窗70和操作面板23設置在炊具100的前 表面上。操作面板23設置有指示開始加熱的開始開關26、指示加熱結束的取消開關24、指 示使用正常菜單還是上下組合菜單用于加熱的烹飪方法的開關25、顯示單元27和用于選
8擇預先準備的烹飪程序或者執(zhí)行手工操作的刻度盤59。這樣，操作面板23設置在易于可視 地認知加熱室11內(nèi)部的位置上，以使得開關或刻度盤能夠在驗證加熱室11的內(nèi)部以及顯 示單元27的顯示內(nèi)容時易于操作。接著，將描述本發(fā)明的實施例的炊具的內(nèi)部結構的例子。圖2示出當本發(fā)明的實 施例的炊具被從左到右(向著炊具的前面部分的左右方向)剖開時的截面視圖，圖3示出 當本發(fā)明的實施例的炊具的頂部表面的頂板被在頂部表面方向剖開時的截面視圖，圖4示 出其中蒸汽相對于光的波長吸收光的比率，圖5示出當本發(fā)明的實施例的炊具被從前到后 (從炊具的前部部分向著加熱室的速度側面的方向)被剖開時的截面視圖。如圖2和3所示，本發(fā)明的實施例的炊具100包括加熱室11、產(chǎn)生易于傳輸通過蒸 汽的紅外線的紅外線產(chǎn)生裝置20、由鎖定部分17支撐以豎直地分隔加熱室的加熱盤、從也 用作加熱室11的底部表面的作為待加熱物體12a的食物盛放在其上的盛放臺Ila下方供 應高頻波的高頻波產(chǎn)生裝置40、以及在加熱室11中產(chǎn)生蒸汽的蒸汽產(chǎn)生裝置60。此外，在 本實施例中，雖然蒸汽產(chǎn)生裝置60設置在加熱室11中，但是在加熱室11之外產(chǎn)生的蒸汽 也可以供應到加熱室11中。因為蒸汽通過蒸汽產(chǎn)生裝置60連續(xù)供應并循環(huán)通過加熱室，接觸待加熱物體12a 的區(qū)域的蒸汽密度并不必然變?yōu)榱悖⑶掖訜嵛矬w12a的表面可以防止過度燒焦。此外， 因為蒸汽同樣循環(huán)通過由加熱盤30分隔的空間的上部空間(蒸汽的循環(huán)通過加熱盤30的 結構實現(xiàn)，而加熱盤30的結構將在后面進行描述)，盛放在加熱盤30上的待加熱物體12b 內(nèi)部的溫度升高被促進以使得待加熱物體可以防止過度燒焦，而不會在其中間部分留下生 的部分。此外，因為適當?shù)臐穸缺皇┘拥奖砻妫訜嵛矬w12b的表面被蒸汽包裹，物體12b 內(nèi)部的濕氣難以逃脫。結果，可以執(zhí)行其中表面被烘焙以為松脆的而內(nèi)部多汁的烹飪。炊具100是利用旋轉兩個天線的方法的微波爐，包括從也用作加熱室11的底部表 面的作為待加熱物體12a的食物盛放在其上的盛放臺Ila的下方供應高頻波的高頻波產(chǎn)生 裝置，并且是其中作為高頻波產(chǎn)生裝置40的磁控管設置在右邊的例子。設置導引從磁控管 41產(chǎn)生的高頻波到加熱室11中的波導管42和輻射無線電波到加熱室11的旋轉天線43。 旋轉天線43配置為具有輻射方向性。本實施例的炊具100配置為控制在預定方向具有高輻 射方向性的至少一部分旋轉天線43，從而在特定方向進一步會聚和輻射微波。在頂部表面 方向從也用作加熱室11的底部表面的盛放臺Ila延伸的箭頭，如圖5所示，表示從旋轉天 線43輻射的微波，該箭頭的方向示出輻射微波的方向，該箭頭的長度示出微波的強度。圖 5示出其中微波在加熱盤的周邊部分附近強輻射的情形。后面將詳細描述如何具體控制加 熱盤。此外，如圖5所示，連通通道14、循環(huán)風扇15和加熱器16設置在加熱室11的深度 側面上的分隔板Ilc后面，加熱室11中的空氣通過循環(huán)風扇15進行吸取并由加熱器16進 行加熱(在圖5中從加熱室11指向循環(huán)風扇15的箭頭表明空氣的流動)，從設置在分隔板 Ilc中的排出孔加熱的空氣能夠被送到加熱室11中(在圖5中從加熱器16指向加熱室11 的箭頭表明空氣的流動)。此外，如圖2和5所示，加熱室11的上部設置有多個管式加熱器21 (光學加熱器) (如圖3所示，總共三個被設置，包括在頂部表面1 Ib中間的氬加熱器21a和在氬加熱器21a 的前后兩個側面的Milacron加熱器21b)，其作為紅外線產(chǎn)生裝置20產(chǎn)生紅外線。各個管式加熱器21和磁控管41通過控制單元控制，管式加熱器21輻射具有難以被蒸汽吸收的波 長的紅外線，并傳輸通過存在于加熱室11中的蒸汽，從而將待加熱物體12b (當沒有加熱盤 30時為待加熱物體12a)暴露到紅外線，從而執(zhí)行烹飪。此外，當氬加熱器21a和Milacron 加熱器21b通過統(tǒng)一的名稱被稱呼時，它們將稱作管式加熱器21。產(chǎn)生多個波長的管式加熱器21，如圖4所示，配置為產(chǎn)生峰值波長在大于等于 1. 5μπι且小于1. 7μπκ大于等于2. Ομ 且小于2. 3μπκ大于等于3. 4μπι且小于4. 5μπι中 的任何一個波長，其是蒸汽吸收比率低的區(qū)域的波長。從而，具有蒸汽吸收比率低的區(qū)域的波長的峰值波長在大于等于1.5μπ 且小于 1. 7 μ m、大于等于2. Ομ 且小于2. 3 μ m、大于等于3. 4μπι且小于4. 5μπι中的任何一個波 長的紅外線從三個管式加熱器21輻射到加熱室11中，并且紅外線在蒸汽中不被吸收而是 傳輸通過蒸汽以輻射和加熱作為待加熱物體12a和12b的食物。結果，盛放在加熱室11上的待加熱物體12b(12a)可以直接且更快速和均一地加 熱。此外，當紅外線直接輻射在待加熱物體12b (12a)的表面上時，待加熱物體12b (12a)的 表面可以被精加工成松脆的，并且更加快速地變?yōu)楹稚?。而且，因為蒸汽循環(huán)并連續(xù)供應， 接觸待加熱物體12a或12b的區(qū)域的蒸汽密度并不變?yōu)榱悖訜嵛矬w12a或12b的表面 可以防止過度燒焦同時促進物體內(nèi)部的溫度升高。此外，因為待加熱物體12b (12a)被蒸汽 包裹，所以物體12b(12a)其中內(nèi)部的濕氣難以逃脫的烹飪，物體表面被烘焙為松脆的而內(nèi) 部為多汁的。如圖5所示，因為管式加熱器21設置在加熱室11的頂部表面lib中，氬加熱器 21a設置在頂部表面lib的中間，Milacron加熱器21b設置在氬加熱器21a的前后兩側上， 具有期望的上述波長的紅外線得以產(chǎn)生。氬加熱器21a的芯線為鎢絲，氬氣由透明管件22 封閉。氬加熱器21a具有操作啟動比Milacron加熱器21b快的特征。盡管已經(jīng)傳統(tǒng)地使用Milacron加熱器21b，因為其波長長于氬加熱器21a，并且啟 動比云母加熱器更快，加熱器適于使得待加熱物體12a和12b變?yōu)楹稚?。此外，具有成本?的特征。在此，當Milacron加熱器21b裝載在微波爐上時，具有Milacron加熱器21b吸收 微波并產(chǎn)生熱量并且正使用的玻璃材料熔化的可能性。這樣，期望采用具有相對低的介電 常數(shù)并難以吸收微波的白色導管的Milacron加熱器21b。此外在加熱室11中，如圖2和5所示，鎖定部分17設置在加熱室11中的相對面 對的升高壁Ild和Ild中，加熱盤30通過鎖定部分17支撐以豎直分隔加熱室11并能夠將 待加熱物體12b盛放在上面。此外，通過加熱盤30分隔的下部空間可以稱作第一空間，上 部空間可以稱作第二空間。如在圖6的本發(fā)明的實施例的炊具中的加熱盤的構型圖中所示，加熱盤30具有設 置在總體上具有矩形板形狀的加熱盤30的左右兩個側面上的樹脂把手33，并能夠沿著加 熱室11的鎖定部分17在前后方向進入或退出。此外，加熱盤30的周邊部分設置有連通孔 31，該連通孔與加熱室11豎直連通。從而，蒸汽在由加熱盤分隔的加熱室11的下面部分產(chǎn) 生，并且產(chǎn)生的蒸汽通過設置在加熱盤30的周邊部分上的連通孔31導引到上面部分，從而 加熱盛放在加熱盤30上的待加熱物體12b。圖5示出從由加熱盤30分隔的下部空間通過 加熱盤30的周邊部分指向由加熱盤30分隔的上部空間的箭頭。該箭頭表明指向上部空間的蒸汽的流動。此外，某些輻射到加熱室11的第一空間的微波穿過加熱盤30的周邊，并且傳播到 第二空間。在除了接觸鎖定部分17的樹脂把手33之外的加熱盤30上的空間并不接觸接 觸加熱室11的壁面，并且微波易于從這些位置傳送到第二空間。此外，設置在加熱盤30中 的連通孔31也促進微波從第一空間傳送到第二空間。結果，盛放在加熱盤30上的待加熱 物體12b通過已經(jīng)傳送到第二空間的微波加熱。具體地，如圖5所示，當具有高輻射方向性 的旋轉天線的微波的方向面對加熱盤30的周邊部分時，從旋轉天線43輻射的微波在其衰 減限制到最小的狀態(tài)下同樣傳送到第二空間。結果，盛放在加熱盤30上的待加熱物體12b 可以有效地被加熱。此外，例如，期望在也用作加熱盤30的底部表面的盛放臺上設置吸收無線電波的 加熱元件32，例如鐵氧體橡膠，其吸收由高頻波產(chǎn)生裝置40產(chǎn)生的高頻以產(chǎn)生熱。從而，盛 放在加熱盤30上的待加熱物體12b被從下方加熱，以使得待加熱物體12b可以從上下兩個 表面進行烹飪。此外，接觸吸收無線電波的加熱元件32的加熱盤30的底部表面是沒有被 噴涂的，以使得導熱性能夠提高并且烹飪時間能夠縮短。而且，如果具有高輻射方向性的旋 轉天線43的微波的方向面對加熱盤30，加熱盤30的溫度可以有效升高。然后，將描述旋轉天線的具體構型以及控制旋轉天線的方法。圖7是在本發(fā)明的 實施例的炊具中的旋轉天線附近的詳細構型圖(從前部觀看的截面視圖)，圖8是沿著圖7 的B-B’剖開的炊具的截面視圖。如圖7所示，炊具100包括波導管42，其傳送從作為典型的微波產(chǎn)生裝置的磁控 管41輻射的微波；加熱室11，其連接到波導管42的上部并具有其中寬度尺寸(大約410毫 米)大于深度尺寸(大約315毫米)的形狀；盛放臺11a，其固定在加熱室11中用于盛放 作為典型的待加熱物體的食物(未示出)并具有微波能夠易于在其中穿過的屬性，因為盛 放臺是由低損耗的介電材料例如陶瓷或玻璃制成；天線空間37，其形成在加熱室11中的盛 放臺Ila下方；兩個旋轉天線38和39，其附著到關于從波導管42到天線空間37的加熱室 11的寬度方向對稱的位置以便將波導管42中的微波輻射到加熱室11中；電機61和62，其 用作能夠轉動地驅動旋轉天線38和39的典型的驅動裝置；控制單元160 (如圖17所示，后 面將進行描述)，其控制電機61和62以控制旋轉天線38和39的取向；光中斷器36，其構 成原點檢測機構，該機構檢測每根旋轉天線38和39的轉動原點；以及紅外傳感器10，其是 溫度分布檢測裝置，該裝置檢測加熱室11中的溫度分布。此外，旋轉天線38和39包括耦合部分45和46，該耦合部分穿過大致圓形的具 有大約30毫米直徑的耦合孔43和44，該耦合孔設置在波導管42和也用作加熱室的底部表 面的加熱室盛放臺之間的邊界表面上，并且該耦合部分由具有大約18毫米直徑的大致圓 柱形的傳導材料制成；以及輻射部分47和48，其通過塞縫、焊接等電連接到并集成到耦合 部分45和46的上端，并且其由具有在水平方向比在垂直方向更寬的區(qū)域的傳導材料制成。此外，旋轉天線38和39配置為配合到電機61和62的軸49和50以使得耦合孔 43和44的中心變?yōu)檗D動驅動的中心。因為輻射部分47和48在其轉動方向并不具有不變 的形狀，所以輻射部分配置為具有輻射方向性。旋轉天線38和39的轉動中心安置在距離加熱室11的中心大致相等的距離處。通 過該構型，通?？梢约訜峒訜崾抑械闹行母浇?，而這對于其中天線是使得具有高輻射方向
11性的旋轉天線38和39的部分向著中心鄰近的天線的構型難以加熱的。輻射部分47和48具有相同的形狀，并且輻射部分上表面51和52具有大致四邊 形形狀的R。在四個側面中，面對兩個側面具有輻射部分彎曲部分53和54，該彎曲部分在 也用作加熱室的底部表面的盛放臺上彎曲，從而限制微波的輻射到該兩個側面的外面。也 用作加熱室的底部表面的盛放臺和輻射部分上表面51和52之間的距離設置為大約10毫 米，并且輻射部分彎曲部分53和54下降到低于上表面大約5毫米的位置。其它兩個側面具有從耦合部分45和46到末端的不同水平長度，并組成距離耦合 部分的中心的長度為大約75毫米的末端55和56以及距離耦合部分的中心的長度為大約 55毫米的末端57和58。另外，所述末端在寬度方向的尺寸設置為80毫米或以上。在該構 型中，旋轉天線38和39可以在從耦合部分45和46的末端57和58的方向中增大輻射方 向性。在該構型中，當一般的食物被均一加熱時，并不特別地需要類似于傳統(tǒng)的微波爐 一樣將食物盛放在存儲位置，并且旋轉天線38和39可以類似于傳統(tǒng)的旋轉天線一樣恒速 旋轉。另一方面，當進行強加熱時，例如，當加熱室11的中心附近被加熱時，如圖9的本發(fā) 明的實施例的炊具的旋轉天線的取向的例子所示，控制單元160控制旋轉天線38和39的 末端57和58以面對稱作在寬度方向大致為加熱室11的中心以及在深度方向大致為加熱 室的中心的預定方向。當旋轉天線38和39的末端57和58面對加熱室11在寬度方向的大致中心以及 加熱室在深度方向大致中心時，在末端57和58的方向上的輻射方向性是高的。這樣，微波 可以特別地從末端57和58的方向輻射，并且位于該方向的食物能夠被強加熱。此外，當加熱室II的左側附近被加熱時，如圖10的本發(fā)明的實施例的炊具的旋轉 天線的取向的例子所示，控制單元160控制旋轉天線38和39的末端57和58以面對左側 (當加熱室11被從門64進行觀看時的左側)。類似地，當加熱室11中的右側附近被加熱時，如圖11的本發(fā)明的實施例的炊具的 旋轉天線的取向的例子所示，控制單元160進行控制以使得旋轉天線38和39的末端57和 58面對右側(當加熱室11被從門64觀看時的右側)。此外，當加熱室11中的中心的前面附近被加熱時，如圖12的本發(fā)明的實施例的炊 具的旋轉天線的取向的例子所示，控制單元160控制旋轉天線38和39的末端57和58以 使得面對加熱室11在寬度方向的大致中心和加熱室在深度方向大致前部(加熱室11中的 中心的前部附近)。此外，當在加熱室11中的中心后面的附近被加熱時，如圖13的本發(fā)明的實施例的 炊具的旋轉天線的取向的例子所示，控制單元控制旋轉天線38和的末端57和58以面對加 熱室11在寬度方向大致中心以及加熱室在深度方向大致后部(加熱室11的中心后面的附 近)。如上所述，本實施例的炊具100根據(jù)意在進行局部加熱的位置控制旋轉天線的取 向。為了使得旋轉天線38和39面對預定方向，利用步進電機作為電機61和62，或者可以 考慮例如檢測參考位置以控制甚至在恒速轉動電機中的給電時間的裝置。在本實施例的炊具中，步進電機用作電機61和62，并且原點檢測機構分別設置在 各電機的軸49和50中。圖14示出沿著圖7的D-D’剖開的炊具的截面視圖。原點檢測機
12構，如圖14所示，通過具有作為中心軸的軸的圓盤36a和光中斷器36組成。圓盤36a設置 有矩形縫槽36b。圓盤36a —般附著到分別旋轉所述旋轉天線38和39的電機的軸49和50，并轉動 以阻擋光中斷器36的光路，該光中斷器包括光發(fā)射元件和光接收元件。通過該構型，當縫槽36b通過光中斷器36的光路時沒有什么阻擋光路。這樣，縫 槽的通過時間可以被檢測。相應地，旋轉天線的原點可以通過設置縫槽36b到旋轉天線38 和39的原點的位置而由附著到各個電機的光中斷器36檢測。此外，控制單元具有天線角度存儲單元，該存儲單元在當具有高方向性的旋轉天 線38和39的一部分聚集在局部加熱位置時基于能夠由原點檢測機構檢測的原點預先存儲 旋轉天線38和39的角度(停止位置)。當旋轉天線38和39的操作被控制以執(zhí)行局部加 熱時，參考天線角度存儲單元的信息。接著，將參照圖15所示的本發(fā)明的實施例的炊具中的紅外傳感器10的構型圖描 述本實施例的炊具具有的溫度檢測裝置。溫度檢測裝置包括多個排列在基板109上的紅 外探測器103 ；容納整個基板109的殼體108 ；以及步進電機101，該電機在垂直于紅外探測 器103所排列方向的方向移動殼體108。圍繞紅外探測器103的金屬罐105以及處理紅外檢測器的操作的電子電路110設 置在基板109上。此外，罐105設置有紅外線通過的透鏡104。此外，殼體108設置有允許 紅外線通過其中的紅外線通過孔106以及允許引線從電子電路110通過其中的孔107。通過該構型，隨著步進電機101進行轉動運動，殼體108可以在紅外檢測器103排 列的垂直方向移動。圖16是示出圖7的C-C’截面中的紅外溫度檢測點的視圖，圖17是用于解釋本發(fā) 明的實施例中的紅外溫度檢測點的炊具的截面視圖(前視圖)。如圖17所示，當溫度檢測 裝置的步進電機101基于控制單元160的控制進行反向轉動運動時，本實施例的炊具100 可以檢測加熱室11中的幾乎所有區(qū)域的溫度分布。具體地，設置在溫度檢測裝置上的排列的溫度檢測器103(例如，紅外傳感器)例 如檢測圖16中的Al至A4區(qū)域的溫度分布。接著，當步進電機101進行轉動運動并且殼體 108移動時，溫度檢測器103檢測Bl至B4區(qū)域的溫度分布。接著，當步進電機101進行轉 動運動并且殼體108移動時，溫度檢測器103檢測Cl至C4區(qū)域的溫度分布，類似地，檢測 Dl至D4區(qū)域的溫度分布。此外，當步進電機101在上述操作之后進行逆時針轉動時，溫度分布以從Dl至D4， Cl至C4、B1至B4和Al至A4的順序檢測。溫度分布檢測裝置可以通過重復上述操作檢測 加熱室11中的整個溫度分布。隨后，將描述通過本發(fā)明的實施例的炊具進行的通過微波的加熱處理過程中的一 系列處理。圖18是示出本發(fā)明的實施例的炊具的構型的功能框圖。炊具100包括高頻波產(chǎn)生單元40 (在圖2中由磁控管41、波導管42和旋轉天線 43組成)、熱空氣供應單元80 (在圖5中由連通通道14、循環(huán)風扇15和加熱器16組成)、 輻射熱供應單元20 (對應圖3中的管式加熱器21)、蒸汽供應單元60 (對應圖2中的蒸汽產(chǎn) 生裝置60)、操作面板23 (對應圖1中的操作面板23)、紅外傳感器10 (對應圖7的紅外傳 感器10)，電源單元170和控制整個炊具100的控制單元160。
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控制單元160包括CPU(中央處理單元)和ROM(只讀存儲器)，其沒有示出。CPU 根據(jù)存儲在ROM中的程序和數(shù)據(jù)執(zhí)行控制。通過控制單元160的控制包括優(yōu)選地保證從電 源單元170到高頻波產(chǎn)生單元40、熱空氣供應單元80、輻射熱供應單元20和蒸汽供應單元 60的任何一個或多個的電力供應量的控制。通過該控制，高頻波產(chǎn)生單元40、熱空氣供應 單元80、輻射熱供應單元20和蒸汽供應單元60的任何一個或多個被驅動以加熱待加熱問 題 12a 和 12b。接著，將參照示出通過圖19的本發(fā)明的實施例的炊具進行的加熱處理的概括的 流程圖描述通過本發(fā)明的實施例的炊具進行的處理的流程。當控制單元160接收指示是否 將根據(jù)通過操作面板23的開關25的上下組合功能或正常功能的任何處理進行加熱的操作 (步驟Si)，控制單元根據(jù)所述操作執(zhí)行上下組合功能(步驟S2)或正常功能(步驟S3)。 首先，將描述通過本發(fā)明的實施例的炊具進行的上下組合功能的流程。通過本發(fā)明的實施 例的炊具的上下組合功能的流程圖示出在圖20中。首先，控制單元接收通過操作面板用于上下組合菜單烹飪的操作，特別地通告待 加熱物體的狀態(tài)的操作、指示用于加熱處理的條件的操作、以及指示開始加熱處理的操作 (步驟201)。通告待加熱物體的狀態(tài)的操作包括輸入待加熱物體的類型、數(shù)量、形狀等的操 作。盡管該輸入可以包括其中用于指定待加熱物體的數(shù)量、大小和形狀的配置，并且輸入測 量的數(shù)值，但是，優(yōu)選地，伴隨炊具的配方書中描述的某一配方的識別號通過操作面板的刻 度盤指定。在該配方書中，用于烹飪所需的原料的數(shù)量、大小、形狀被確定用于每一配方。這 樣，控制單元可以通過接收指示配方的識別號的操作而認知待加熱物體的狀態(tài)。此外，通告 本發(fā)明的實施例的待加熱物體的狀態(tài)的操作并不是必不可少的，并且可以包括其中待加熱 物體的數(shù)量和溫度通過設置在加熱室中的各個傳感器(未示出)而進行測量的配置，并且 測量的數(shù)值用作輸入值。此外，用于加熱處理的條件主要包括待加熱物體放置的位置以及在每個位置加熱 待加熱物體的方法。具體地，放置待加熱物體的位置是指示1-僅也用作加熱室的底部表面 的盛放臺、2-僅加熱盤以及3-也用作加熱室的底部表面的盛放臺和加熱盤的條件。此外，在每個位置加熱待加熱物體的方法是指示加熱盛放在也用作加熱室的底部 表面的重復臺上的待加熱物體和盛放在加熱盤上的待加熱物體的方法的條件(通過高頻 加熱、通過熱鼓風加熱、通過輻射熱加熱、通過蒸汽加熱、每個加熱方法的烹飪溫度、每個加 熱方法的加熱時間等)。盡管這些條件可以通過操作面板由用戶輸入，但是，優(yōu)選地，指定用 于每個識別號的配方的每個加熱方法的訂單、加熱溫度、加熱時間等通過接收表明該配方 的識別號的操作而被參照。在本發(fā)明的實施例中，將描述其中待加熱物體放置在3-也用作加熱室的底部表 面的盛放和加熱盤上的情形，具體地，需要通過微波加熱的待加熱物體放置在也用作加熱 室的底部表面的盛放臺上，需要通過輻射熱加熱的待加熱物體盛放在加熱盤上。另一加熱 方法與傳統(tǒng)熟知的方法相同，其描述將省略。控制單元基于由通告從操作面板接收的待加熱物體的狀態(tài)的操作檢測到的待加 熱物體的狀態(tài)(可以通過設置在加熱室中的各個傳感器檢測，其取決于具體情況)指定意 在通過微波加熱并且盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放臺上的待加熱物體的裝載量 (步驟202)。具體地，控制單元存儲其中待加熱物體的類型、數(shù)量、形狀與在ROM中的具有所述類型、數(shù)量、形狀的待加熱物體的載荷量相關聯(lián)的表格，并基于該表格指定對應已經(jīng)從 操作面板接收的或者已經(jīng)由各個傳感器檢測到的狀態(tài)的裝載量。此外，控制單元可以通過 接收指示在配方或者操作單元中描述的識別號的操作而通告待加熱物體的狀態(tài)。即使在這 種情況中，類似地，控制單元存儲其中在每個配方或者操作單元中描述的識別號與ROM中 的配方所需的待加熱物體的裝載量相關聯(lián)的表格，并參照該表格指定對應于已經(jīng)從操作面 板接收的配方的識別號的裝載量。當控制單元指定待加熱物體的裝載量時，裝載量的大小被確定(步驟203)，其中 旋轉天線38和39的末端57和58應當面對的方向被確定，并且旋轉天線38和39在該確 定方向旋轉?？刂茊卧獜拇訜嵛矬w盛放所在的加熱室的中間分散其中旋轉天線38和39 的末端57和58應當面對的方向，并且當盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放臺上的待 加熱物體的裝載量更大(步驟204，Y)時，將該方向會聚在加熱盤上(步驟205)，當待加熱 物體的裝載量更小時(步驟204，N)，聚集旋轉天線38和39的末端57和58應當面對的方 向在加熱室的中心上(步驟206)。此外，在通過微波加熱的過程中，蒸汽可以從蒸汽供應單元60供應以一起加熱盛 放在也用作加熱室的底部表面的盛放臺上的待加熱物體和盛放在加熱盤上的待加熱物體。 進一步地，到達加熱室的蒸汽供應可以調(diào)節(jié)在加熱室中的介電常數(shù)分布。結果，可以抑制對 于待加熱物體的不均勻加熱。通過該處理，如果盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放臺11a上的第一待加熱 物體的裝載量大，具有高輻射方向性的旋轉天線38和39的部分并不轉動來面對待加熱物 體。但是，輻射方向性不是那么高的旋轉天線38和39的部分轉動來面對待加熱物體，并且 裝載量大。因此，從這些部分輻射的微波可以有效地被吸收以充分加熱待加熱物體。另一 方面，待加熱的任何物體并不存在與其中具有高輻射方向性的旋轉天線38和39的部分所 面對的方向中。相應地，從旋轉天線38和39輻射的微波能夠以最小衰減地抵達加熱盤30， 從而升高加熱盤的溫度，并以最小的衰減通過加熱盤30的周邊部分，從而加熱盛放在加熱 盤30上的待加熱物體12b。控制單元在旋轉天線38和39旋轉之后供應電力到高頻波產(chǎn)生單元40，從而開始 輻射微波(步驟207)。其后，通過上面的旋轉天線38和39進行的微波輻射繼續(xù)直到在由 控制單元指定的某第一和第二待加熱物體的組合中的第一預定時間(這取決于在第一和 第二待加熱物體的組合中用于其每種組合指定的第一和第二待加熱物體的類型、數(shù)量、形 狀等而預先存儲)(步驟208，Y)。從而，第一待加熱物體被積極加熱，加熱盤30和在加熱 盤上的第二待加熱物體被預熱。當控制單元確定第一預定時間已經(jīng)達到時(步驟208，Y)，通過轉動天線38和39 的微波輻射停止，并且控制單元供應電力到輻射熱供應單元20以開始通過輻射熱的加熱， 以加熱盛放在加熱盤30上的待加熱物體(步驟209)。其后，當預定時間已經(jīng)過去并且預定 確定的第二預定時間達到(這同樣取決于在第一和第二待加熱物體的組合中用于其每種 組合指定的第一和第二待加熱物體的類型、數(shù)量、形狀等而預先存儲，并且當?shù)谝淮訜嵛?體的加熱完成時)(步驟210，Y)，通過輻射熱的加熱停止(步驟212)。這樣，在該炊具中，即使在其中盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放臺11a上 的第一待加熱物體的裝載量大的情形下，當通過輻射熱的加熱開始時加熱盤30的溫度與
15其中裝載量小的情形相比已經(jīng)稍微更低，但是被充分升高，并且盛放在加熱盤30上的待加 熱物體同樣被通過微波的照射預熱。因此，當兩個物體同時加熱時的加熱時間與當?shù)谝淮?加熱物體和第二待加熱物體獨立加熱時的總加熱時間相比能夠縮短。此外，即使在其中盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放臺上的待加熱物體的裝 載量小的情況下，可以說，當通過輻射熱的加熱開始時，加熱盤30與其中待加熱物體僅位 于加熱盤上的情況相比被充分加熱，并且通過輻射熱的待加熱物體的加熱以及通過微波的 加熱盤的溫度的升高如同傳統(tǒng)的一樣是同時開始的，當兩個物體同時加熱的時間與第一待 加熱物體和第二待加熱物體獨立加熱時的總加熱時間相比可以縮短?？刂茊卧谕ㄟ^旋轉天線38和39的微波輻射停止以后持續(xù)通過輻射熱的加熱一 預定時間(步驟211)。此外，該預定時間根據(jù)在指定的第一和第二待加熱物體的組合中用 于其每種組合的指定的第一和第二待加熱物體的類型、數(shù)量、形狀等同樣被預先存儲作為 當?shù)诙訜嵛矬w的加熱完成時的時間，并取決于參照當指示配方的識別號的操作已經(jīng)被 接收時的加熱時間而被指定。但是，加熱時間可以在通過炊具的烹飪開始以前由用戶通過 操作面板輸入加熱時間而指定。此外，在加熱過程中，蒸汽可以從蒸汽供應單元60供應以一起加熱盛放在也用作 加熱室底部表面的盛放臺上的待加熱物體和盛放在加熱盤上的待加熱物體。從而，待加熱 物體可以通過施加到待加熱物體表面的濕氣進行加熱。而且，其中烘烤烹飪或者烘箱烹飪 在盛放在加熱盤上的待加熱物體上執(zhí)行的情形是能夠想到的。當烘烤烹飪執(zhí)行時，也使用 蒸汽加熱，以使得待加熱物體內(nèi)部可以被精加工而為多汁的，同時防止表面被過度燒焦。另 一方面，當烘箱烹飪執(zhí)行時，蒸汽也被使用，以使得內(nèi)部烹飪可以得以改善，待加熱物體的 表面可以被精加工以為松脆的，并且其內(nèi)部可以被精加工而為多汁的。然后，當通過輻射熱的加熱持續(xù)一預定時間時(步驟211，Y)，控制單元停止通過 輻射熱的加熱(步驟212)，并停止一系列的加熱處理。隨后，將描述通過本發(fā)明的實施例的炊具的正常功能的流程。通過本發(fā)明的實施 例的炊具的正常功能的流程圖示出在圖21中。首先，如果用戶操作操作面板23以設定期望的精加工溫度(在此及后稱作“溫度 設定”)(步驟301)，有指示來開始加熱，例如按下開始按鈕(步驟302)，控制單元160開始 加熱，例如控制高頻波供應單元40以產(chǎn)生微波，并將微波經(jīng)由波導管42傳輸?shù)郊訜崾?1 中(步驟303)。此時，紅外傳感器10檢測在加熱時間的起始點加熱室11中的溫度分布，并 且控制單元160在存儲器(未示出)中儲存溫度分布的檢測結果(步驟304)。接著，控制單元160以恒定速度轉動例如旋轉天線38和39以為了實現(xiàn)分散加熱 (步驟305)。分散加熱例如通過改變二旋轉天線38和39的停止位置以及通過隨機地改變 旋轉天線38和39的停止位置而實現(xiàn)，所述天線能夠在微波振動過程中隨時停止在預定位 置以通過連續(xù)轉動旋轉天線38和39執(zhí)行局部加熱。然后，紅外傳感器10再次地在某一時間段已經(jīng)過去之后檢測加熱室11中的溫度 分布(步驟306)。然后，控制單元160決定計算的溫度升高率達到預定值或以上的點作為食物點 (步驟307)?？刂茊卧?60存儲待加熱物體的初始溫度分布，計算待加熱物體每單位時間 溫度升高率，并且決定計算的溫度升高率達到預定值或以上的點為食物點。這確定溫度已經(jīng)被檢測的地方是否為也用作待加熱物體或者作為待加熱物體的食物盛放所在的底部表 面的盛放臺。也就是，這通過冷凍的食物的初始溫度與也用作底部表面的盛放臺相比明顯 更低的特征與盡管也用作底部表面的盛放臺傳輸微波并且其溫度在加熱過程中難以升高 但是食物吸收微波并且溫度易于升高的特征之間的差異得以確定。接著，控制單元160確定決定的食物點的溫度差是否等于或者大于預定值(例如， 10°c )(步驟308)，如果溫度差等于或者大于預定值，控制單元控制旋轉天線38和39以使 得微波會聚在食物點上的最低溫度上(局部加熱)(步驟309)。另一方面，如果食物點上的 溫度差異小于預定值，控制單元控制旋轉天線38和39以實現(xiàn)分散加熱(步驟310)。例如，如果最低溫度點是圖16中的B2、B3、C2、C3的任何一個，旋轉天線38和39 停止在其中旋轉天線38和39加熱中心的方向，也就是，在圖9所示的停止位置處。如果最低溫度點是圖16中的B1或者C1，旋轉天線38和39停止在其中旋轉天線 38和39加熱左側方向的方向，也就是，在圖10所示的停止位置處。如果最低溫度點是圖16中的B4或者C4，旋轉天線38和39停止在其中旋轉天線 38和39加熱右側方向的方向，也就是，在圖11所示的停止位置處。如果最低溫度點是圖16中的A2或者A3，旋轉天線38和39停止在其中旋轉天線 38和39加熱前部的方向，也就是在圖12所示的停止位置處。如果最低溫度點是圖16中的D2或D3，旋轉天線38和39停止在其中旋轉天線38 和39加熱后部的方向，也就是，在圖13所示的停止位置處。接著，控制單元160確定食物點中的最高溫度是否已經(jīng)達到對應溫度設定確定的 第一檢測溫度(步驟311)。如果最高溫度沒有達到第一檢測溫度，控制單元再次檢測溫度 分布(步驟306)，然后重復相同的操作。再次，第一檢測溫度根據(jù)食物或者烹飪內(nèi)容物由用 戶經(jīng)由操作面板23對應期望的精加工溫度設定，例如低于溫度設定5°C的溫度。如果在步驟311中食物點中的最高溫度已經(jīng)達到第一檢測溫度，并且溫度設定小 于預定溫度TO (例如，50°C )(步驟312)，控制單元160控制高頻波供應單元40 (步驟313) 以結束加熱(步驟314)。這可以防止食物例如期望保持在低的精加工溫度的嬰兒食物或者 黃油被過度加熱。在步驟312中，如果溫度設定等于或者大于預定溫度T0，該處理進行到步驟315， 如果溫度設定等于或者大于T1 (例如，80°C )，第二檢測溫度A，比率A、時限A和輸出A設 定為常數(shù)(步驟316)，如果溫度設定小于T1、第二檢測溫度B、比率B、時限B和輸出B設定 為常數(shù)(步驟317)。在此，如果第二檢測溫度A和B是對應于設定的溫度設定所確定的兩 個常數(shù)，例如，溫度設定等于或者大于Tl(例如，80°C )，第二檢測溫度A(例如，60°C )被設 定，如果溫度設定小于T1，第二檢測溫度B(例如，50°C)被設定。此外，比率A和B是對應 于設定的溫度設定確定的兩個常數(shù)，如果溫度設定等于或者大于T1，比率A(例如，60%)被 設定，如果溫度設定小于T1，比率B(例如，50% )被設定。在此，第二檢測溫度A設定為比檢測溫度B更大的值，比率A設定為比比率B更大 的值。從而，如果設定的溫度設定高，進行加熱直到變?yōu)楦邷囟鹊氖澄稂c的比率變?yōu)楦?的比率。結果，加熱時間可以加長。食物例如難以暖化的咖哩粉燉肉的溫度可以通過高溫 設定而充分升高。此外，時限A和B是例如對應設定的溫度設定確定的兩個常數(shù)，如果溫度設定等于
17或者大于T1，時限A被設定，如果溫度設定小于T1，時限B被設定。在此，時限期望地設定 為當待加熱物體持續(xù)被加熱時待加熱物體的質(zhì)量能夠被保持的最長時間，并且該時限設定 為比實現(xiàn)B更高的值。此外，輸出A和B是例如對應設定的溫度設定確定的兩個常數(shù)，如果溫度設定等 于或者大于T1，輸出A被設定，如果溫度設定小于T2，輸出B被設定。在此，輸出A (例如， 600W)設定為比輸出B(例如，500W)更大的值。從而，食物例如難以暖化的咖哩粉燉肉的溫 度能夠在短時間內(nèi)隨著溫度設定增大而通過增大輸出而充分升高。接著，控制單元160控制高頻波供應單元40以為在步驟316和317中的輸出設定 (步驟318)。然后，控制單元160開始計算步驟316和317中設定的時限(步驟319)。接著，控制單元160確定等于或者大于食物點中的步驟316和317中設定的第二 檢測溫度的點是否等于或者大于在步驟316和317中設定的預定比率(步驟320)。如果該 點小于預定比率，控制單元確定在步驟316和317中設定的時限是否已經(jīng)過去(步驟321)， 如果該時限已經(jīng)過去，紅外傳感器10再次檢測溫度分布(步驟322)。然后，控制單元160確定食物點中的溫度差是否等于或者大于預定值(步驟323)， 如果溫度差等于或者大于預定值，控制單元控制旋轉天線38和39以使得微波會聚在食物 點中的最低溫度點上(步驟324)。另一方面，如果食物點中的溫度差小于預定值，控制單元 控制旋轉天線38和39以實現(xiàn)分散加熱(步驟325)。然后，處理再次返回到步驟320，隨后 的步驟被重復。另一方面，如果等于或者大于食物點中的第二檢測溫度的點等于或者大于步驟 320中的預定比率，控制單元160控制高頻波供應單元40(步驟326)以結束加熱(步驟 327)。此外，如果在步驟321中時限已經(jīng)過去，高頻波供應單元40被控制(步驟326)以 結束加熱(步驟327)。從而，即使計算等于或者大于食物點中的第二檢測溫度的點的預定 比率的控制單元的功能由于某種原因而沒有呈現(xiàn)，并且它沒有確定為等于或者大于預定比 率，加熱時間能夠隨著設定時間的增大而增長，食物的溫度能夠根據(jù)溫度設定而充分升高。如上所述，在傳統(tǒng)的炊具中，當待加熱物體盛放在也用作加熱室的底部表面的盛 放臺上時，不可能充分升高加熱盤的溫度。但是，根據(jù)本發(fā)明的實施例的炊具，即使當待加 熱的物體盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放臺上時，加熱盤的溫度也可以有效升高。 此外，作為通過輻射熱的加熱目標并且盛放在加熱盤上的待加熱物體能夠在通過輻射熱加 熱以前通過微波進行加熱。這能夠實現(xiàn)一種新型的烹飪方法，其在其中單獨的待加熱物體 分別盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放臺和加熱盤上的狀態(tài)下開始和完成加熱處理， 也就是，通過加熱盤分隔的上下空間在一個處理中加熱的上下加熱，先前的烹飪方法中并 非如此。此外，根據(jù)本發(fā)明的實施例的炊具，上下組合功能和正常功能可以適當?shù)亻_關。因 此，用戶可以根據(jù)需要的烹飪方法適當?shù)剡x擇上下組合功能和正常功能。此外，加熱盤或盛放在加熱盤上的待加熱物體在盛放在加熱盤上的待加熱物體被 通過輻射熱加熱之前通過微波如上所述地加熱，以使得當兩者被同時加熱時的時間與第一 待加熱物體和第二待加熱物體單獨加熱時的總加熱時間相比能夠縮短。此外，待加熱物體 分別盛放在也用作底部表面的盛放臺和加熱盤上，如果開始加熱處理的操作一次性執(zhí)行， 待加熱物體可以同時加熱。因此，傳統(tǒng)上在各個待加熱物體上執(zhí)行的設定操作的負擔能夠得以減輕。此外，旋轉天線的方向根據(jù)盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放臺上的待加熱 物體的狀態(tài)例如形狀、重量和數(shù)量而進行控制，以使得到盛放在也用作加熱室的底部表面 的盛放臺上的待加熱物體的微波輻射或到加熱盤的周邊部分或者加熱盤的微波輻射能夠 適當?shù)亻_關。此外，如果適當數(shù)量的待加熱物體根據(jù)伴隨炊具的配方書盛放在也用作加熱室的 底部表面的盛放臺和加熱盤上，炊具能夠簡單地通過輸入指定配方的識別信息而執(zhí)行上下 設定菜單。結果，用戶從伴隨上下設定菜單的復雜輸入操作解脫出來。盡管本發(fā)明已經(jīng)詳細參照特定實施例進行描述，但是，本領域技術人員應當清楚， 可以進行各種替代和修改而不超出本發(fā)明的精神和范圍。本申請是基于在2007年12月13日提交的日本專利申請No. 2007-322044，該申請 的內(nèi)容在此被引用作為參考。工業(yè)應用如上所述，根據(jù)本發(fā)明的炊具，即使在其中待加熱物體盛放在也用作加熱室的底 部表面的盛放臺上的狀態(tài)下，加熱盤的溫度也能夠通過微波有效升高，并且盛放在加熱盤 上的待加熱物體也能夠通過微波加熱。換句話說，可以呈現(xiàn)這樣的效果，即待加熱物體可以 盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放臺和加熱盤二者上并在其上進行加熱。因此，本發(fā) 明在與介電加熱待加熱物體的炊具相關的領域是有用的。
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權利要求
一種炊具，包括加熱室，其中待加熱物體盛放在也用作該加熱室的底部表面的盛放臺上；可拆卸加熱盤，其可拆卸地設置在所述加熱室內(nèi)部，并且不同于所述待加熱物體的待加熱物體盛放在該加熱盤上；高頻波供應裝置，其產(chǎn)生微波；天線，其輻射通過所述高頻波供應裝置產(chǎn)生的微波；以及控制裝置，其控制待加熱物體的加熱處理，其中所述控制裝置控制所述天線以開關用于待加熱物體的微波輻射控制以使得對于其中至少一個待加熱物體盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放臺上的情形和其中至少一個待加熱物體盛放在所述加熱室的盛放臺和所述加熱盤的每一個上的情形微波輻射控制變得不同，并且在待加熱物體的加熱完成之后停止操作。
2.如權利要求1所述的炊具，包括供熱裝置，其通過不同于微波加熱的熱輻射加熱盛放在所述加熱盤上的待加熱物體，其中當?shù)谝淮訜嵛矬w盛放在也用作所述加熱室的底部表面的盛放臺上并且第二待 加熱物體盛放在所述加熱盤上時，所述控制裝置執(zhí)行控制以開關通過微波的加熱和通過供 熱裝置的熱輻射，從而加熱所述第一待加熱物體和第二待加熱物體。
3.如權利要求2所述的炊具，其中，所述控制裝置執(zhí)行控制以在微波輻射到所述第一待加熱物體、第二待加熱物體 和加熱盤之后通過供熱裝置加熱第二待加熱物體。
4.如權利要求2所述的炊具，其中，所述供熱裝置包括光學加熱器，以及所述控制裝置執(zhí)行控制以使得所述第二待加熱物體通過所述光學加熱器進行加熱。
5.如權利要求4所述的炊具，其中，所述光學加熱器是能透過蒸汽的加熱器。
6.如權利要求1所述的炊具，包括操作單元，該操作單元選擇其中至少一個待加熱物體盛放在也用作加熱室的底部表面 的盛放臺上的正常功能和其中至少一個待加熱物體盛放在也用作加熱室的底部表面的盛 放臺和加熱盤的每一個上的上下組合功能之一，其中所述控制裝置控制所述天線以開關用于待加熱物體的微波輻射控制以使得微波 輻射控制基于從所述操作單元接收的指定待加熱物體盛放位置的信息而變得不同。
7.如權利要求6所述的炊具，其中所述控制裝置基于從所述操作單元接收的關于盛放在也用作加熱室的底部表面 的盛放臺上的第一待加熱物體和盛放在所述加熱盤上的第二待加熱物體的加熱處理信息 控制具有高輻射方向性的所述天線的一部分的取向，并在所述第一和第二待加熱物體的加 熱完成之后停止操作。
8.如權利要求7所述的炊具，其中，所述控制裝置控制具有高輻射方向性的所述天線的所述部分的取向以使得當通 過微波的加熱處理在第一待加熱物體上執(zhí)行時微波輻射到第一待加熱物體，并且當加熱處 理在第二待加熱物體上執(zhí)行時微波輻射到第二待加熱物體或者加熱盤。
9.如權利要求8所述的炊具，其中，所述控制裝置控制具有高輻射方向性的所述天線的所述部分的取向以使得當微 波輻射到第二待加熱物體時微波輻射到所述加熱盤的周邊部分。
10.如權利要求1所述的炊具，其中，所述加熱盤包括高頻波吸收器。
11.如權利要求2所述的炊具，包括蒸汽供應裝置，其通過蒸汽加熱待加熱物體，其中所述控制裝置進行控制以通過所述蒸汽供應裝置加熱第一待加熱物體或第二待 加熱物體。
全文摘要
一種烹飪裝置，能夠有效加熱盛放在盛放臺上的待加熱物體，所述盛放臺既是加熱室的底部表面，也是在加熱室的加熱盤上。該烹飪裝置具有加熱室(11)，待加熱物體盛放在盛放臺(11a)上，盛放臺也是加熱室的底部表面；加熱盤(30)，其適于為可附著和可拆卸的，并且與上述待加熱物體不同的待加熱物體盛放在其上；用于產(chǎn)生微波的高頻波供應裝置(40)；用于輻射由高頻波供應裝置(40)產(chǎn)生的微波的天線(43)；和用于控制待加熱物體的加熱的控制裝置。所述控制裝置控制天線(43)以使得天線(43)選擇性地輻射不同的微波用于下面的兩種情形并在物體的加熱完成后停止操作其中至少一個待加熱物體盛放在加熱室的盛放臺(11a)上的情形；以及其中至少一個待加熱物體盛放在盛放臺(11a)和加熱盤的每一個上的情形。
文檔編號H05B6/72GK101897234SQ200880120818
公開日2010年11月24日 申請日期2008年12月8日 優(yōu)先權日2007年12月13日
發(fā)明者內(nèi)山智美 申請人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會社