本發(fā)明涉及制作電路板的技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及電路板及對(duì)位治具。

背景技術(shù)：

電路板可以使電路迷你化、直觀化，廣泛應(yīng)用于各種電子產(chǎn)品中，對(duì)于固定電路的批量生產(chǎn)和優(yōu)化用電器布局起重要的作用。在電路板的制作過(guò)程中，需要通過(guò)對(duì)位區(qū)將多層基板對(duì)位復(fù)合，但是傳統(tǒng)基板上的對(duì)位區(qū)只是簡(jiǎn)單的圓形，容易在圓周方向上出現(xiàn)對(duì)位偏差，無(wú)法準(zhǔn)確快速地對(duì)齊多層基板，對(duì)位效率低。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

基于此，有必要提供一種制作過(guò)程中對(duì)位效率較高的電路板。

還有必要提供一種用于對(duì)位復(fù)合電路板基板的對(duì)位治具。

一種電路板，包括相鄰的第一基板和第二基板，所述第一基板和所述第二基板上分別設(shè)有第一對(duì)位圖形和第二對(duì)位圖形，所述第一對(duì)位圖形包括第一遮光區(qū)和第一透光區(qū)，所述第一基板上沿至少兩個(gè)不同的方向分別分布有間隔設(shè)置的所述第一遮光區(qū)和所述第二透光區(qū)，所述第二對(duì)位圖形包括對(duì)應(yīng)所述第一遮光區(qū)設(shè)置的第二透光區(qū)、以及對(duì)應(yīng)所述第一透光區(qū)設(shè)置的第二遮光區(qū)。

上述電路板中的第一基板和第二基板對(duì)位時(shí)需要借助光源照射第一對(duì)位圖形和第二對(duì)位圖形，對(duì)應(yīng)第一對(duì)位圖形的第一透光區(qū)第二對(duì)位圖形上設(shè)置第二遮光區(qū)，對(duì)應(yīng)第一對(duì)位圖形的第一遮光區(qū)第二對(duì)位圖形上設(shè)置第二透光區(qū)，如此對(duì)位時(shí)可以通過(guò)遮住光線對(duì)齊第一基板和第二基板，并且沿至少兩個(gè)不同的方向分布間隔設(shè)置的第一遮光區(qū)和第一透光區(qū)，如此通過(guò)兩個(gè)不同方向的對(duì)位可以準(zhǔn)確地復(fù)合第一基板和第二基板，避免出現(xiàn)對(duì)位偏差，對(duì)位的準(zhǔn)確率及效率較高。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第一基板上沿相互垂直的多個(gè)方向分別分布有間隔設(shè)置的所述第一遮光區(qū)和所述第一透光區(qū)，所述第二遮光區(qū)和所述第二透光區(qū)分別對(duì)應(yīng)所述第一透光區(qū)和所述第一遮光區(qū)設(shè)置。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第一遮光區(qū)、所述第一透光區(qū)、所述第二遮光區(qū)及所述第二透光區(qū)的形狀均為相同的方形，所述第一基板上沿多個(gè)相互垂直的方向分布間隔設(shè)置的所述第一遮光區(qū)和所述第一透光區(qū)形成九宮格，所述第二遮光區(qū)和所述第二透光區(qū)分別對(duì)應(yīng)所述第一透光區(qū)和所述第一遮光區(qū)設(shè)置。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第一對(duì)位圖形還包括第一遮光邊框，所述第二對(duì)位圖形還包括與所述第一遮光邊框?qū)?yīng)的第二遮光邊框，所述第一遮光區(qū)和所述第二透光區(qū)間隔設(shè)置于所述第一遮光邊框內(nèi)，所述第二遮光區(qū)與所述第二透光區(qū)間隔設(shè)置于所述第二遮光邊框內(nèi)。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第一基板上還設(shè)有第一輔助對(duì)位圖形，所述第二基板上設(shè)有與所述第一輔助對(duì)位圖形對(duì)應(yīng)的第二輔助對(duì)位圖形。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第一輔助對(duì)位圖形包括第一內(nèi)環(huán)遮光區(qū)、第一外環(huán)遮光區(qū)、第一圓形透光區(qū)和第一環(huán)形透光區(qū)，所述第一內(nèi)環(huán)遮光區(qū)和所述第一外環(huán)遮光區(qū)同心間隔設(shè)置，所述第一內(nèi)環(huán)遮光圍合于所述第一圓形透光區(qū)外，所述第一環(huán)形透光區(qū)位于間隔設(shè)置的所述第一內(nèi)環(huán)遮光區(qū)和所述第一外環(huán)遮光區(qū)之間，所述第二輔助對(duì)位圖形包括第二圓形遮光區(qū)、第二環(huán)形遮光區(qū)及第二環(huán)形透光區(qū)，所述第二圓形遮光區(qū)和所述第二環(huán)形遮光區(qū)分別對(duì)應(yīng)所述第一圓形透光區(qū)和所述第一環(huán)形透光區(qū)間隔設(shè)置，所述第二環(huán)形透光區(qū)形成于間隔設(shè)置的所述第二圓形遮光區(qū)和所述第二環(huán)形遮光區(qū)之間。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，還包括第一菲林和第二菲林，所述第一菲林設(shè)于所述第一基板上，所述第二菲林設(shè)于所述第二基板上，且所述第一對(duì)位圖形和所述第二對(duì)位圖形分別通過(guò)所述第一菲林和所述第二菲林曝光得到。

一種對(duì)位治具，用于復(fù)合電路板中的多層基板，所述基板上設(shè)有對(duì)位圖形，包括工作臺(tái)及光源，所述工作臺(tái)上對(duì)應(yīng)所述對(duì)位圖形開(kāi)設(shè)有透光孔，所述光源對(duì)應(yīng)所述透光孔設(shè)于所述工作臺(tái)內(nèi)。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，還包括限位銷(xiāo)，所述限位銷(xiāo)設(shè)于所述工作臺(tái)上且可穿過(guò)所述基板。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述基板的至少兩個(gè)對(duì)角上分別設(shè)有至少兩個(gè)所述對(duì)位圖形，所述工作臺(tái)上對(duì)應(yīng)至少兩個(gè)所述對(duì)位圖形開(kāi)設(shè)有至少兩個(gè)所述透光孔。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明一實(shí)施例中電路板第一基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為與圖1所示第一基板對(duì)位復(fù)合的第二基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明一實(shí)施例中對(duì)位治具的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

為了便于理解本發(fā)明，下面將參照相關(guān)附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)行更全面的描述。附圖中給出了本發(fā)明的較佳的實(shí)施例。但是，本發(fā)明可以以許多不同的形式來(lái)實(shí)現(xiàn)，并不限于本文所描述的實(shí)施例。相反地，提供這些實(shí)施例的目的是使對(duì)本發(fā)明的公開(kāi)內(nèi)容的理解更加透徹全面。

需要說(shuō)明的是，當(dāng)元件被稱(chēng)為“固定于”另一個(gè)元件，它可以直接在另一個(gè)元件上或者也可以存在居中的元件。當(dāng)一個(gè)元件被認(rèn)為是“連接”另一個(gè)元件，它可以是直接連接到另一個(gè)元件或者可能同時(shí)存在居中元件。本文所使用的術(shù)語(yǔ)“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及類(lèi)似的表述只是為了說(shuō)明的目的。

除非另有定義，本文所使用的所有的技術(shù)和科學(xué)術(shù)語(yǔ)與屬于本發(fā)明的技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員通常理解的含義相同。本文中在本發(fā)明的說(shuō)明書(shū)中所使用的術(shù)語(yǔ)只是為了描述具體的實(shí)施例的目的，不是旨在于限制本發(fā)明。本文所使用的術(shù)語(yǔ)“及/或”包括一個(gè)或多個(gè)相關(guān)的所列項(xiàng)目的任意的和所有的組合。

如圖1～2所示，本發(fā)明一實(shí)施例中的電路板100包括相鄰的第一基板10和第二基板30，第一基板10和第二基板30上分別設(shè)有第一對(duì)位圖形12和第二對(duì)位圖形32，第一對(duì)位圖形12包括第一遮光區(qū)121和第一透光區(qū)123，第一基板10上沿至少兩個(gè)不同的方向分別分布有間隔設(shè)置的第一遮光區(qū)121和第一透光區(qū)123，第二對(duì)位圖形32包括對(duì)應(yīng)第一遮光區(qū)121設(shè)置的第二透光區(qū)321、以及對(duì)應(yīng)第一透光區(qū)123設(shè)置的第二遮光區(qū)323。

上述電路板100中的第一基板10和第二基板30對(duì)位時(shí)需要借助光源照射第一對(duì)位圖形12和第二對(duì)位圖形32，對(duì)應(yīng)第一對(duì)位圖形12的第一透光區(qū)123第二對(duì)位圖形32上設(shè)置第二遮光區(qū)323，對(duì)應(yīng)第一對(duì)位圖形12的第一遮光區(qū)121第二對(duì)位圖形32上設(shè)置第二透光區(qū)321，如此對(duì)位時(shí)可以通過(guò)遮住光線對(duì)齊第一基板10和第二基板30，并且沿至少兩個(gè)不同的方向分布間隔設(shè)置的第一遮光區(qū)121和第一透光區(qū)123，通過(guò)兩個(gè)不同方向的對(duì)位可以準(zhǔn)確地復(fù)合第一基板10和第二基板30，避免出現(xiàn)對(duì)位偏差，對(duì)位的準(zhǔn)確率及效率較高。

在一個(gè)實(shí)施例中，電路板100還包括第一菲林(圖未示)和第二菲林(圖未示)，第一菲林設(shè)于第一基板10上，第二菲林設(shè)于第二基板30上，且第一對(duì)位圖形12和第二對(duì)位圖形32分別通過(guò)第一菲林和第二菲林曝光得到，如此通過(guò)對(duì)第一菲林和第二菲林的曝光得到遮光區(qū)域和透光區(qū)域，用于透光或者遮光以復(fù)合對(duì)位相鄰的第一基板10和第二基板30。

在一個(gè)實(shí)施例中，第一基板10上沿相互垂直的多個(gè)方向分別分布有間隔設(shè)置的第一遮光區(qū)121和第一透光區(qū)123，第二透光區(qū)321和第二遮光區(qū)323分別對(duì)應(yīng)第一遮光區(qū)121和第一透光區(qū)123設(shè)置，如此通過(guò)相互垂直方向上的第一遮光區(qū)121和第二遮光區(qū)123可以準(zhǔn)確對(duì)位相鄰的第一基板10和第二基板30。

具體地，第一遮光區(qū)121、第一透光區(qū)123、第二透光區(qū)321和第二遮光區(qū)323的形狀均為方形，第一基板10上沿多個(gè)相互垂直的方向分布間隔設(shè)置的第一遮光區(qū)121和第二透光區(qū)123形成九宮格，第二透光區(qū)321和第二遮光區(qū)323分別對(duì)應(yīng)第一遮光區(qū)121和第一透光區(qū)123設(shè)置，如此可以從九宮格的各個(gè)方向全方位對(duì)齊第一基板10和第二基板30，并且九宮格的特殊形狀在基板上便于識(shí)別，便于提高對(duì)位的準(zhǔn)確率及效率。可以理解地，在其他一些實(shí)施例中，第一遮光區(qū)121、第一透光區(qū)123、第二透光區(qū)321和第二遮光區(qū)323的形狀也可以為其他多邊形，同樣的第一對(duì)位圖形12和第二對(duì)位圖形32也可以為其他形狀，例如第一遮光區(qū)121和第一透光區(qū)123拼接形成六邊形等，在此不做限定。

在一個(gè)實(shí)施例中，第一對(duì)位圖形12還包括第一遮光邊框125，第二對(duì)位圖形還包括與第一遮光邊框125對(duì)應(yīng)的第二遮光邊框325，第一遮光區(qū)121和第一透光區(qū)123間隔設(shè)置于第一遮光邊框125內(nèi)，第二透光區(qū)321和第二遮光區(qū)323間隔設(shè)置于第二遮光邊框325內(nèi)，如此在第一基板10上劃分出第一對(duì)位圖形12的區(qū)域，在第二基板20上劃分出第二對(duì)位圖形32的區(qū)域，便于識(shí)別和區(qū)分。具體地，第一遮光邊框125和第二遮光邊框325均為相對(duì)應(yīng)的四邊形邊框，四邊形邊框內(nèi)分布形成九宮格形狀的第一對(duì)位圖形12以及第二對(duì)位圖形32。

在一個(gè)實(shí)施例中，第一基板10上還設(shè)有第一輔助對(duì)位圖形14，第二基板30上還設(shè)有與第一輔助對(duì)位圖形14對(duì)應(yīng)的第二輔助對(duì)位圖形34，如此通過(guò)第一對(duì)位圖形12和第二對(duì)位圖形32完成對(duì)位后，可以通過(guò)第一輔助對(duì)位圖形14和第二輔助對(duì)位圖形34檢查對(duì)位的準(zhǔn)確性，更加精確的實(shí)現(xiàn)第一基板10和第二基板30的復(fù)合對(duì)位。

進(jìn)一步地，第一輔助對(duì)位圖形14包括第一內(nèi)環(huán)遮光區(qū)141、第一外環(huán)遮光區(qū)143、第一圓形透光區(qū)145及第一環(huán)形透光區(qū)147，第一內(nèi)環(huán)遮光區(qū)141圍合于第一圓形透光區(qū)145外，第一環(huán)形透光區(qū)147位于間隔設(shè)置的第一內(nèi)環(huán)遮光區(qū)141和第一外環(huán)遮光區(qū)143之間，第二輔助對(duì)位圖形34包括第二圓形遮光區(qū)341、第二環(huán)形遮光區(qū)343及第二環(huán)形透光區(qū)345，第二圓形遮光區(qū)341和第二環(huán)形遮光區(qū)343分別對(duì)應(yīng)第一圓形透光區(qū)145和第一環(huán)形透光區(qū)147間隔設(shè)置，第二環(huán)形透光區(qū)345位于間隔設(shè)置的第二圓形遮光區(qū)341和第二環(huán)形遮光區(qū)343之間，通過(guò)第一輔助對(duì)位圖形14和第二輔助對(duì)位圖形34中圓形或環(huán)形遮光和透光區(qū)域的相互配合，檢查第一基板10和第二基板30是否準(zhǔn)確對(duì)位，便于及時(shí)發(fā)現(xiàn)對(duì)位不合格的產(chǎn)品，提高對(duì)位復(fù)合的準(zhǔn)確率。并且圓形或環(huán)形的遮光、透光區(qū)對(duì)于對(duì)位準(zhǔn)確率的要求相對(duì)九宮格較低，在九宮格形的對(duì)位區(qū)對(duì)位完成沒(méi)有光線透過(guò)時(shí)，一般輔助對(duì)位區(qū)也不會(huì)有光線透過(guò)，輔助對(duì)位區(qū)只是做進(jìn)一步的對(duì)位保障，但對(duì)位準(zhǔn)確率的要求相對(duì)較低，不會(huì)花費(fèi)太多對(duì)位時(shí)間，不會(huì)影響對(duì)位效率，如此在保證對(duì)位效率的前提下進(jìn)行對(duì)位準(zhǔn)確率的進(jìn)一步保障。

基于上述電路板100，本發(fā)明還提供一種用于復(fù)合電路板100中多層基板的對(duì)位治具200，基板上設(shè)有對(duì)位圖形，該對(duì)位治具200包括工作臺(tái)210及光源(圖未示)，工作臺(tái)210上對(duì)應(yīng)對(duì)位圖形開(kāi)設(shè)有透光孔212，光源對(duì)應(yīng)透光孔212設(shè)于工作臺(tái)210內(nèi),如此光源產(chǎn)生的光線可以通過(guò)透光孔212投射至對(duì)位圖形上進(jìn)行基板的對(duì)位復(fù)合，而在工作臺(tái)210上只在對(duì)應(yīng)對(duì)位圖形的位置開(kāi)設(shè)透光孔212，盡量減少光線對(duì)眼部的刺激，降低操作人員眼部的疲勞，提高對(duì)位效率。其中，電路板100中的多層基板可以是相鄰的第一基板10和第二基板30，對(duì)位圖形可以是分別設(shè)于第一基板10和第二基板30上的第一對(duì)位圖形12和第二對(duì)位圖形32。具體地，對(duì)位治具200還包括設(shè)于工作臺(tái)210內(nèi)與光源電連接的電源230，為光源提供電量。

進(jìn)一步地，對(duì)位治具200還包括限位銷(xiāo)250，限位銷(xiāo)250設(shè)于工作臺(tái)210上且可穿過(guò)基板，可以通過(guò)限位銷(xiāo)250將第一基板10和第二基板20固定在工作臺(tái)210上，防止第一基板10和第二基板20在工作臺(tái)210上滑動(dòng)，便于對(duì)位操作?？蛇x地，限位銷(xiāo)250的長(zhǎng)度為1.95mm。

具體地，基板的至少兩個(gè)對(duì)角上分別設(shè)有至少兩個(gè)對(duì)位圖形，工作臺(tái)210上對(duì)應(yīng)至少兩個(gè)對(duì)位圖形開(kāi)設(shè)有至少兩個(gè)透光孔212，基板的至少兩個(gè)對(duì)角上設(shè)置對(duì)位圖形，以復(fù)合對(duì)位各層基板，相對(duì)應(yīng)的透光孔212至少設(shè)置有兩個(gè)以將光源230的光透射至對(duì)位圖形上。可選地，基板的四個(gè)頂角處均設(shè)有對(duì)位圖形，工作臺(tái)210上對(duì)應(yīng)開(kāi)設(shè)有四個(gè)透光孔212。

以上所述實(shí)施例的各技術(shù)特征可以進(jìn)行任意的組合，為使描述簡(jiǎn)潔，未對(duì)上述實(shí)施例中的各個(gè)技術(shù)特征所有可能的組合都進(jìn)行描述，然而，只要這些技術(shù)特征的組合不存在矛盾，都應(yīng)當(dāng)認(rèn)為是本說(shuō)明書(shū)記載的范圍。

以上所述實(shí)施例僅表達(dá)了本發(fā)明的幾種實(shí)施方式，其描述較為具體和詳細(xì)，但并不能因此而理解為對(duì)發(fā)明專(zhuān)利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。因此，本發(fā)明專(zhuān)利的保護(hù)范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。