本實(shí)用新型涉及一種電機(jī)(馬達(dá)),尤其涉及電機(jī)馬達(dá)的定子的絕緣體。
背景技術(shù):
電機(jī)的基本構(gòu)成包括轉(zhuǎn)軸、固定于轉(zhuǎn)軸上的轉(zhuǎn)子以及和轉(zhuǎn)子相對(duì)的定子。
圖1是一俯視示意圖,示意地示出電機(jī)50的基本構(gòu)成。電機(jī)50具有轉(zhuǎn)軸51、轉(zhuǎn)子52、定子1、和電機(jī)外殼5。圖2是一立體圖,示意性地示出電機(jī)50的定子1。
定子1具有鐵芯2、絕緣體3和線圈4。鐵芯2通過(guò)層疊鋼板而形成。另外,鐵芯2具有齒部22和呈圓環(huán)狀的圓環(huán)部21。齒部22由從圓環(huán)部21的內(nèi)側(cè)向其中心突出的12個(gè)單元齒部22a構(gòu)成。在各單元齒部22a上隔著絕緣性的絕緣體3卷繞著導(dǎo)線,通過(guò)同心繞法形成線圈4。也就是說(shuō),在齒部22上形成有由12個(gè)線圈4構(gòu)成的線圈組。另外,導(dǎo)線被收納于彼此相鄰的單元齒部22a之間的12個(gè)空間槽6中。
鐵芯2通過(guò)連結(jié)12個(gè)單元鐵芯2a而形成。圖3是立體圖,示意性地示出一對(duì)單元鐵芯2a。各單元鐵芯2a沿軸向延伸且呈具有大致T字狀截面的外觀形狀,各單元鐵芯2a分別具有1個(gè)單元齒部22a和包繞單元齒部22a的絕緣體3。
單元鐵芯2a的橫截面呈大致T字狀,絕緣體3呈上絕緣件3a和下絕緣件3b兩部分,圖4示出上絕緣件3a和下絕緣件3b的端部部分。上絕緣件3a和下絕緣件3b分別從單元鐵芯2a上方和下方彼此靠近合攏,上絕緣件3a和下絕緣件3b的端部彼此無(wú)縫重疊,如圖4所示。但是如果在從重疊部分之間嵌入異物,或加工后的表面有凹凸形狀,則絕緣體3的該重疊部分的外部會(huì)鼓出,使纏繞在其上的線圈也鼓出,則會(huì)影響電機(jī)馬達(dá)的性能,這是不希望發(fā)生的現(xiàn)象。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
根據(jù)本實(shí)用新型,提供一種馬達(dá),包括轉(zhuǎn)子、定子以及軸,
所述定子由定子鐵芯、覆蓋于所述定子鐵芯的絕緣體以及纏繞在所述絕緣體上的線圈構(gòu)成,
其中,所述定子鐵芯包括環(huán)狀的鐵芯背部和多個(gè)從鐵芯背部沿徑向突出延伸的齒部,所述齒部的外表面包括上表面、下表面和在所述上表面與所述下表面之間的側(cè)表面,
所述絕緣體覆蓋所述齒部的所述上表面、所述下表面和所述側(cè)表面,所述絕緣體包括:
上絕緣件,所述上絕緣件包括上主體層和從所述上主體層延伸的位于所述上絕緣件兩側(cè)尾部的上重疊層;以及
下絕緣件,所述下絕緣件包括下主體層和從所述下主體層延伸的位于所述下絕緣件兩側(cè)尾部的下重疊層;
其特征在于,所述上絕緣件的所述上重疊層與所述下絕緣件的所述下重疊層周向上彼此重疊,并且,在所述上重疊層與所述下重疊層的周向之間留有間隙。
在一個(gè)較佳的技術(shù)方案中,所述上重疊層與所述下重疊層彼此重疊的重疊表面傾斜,使得所述上重疊層與所述下重疊層的厚度朝向所述絕緣件兩側(cè)尾部的端部變薄。
在一個(gè)較佳的技術(shù)方案中,所述上重疊層與所述下重疊層的所述重疊表面沿縱向相對(duì)于所述齒部的所述側(cè)表面傾斜2.9度。
在一個(gè)較佳的技術(shù)方案中,所述上絕緣件的一側(cè)的所述上重疊層的所述重疊表面背對(duì)所述齒部的所述側(cè)表面,另一側(cè)的所述上重疊層的所述重疊表面面對(duì)所述齒部的所述側(cè)表面;
所述下絕緣件的一側(cè)的所述下重疊層的所述重疊表面面對(duì)所述齒部的所述側(cè)表面,另一側(cè)的所述下重疊層的所述重疊表面背對(duì)所述齒部的所述側(cè)表面。
在一個(gè)較佳的技術(shù)方案中,所述上絕緣件和所述下絕緣件之一的兩側(cè)的所述重疊表面面對(duì)所述齒部的所述側(cè)表面,所述上絕緣件和所述下絕緣件之另一個(gè)的兩側(cè)的所述重疊表面背對(duì)所述齒部的所述側(cè)表面。
在一個(gè)較佳的技術(shù)方案中,所述上主體層以及所述下主體層的一方在軸向上的投影的周向范圍與另一方在軸向上的投影的周向范圍重疊,所述上重疊層以及所述下重疊層在軸向上的投影的周向范圍包含于所述上主體層以及所述下主體層在軸向上的投影的周向范圍。
在一個(gè)較佳的技術(shù)方案中,所述齒部從所述鐵芯背部沿徑向向內(nèi)突出延伸。
在一個(gè)較佳的技術(shù)方案中,所述上重疊層的上端與所述上主體層的下端之間具有上連接傾斜面,所述上連接傾斜面的傾斜度大于所述重疊表面的傾斜度。
在一個(gè)較佳的技術(shù)方案中,所述下重疊層的下端與所述下主體層的上端之間具有下連接傾斜面,所述下連接傾斜面的傾斜度大于所述重疊表面的傾斜度。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,根據(jù)本實(shí)用新型的絕緣體在覆蓋到定子鐵芯上之后,由于上下兩半的重疊部分間具有間隙,能夠有效地吸收在絕緣體的上下兩半的重疊部分形成的鼓起,避免纏繞在其上的線圈也鼓出,從而能夠在絕緣體上卷繞符合要求的線圈,由此提高了電機(jī)馬達(dá)的性能。
附圖說(shuō)明
圖1是傳統(tǒng)電機(jī)(馬達(dá))的截面示意圖;
圖2是圖1的電機(jī)的定子的示意圖;
圖3是包繞有絕緣體的一對(duì)單元鐵芯的立體示意圖;
圖4是傳統(tǒng)馬達(dá)的單元鐵芯上的絕緣體的局部示意圖;
圖5是具有根據(jù)本實(shí)用新型的一定子的馬達(dá)的截面示意圖;
圖6是根據(jù)本實(shí)用新型的定子鐵芯的一部分的立體示意圖;
圖7a是根據(jù)本實(shí)用新型的鐵芯的絕緣體的立體示意圖;
圖7b是圖7a所示的絕緣體的重疊部分的剖面示意圖;
圖8a和8b是圖7所示的絕緣體的上絕緣件的兩個(gè)不同方向的立體示意圖;
圖9a示出絕緣體的上絕緣件的一個(gè)實(shí)施例;
圖9b示出絕緣體的上絕緣件的另一個(gè)實(shí)施例。
附圖標(biāo)記:
70:環(huán)形定子;
7:鐵芯;
71:鐵芯背部;
72:鐵芯齒部;
73:齒部的上表面;
74:齒部的側(cè)表面;
75:齒部的下表面;
76:線圈;
8:絕緣體;
8a:絕緣體的上絕緣件;
8a1:上絕緣件的上主體層;
8a2:上絕緣件的上重疊層;
8a3:上重疊層的上重疊表面;
8b:絕緣體的下絕緣件;
8b1:下絕緣件的下主體層;
8b2:下絕緣件的下重疊層;
8b3:下重疊層的下重疊表面。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖描述根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例,以說(shuō)明本實(shí)用新型的技術(shù)原理、構(gòu)造和技術(shù)效果。
本實(shí)用新型將沿軸向延伸的方向稱(chēng)為“軸向”,并將軸向一側(cè)定義為“上”,軸向另一側(cè)定義為“下”,將圍繞軸的圓周方向稱(chēng)為“周向”,將以軸為圓心的半徑方向稱(chēng)為“徑向”。以上定義只是為了方便說(shuō)明,并不限制馬達(dá)實(shí)際安裝和使用時(shí)的朝向。
本實(shí)用新型一實(shí)施方式的馬達(dá)包括定子,轉(zhuǎn)子及軸。圖5示出根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例的定子為環(huán)形定子70的示意圖,如圖6示出環(huán)形定子70中定子鐵芯的一部分的構(gòu)造。環(huán)形定子70包括定子鐵芯7、覆蓋于定子鐵芯7上的多個(gè)絕緣體8以及纏繞在絕緣體8上的多個(gè)線圈76。其中,定子鐵芯7包括環(huán)狀的鐵芯背部71和多個(gè)從鐵芯背部71沿徑向朝內(nèi)突出延伸的齒部72。
如圖6所示,齒部72的外表面包括上表面73、下表面75和在上表面73與所述下表面75之間延伸的側(cè)表面74。
圖7a示出根據(jù)本實(shí)用新型的絕緣體,其中,絕緣體的上下兩個(gè)部分已經(jīng)合在一起而形成一個(gè)完整的絕緣體。圖7b示出絕緣體的上下兩個(gè)部分合在一起之前的構(gòu)造,其中重疊部分還沒(méi)有重疊。絕緣體8覆蓋齒部72的上表面73、下表面75和側(cè)表面74。如圖7a和7b所示,絕緣體8包括上絕緣件8a和下絕緣件8b。上絕緣件8a包括呈凹形的上主體層8a1和從上主體層8a1延伸的位于上絕緣件8a兩側(cè)尾部的上重疊層8a2。下絕緣件8b包括呈凹形的下主體層8b1和從下主體層8b1延伸的位于下絕緣件8b兩側(cè)尾部的下重疊層8b2。上絕緣件8a的上重疊層8a2與下絕緣件8b的下重疊層8b2周向上彼此重疊,上重疊層8a2與下重疊層8b2分別包括彼此相對(duì)的上重疊表面8a3和下重疊表面8b3,并且,在重疊之后,在上重疊層8a2的上重疊表面8a3與下重疊層8b2的下重疊表面8b3的周向之間留有間隙。
如圖7b所示,上重疊層8a2與下重疊層8b2分別包括隔著周向間隙彼此相對(duì)且重疊的上重疊表面8a3和下重疊表面8b3,較佳的是,上重疊層8a2與下重疊層8b2彼此重疊的上重疊表面8a3和下重疊表面8b3傾斜,使得上重疊層8a2與下重疊層8b2的厚度朝向上絕緣件8a和下絕緣件8b兩側(cè)尾部的端部變薄,從而在上重疊層8a2與下重疊層8b2之間形成間隙。并且由于彼此相對(duì)且重疊的上重疊表面和下重疊表面隔著間隙傾斜,上重疊表面以及下重疊表面具有插入引導(dǎo)面的效果,由此易于將上下絕緣件進(jìn)行組裝。
圖8a和8b示出了根據(jù)本實(shí)用新型的絕緣體的上絕緣件,圖8a是從鐵芯的鐵芯背部看去的上絕緣件的立體圖,圖8b是從鐵芯的鐵芯背部的相對(duì)側(cè)看去的上絕緣件的立體圖。
圖9a是圖8所示的上絕緣件的截面示意圖。如圖9b所示,在一個(gè)較佳實(shí)施例中,上重疊層8a2的上重疊表面8a3與下重疊層8b2的下重疊表面8b3沿縱向相對(duì)于齒部722的側(cè)表面74傾斜2.9度。
在圖9a和9b示出的實(shí)施例中,在上絕緣件8a的兩側(cè)的上重疊層8a2中,左側(cè)的上重疊層8a2貼靠齒部72,使得上重疊表面8a3背對(duì)齒部72,右側(cè)的上重疊層8a2遠(yuǎn)離齒部72,使得上重疊表面8a3面對(duì)齒部72。如此,下絕緣件8b與之相對(duì)應(yīng),即在下絕緣件8b的兩側(cè)的下重疊層8b2中,左側(cè)的下重疊層8b2遠(yuǎn)離齒部72,使得下重疊表面8b3面對(duì)齒部72,右側(cè)的下重疊層8b2貼靠齒部72,使得下重疊表面8b3背對(duì)齒部72(圖中未示出)??梢岳斫獾氖牵瑘D9a和9b所示的構(gòu)造可以左右更換設(shè)置,例如,如圖7b所示。
在另一實(shí)施例中,上絕緣件8a的兩側(cè)的上重疊層8a2對(duì)稱(chēng)設(shè)置,如果設(shè)置成圖9a和9b左側(cè)的構(gòu)造,則下絕緣件8b的兩側(cè)的下重疊層8b2也對(duì)稱(chēng)設(shè)置,而且設(shè)置成圖9a和9b右側(cè)的構(gòu)造。反之亦然。即上絕緣件和下絕緣件之一的兩側(cè)的重疊表面面對(duì)齒部的側(cè)表面,上絕緣件和下絕緣件之另一個(gè)的兩側(cè)的重疊表面背對(duì)齒部的側(cè)表面。
為了克服現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷,即為了避免線圈在絕緣體的重疊部分鼓起,上主體層8a1以及下主體層8b1的一方在軸向上的投影的周向范圍與另一方在軸向上的投影的周向范圍重疊,而且上重疊層8a2以及下重疊層8b2在軸向上的投影的周向范圍至少不超過(guò)上主體層8a1以及下主體層8b1在軸向上的投影的周向范圍。由此,確保了上重疊層與下重疊層在重疊狀態(tài)下不會(huì)向兩側(cè)鼓起,由此避免了纏繞在其上的線圈在上下絕緣件重疊的部分鼓出。
在本實(shí)用新型的一個(gè)技術(shù)方案中,在上重疊層的上端與上主體層的下端之間還可以具有上連接傾斜面,其中,上連接傾斜面的傾斜度大于上重疊表面的傾斜度。在下重疊層的下端與下主體層的上端之間具有下連接傾斜面,其中,下連接傾斜面的傾斜度大于下重疊表面的傾斜度。由此,可以進(jìn)一步方便上下絕緣件的組裝,通過(guò)上、下連接傾斜面的引導(dǎo),防止在組裝過(guò)程中上重疊層以及下重疊層堆積。
本實(shí)用新型還可以改型成如下的實(shí)施例。
一種馬達(dá),包括轉(zhuǎn)子、定子以及軸,
所述定子由定子鐵芯、覆蓋于所述定子鐵芯的絕緣體以及纏繞在所述絕緣體上的線圈構(gòu)成,
其中,所述定子鐵芯包括環(huán)狀的鐵芯背部和多個(gè)從鐵芯背部沿徑向突出延伸的齒部,所述齒部的外表面包括上表面、下表面和在所述上表面與所述下表面之間的側(cè)表面,
所述絕緣體覆蓋所述齒部的所述上表面、所述下表面和所述側(cè)表面,所述絕緣體包括:
上絕緣件,所述上絕緣件包括上主體層和從所述上主體層延伸的位于所述上絕緣件兩側(cè)尾部的上重疊層;以及
下絕緣件,所述下絕緣件包括下主體層和從所述下主體層延伸的位于所述下絕緣件兩側(cè)尾部的下重疊層;
所述上絕緣件的所述上重疊層與所述下絕緣件的所述下重疊層彼此重疊,并且,所述上主體層和所述下主體層的厚度相同,所述上重疊層與所述下重疊層重疊后的總厚度小于所述上主體層和所述下主體層之一的厚度。
在此基礎(chǔ)上,可以在所述上重疊層與所述下重疊層之間形成間隙,也可以使所述上重疊層與所述下重疊層之間沒(méi)有間隙,而是使得所述上重疊層與所述下重疊層的在外側(cè)的一層厚度變薄。
以上實(shí)施例中的各個(gè)特征還可以根據(jù)本實(shí)施例原理在合理范圍內(nèi)可以作任意組合,這種組合也落入本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
上述示例性的實(shí)施例示出了解決本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題的技術(shù)方案中的示范性實(shí)施例。在該實(shí)施例的示例下,其它符合本實(shí)用新型原理的等效和類(lèi)似的手段都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍中。本實(shí)用新型的基本發(fā)明原理是,在絕緣體的上絕緣件與下絕緣件的重疊層部分之間形成間隙,使得在絕緣體的兩側(cè),上絕緣件與下絕緣件的重疊層部分的總厚度不大于上絕緣件與下絕緣件的非重疊部分的厚度。