隔層59。所述密 封基板5的背面是與有機(jī)EL元件3相面對的這一側(cè)的面。因而，所述阻隔層59介于密封 基板5與第二電極32之間。所述阻隔層59的形成材料并未特別限定，可列舉出金屬氧化 物膜、氮氧化膜、氮化膜以及碳氮氧化膜等。作為所述金屬氧化物，可列舉出例如MgO、SiO、 Si xOy、A1203、GeO、Ti20等。所述阻隔層59優(yōu)選碳氮氧化硅膜（SiOCN)、氮氧化硅膜（SiON) 以及氮化硅膜（SiN)。所述阻隔層59的厚度并未特別限定，例如為50nm~10 y m。
[0048] 另外，在圖2所示的例子中，密封基板5粘接到有機(jī)EL元件3的周端面，但是，也 可以是，例如，如圖3所示，將密封基板5以不覆蓋有機(jī)EL元件3的周端面的方式粘接（在 該情況下，密封基板5僅粘接于有機(jī)EL元件3的表面?zhèn)龋?br>[0049]在使用時，所述帶狀的有機(jī)EL裝置1能夠在相鄰的有機(jī)EL元件3的邊界部處適 當(dāng)切斷。在圖1中，利用箭頭示出了切斷部位。通過如所述那樣對帶狀的有機(jī)EL裝置1進(jìn) 行加工，能夠獲得圖4所示那樣的、片狀的有機(jī)EL裝置10。
[0050] 通過使用1個所述有機(jī)EL裝置1或1個有機(jī)EL裝置10或者將多個所述有機(jī)EL 裝置1、1〇組合，能夠用作照明裝置、圖像顯示裝置等的發(fā)光面板。
[0051] 以下，具體地說明有機(jī)EL裝置的形成材料和制造方法等。
[0052] 支承基板和密封基板
[0053] 所述帶狀的支承基板和帶狀的密封基板均為柔性的片狀物。所述帶狀的支承基板 和密封基板各自的長度（長度方向上的長度）并未特別限定，例如為l〇m~1000m。另外， 所述支承基板的寬度（寬度方向上的長度）也并未特別限定，例如為l〇mm~300mm，優(yōu)選為 10mm~100mm。此外，在圖1所示的有機(jī)EL裝置1中，由于在支承基板2的寬度方向上的 兩側(cè)配置有端子31a、32a，因此，所述密封基板5的寬度略微小于支承基板2的寬度。
[0054] 對于所述支承基板和密封基板，在兩個基板為不透明的前提下，既可以是其中一 個基板為透明且另一個基板為不透明，或者，也可以是兩個基板均為透明。此外，所述透明 指的是無色透明或有色透明。作為所述透明的指標(biāo)，例如能夠例示出總透光率為70%以上， 優(yōu)選80 %以上的例子。但是，所述總透光率是指通過基于JIS K7105 (塑料的光學(xué)特性試驗 方法）的測定方法而測定的值。在要形成底部發(fā)光型的有機(jī)EL裝置的情況下，使用透明的 支承基板，在要形成頂部發(fā)光型的有機(jī)EL裝置的情況下，使用透明的密封基板。
[0055] 在本發(fā)明中，作為支承基板和密封基板，使用能夠防止水分、氧等進(jìn)入的、氣體阻 隔性和水蒸氣阻隔性優(yōu)異的基板。作為支承基板和密封基板，例如，能夠從金屬片、樹脂片、 玻璃片、陶瓷片等中適當(dāng)選擇并使用。此外，在本說明書中，片包括通常被稱作膜的構(gòu)件。支 承基板和密封基板可以是不同材質(zhì)的片、相同種類的片、相同的片中的任意一者，但優(yōu)選使 用材質(zhì)互不相同的片。例如，作為支承基板，使用金屬片或玻璃片，作為密封基板，使用樹脂 片。
[0056] 所述金屬片并未特別限定，可列舉出例如由不銹鋼、銅、鈦、錯、合金等構(gòu)成的柔性 的薄板。所述金屬片的厚度例如為10 um~100 ym。
[0057] 所述樹脂片并未特別限定，例如，可列舉出：由聚對苯二甲酸乙二醇酯（PET)、聚 萘二甲酸乙二醇酯（PEN)、聚對苯二甲酸丁二醇酯（PBT)等聚酯系樹脂；聚乙烯（PE)、聚丙 烯（PP)、聚甲基戊烯（PMP)、乙烯一丙烯共聚物、乙烯一醋酸乙烯酯共聚物（EVA)等以a - 烯烴為單體成分的烯烴系樹脂；聚氯乙烯（PVC);醋酸乙烯酯系樹脂；聚碳酸酯（PC);聚苯 硫醚（PPS);聚酰胺（尼龍）、全芳香族聚酰胺（芳族聚酰胺）等酰胺系樹脂；聚酰亞胺系樹 脂；聚醚醚酮（PEEK)等形成的柔性的合成樹脂片。所述樹脂片的厚度并未特別限定，例如 為10 y m~200 y m。由于能夠賦予良好的氣體阻隔性和水蒸氣阻隔性，因此也可以在所述 樹脂片中的至少一側(cè)的面上層疊所述阻隔層。
[0058] 另外，為了防止驅(qū)動時有機(jī)EL裝置的溫度上升，優(yōu)選的是，所述支承基板和密封 基板的散熱性優(yōu)異。此外，在作為支承基板和密封基板而使用導(dǎo)電性基板（金屬片等）的 情況下，為了相對于相面對的電極絕緣而在所述支承基板的表面或密封基板的背面設(shè)置絕 緣層。
[0059] 作為所述支承基板和密封基板，優(yōu)選使用線膨脹系數(shù)互不相同的基材。例如，作為 所述支承基板，使用線膨脹系數(shù)比密封基板的線膨脹系數(shù)大的基板（在該情況下，密封基 板是線膨脹系數(shù)較小的基板）?；蛘?，作為所述支承基板，使用線膨脹系數(shù)比密封基板的線 膨脹系數(shù)小的基板（在該情況下，密封基板是線膨脹系數(shù)較大的基板）。如上所述，支承基 板的線膨脹系數(shù)可以大于或小于密封基板的線膨脹系數(shù)。
[0060] 所述支承基板的線膨脹系數(shù)與密封基板的線膨脹系數(shù)之差只要大于零，就并不 受特別限定，但若該差過小，則有時不能充分地發(fā)揮基于線膨脹系數(shù)之差的、有機(jī)EL裝置 的打卷性消除效果。從該觀點出發(fā)，所述差優(yōu)選為〇. lppm/°C以上，更優(yōu)選為0. 5ppm/°C以 上，進(jìn)一步優(yōu)選為lppm/°C以上。即使所述差過大，對打卷性消除效果也基本上沒有不良影 響，但在使用通用的支承基板和密封基板的情況下，所述差例如為30ppm/°C以下，優(yōu)選為 20ppm/°C 以下。
[0061] 此外，支承基板的線膨脹系數(shù)與密封基板的線膨脹系數(shù)之差是兩線膨脹系數(shù)相減 后的絕對值。即，支承基板的線膨脹系數(shù)與密封基板的線膨脹系數(shù)之差=I支承基板的線 膨脹系數(shù)一密封基板的線膨脹系數(shù)I。
[0062] 另外，所述線膨脹系數(shù)是通過基于JIS K 7197的TMA法（熱機(jī)械分析法）測得的 值。
[0063] 所述線膨脹系數(shù)較大的基板的線膨脹系數(shù)例如為19ppm/°C~30ppm/°C。
[0064] 所述線膨脹系數(shù)較小的基板的線膨脹系數(shù)例如為4ppm/°C~18ppm/°C。
[0065] 通常，可以說樹脂片的線膨脹系數(shù)大于金屬片、玻璃片等的線膨脹系數(shù)，但根據(jù)它 們的材質(zhì)的不同，也存在樹脂片的線膨脹系數(shù)小于金屬片、玻璃片等的線膨脹系數(shù)的情況。 因此，要考慮材質(zhì)等來適當(dāng)選擇線膨脹系數(shù)較大的基板和線膨脹系數(shù)較小的基板。
[0066] 在1個優(yōu)選實施方式中，作為所述線膨脹系數(shù)較小的支承基板而使用不銹鋼薄板 等金屬片（在表面上設(shè)有絕緣層的金屬片），作為所述線膨脹系數(shù)較大的密封基板而使用 聚對苯二甲酸乙二醇酯片等樹脂片（優(yōu)選的是，層疊有阻隔層的樹脂片）。
[0067] 在另一優(yōu)選實施方式中，作為所述線膨脹系數(shù)較大的支承基板而使用聚對苯二甲 酸乙二醇酯片等樹脂片（優(yōu)選的是，層疊有阻隔層的樹脂片），作為所述線膨脹系數(shù)較小的 密封基板而使用不銹鋼薄板等金屬片。
[0068] 也可以是，為了對所述金屬片和樹脂片賦予期望的功能而在所述金屬片和樹脂片 上層疊任意的層。
[0069] 具有第一電極、有機(jī)層以及第二電極的有機(jī)EL元件
[0070] 所述第一電極例如為陽極。
[0071] 所述第一電極（陽極）的形成材料并未特別限定，可列舉出例如氧化銦錫（ITO); 含有氧化娃的氧化銅錫（ITSO);錯；金；鉬；鎮(zhèn)；鶴；銅；以及合金等。在要形成底部發(fā)光型 的有機(jī)EL裝置的情況下，使用透明的第一電極。
[0072] 第一電極的厚度并未特別限定，通常為0.01ym~1.0ym。
[0073] 有機(jī)層是至少具有兩個層的層疊構(gòu)造。作為有機(jī)層的構(gòu)造，可列舉出例如（A)具 有空穴輸送層、發(fā)光層、以及電子輸送層這3個層的構(gòu)造、（B)具有空穴輸送層和發(fā)光層這 兩個層的構(gòu)造、以及（C)具有發(fā)光層和電子輸送層這兩個層的構(gòu)造等。
[0074] 所述⑶的有機(jī)層的發(fā)光層兼用作電子輸送層。所述（C)的有機(jī)層的發(fā)光層兼用 作空穴輸送層。
[0075] 用于本發(fā)明的有機(jī)層也可以是所述（A)~（C)中的任意一種構(gòu)造。
[0076] 以下，說明具有所述（A)的構(gòu)造的有機(jī)層。
[0077] 空穴輸送層設(shè)在第一電極的表面。但是，在不降低有機(jī)EL元件的發(fā)光效率的前提 下，也可以在第一電極與空穴輸送層之間設(shè)有除此以外的任意的功能層。
[0078] 例如，也可以在第一電極的表面設(shè)置空穴注入層，并在該空穴注入層的表面設(shè)置 空穴輸送層?？昭ㄗ⑷雽邮蔷哂休o助從陽極層向空穴輸送層注入空穴的功能的層。
[0079] 對于空穴輸送層的形成材料，只要其是具有空穴輸送功能的材料，就并不受特別 限定。作為空穴輸送層的形成材料，可以舉出4,4'，4"一三（咔唑一 9 一基）一三苯胺（簡 稱：TcTa)等芳香族胺化合物；1，3 -雙（N -咔唑基）苯等咔唑衍生物；N，N' 一雙（萘一 1 一基）一 N，N' 一雙（苯基）一 9, 9' 一螺雙芴（簡稱：Spiro - NPB)等螺環(huán)化合物；高分 子化合物等?？昭ㄝ斔蛯拥男纬刹牧峡梢詥为毷褂?種或組合使用兩種以上。另外，空穴 輸送層也可以是兩層以上的多層構(gòu)造。
[0080] 空穴輸送層的厚度并未特別限定，從降低驅(qū)動電壓這樣的觀點出發(fā)，優(yōu)選為 lnm ~500nm〇
[0081] 發(fā)光層被設(shè)置在空穴輸送層的表面上。
[0082] 對于發(fā)光層的形成材料，其只要是具有發(fā)光性的材料，就并未特別限定。作為發(fā)光 層的形成材料，能夠使用例如低分子熒光發(fā)光材料、低分子磷光發(fā)光材料等低分子發(fā)光材 料。
[0083] 作為低分子發(fā)光材料，可以舉出例如4, 4'一雙（2, 2'一二苯乙烯基）一聯(lián)苯（簡 稱：DPVBi)等芳香族二亞甲基化合物；5 -甲基一 2 - [2 -