傾斜的側(cè)壁，為晶片提供了具有導(dǎo)向作用的滑行斜面。圓錐臺1002的高度及錐度可根據(jù)需要來設(shè)計確定。所述支撐面1001可加工成平面，以獲得承載晶片時的穩(wěn)定性；也可加工成下傾的斜面，減少與晶片邊緣的接觸面積，以提高晶片的利用率并減少因摩擦產(chǎn)生顆粒的機(jī)率。
[0038]請參閱圖6，圖6是本實用新型一實施例的支撐腳本體剖面結(jié)構(gòu)示意圖。如圖6所示，在支撐腳本體100的下表面固定安裝有第二磁性體101。當(dāng)將支撐腳本體100與支撐環(huán)200進(jìn)行裝配時(請參考圖1)，可將所述第二磁性體101的下端伸入到支撐環(huán)200的滑槽2001內(nèi)，并可接觸到第一磁性體201形成磁性連接。為了使第二磁性體101可以在滑槽2001內(nèi)滑動，作為可選的實施方式，所述第二磁性體101的形狀可以加工為圓柱形或具有與所述滑槽2001相配合的弧形。這樣，支撐腳本體即可通過第二磁性體沿所述滑槽移動，既可調(diào)節(jié)支撐腳本體在支撐環(huán)圓周上的位置，又可在受到機(jī)械手側(cè)向觸碰時通過移動位置進(jìn)行避讓。本實施例選用圓柱形的第二磁性體101安裝在支撐腳本體100的下表面。一種優(yōu)選的安裝方式為，在支撐腳本體100的下表面加工出一個槽孔1003，例如位于支撐腳本體100下表面的中心部位；然后，將第二磁性體101的上端通過鑲嵌方式或螺釘連接方式固定在所述槽孔1003內(nèi)完成安裝。須使第二磁性體101的下端突出于支撐腳本體100的下表面，用于伸入到支撐環(huán)200的滑槽2001內(nèi)進(jìn)行裝配。
[0039]請參閱圖2，圖2是本實用新型一實施例的一種位置可調(diào)的支撐腳裝置的裝配效果斷開剖面結(jié)構(gòu)示意圖。如圖2所示，在將安裝有第二磁性體101的支撐腳本體100與安裝有第一磁性體201的支撐環(huán)200進(jìn)行裝配時，需要先使得所述第一、第二磁性體201、101之間的極性相反，目的是利用磁性體之間異性相吸的原理，使第一、第二磁性體201、101之間產(chǎn)生相互吸引，并通過接觸吸合在一起形成軟性連接(即受力時可以分開)。然后，將支撐腳本體100的第二磁性體101下端放入支撐環(huán)200的滑槽2001內(nèi)，與第一磁性體201相接觸并吸合在一起。裝配時，可根據(jù)機(jī)械手的進(jìn)手空間確定各支撐腳本體100之間在支撐環(huán)200上的相互安裝位置。并且，由于支撐腳本體100采用了圓柱體形式，以及具有環(huán)形對稱的支撐面1001，所以，支撐腳本體100可以任意角度與支撐環(huán)200配合，都能形成自動對心狀態(tài)。從而在向支撐腳本體100安裝第二磁性體101時，無須考慮相對安裝角度，使安裝非常便利且易于加工。
[0040]請繼續(xù)參閱圖2。為了能夠調(diào)節(jié)支撐腳本體100的支撐面1001與支撐環(huán)200之間的中心距離(即支撐面1001中心、也即圓錐臺1002中心到支撐環(huán)200圓心的投影距離)，以便準(zhǔn)確地調(diào)整各支撐腳本體100與晶片300之間的放置間隙，可以使所述第二磁性體101 (至少是其伸入滑槽2001的下端部分)與所述滑槽2001之間在槽寬方向留有適當(dāng)?shù)拈g隙S。這樣，通過所述第二磁性體101在所述滑槽2001的寬度方向內(nèi)調(diào)整其與所述第一磁性體201之間的接觸位置，即可調(diào)整所述支撐面1001與所述支撐環(huán)200之間的中心距離。當(dāng)采用相同寬度的第一、第二磁性體201、101時，可將位于第一磁性體201上方部分滑槽2001的槽寬適當(dāng)加寬，例如圖示的滑槽2001在第一磁性體201的上方具有大于第一、第二磁性體201、101寬度的較寬槽寬，即加工出一個臺階(與圖4所示的滑槽2001結(jié)構(gòu)一致)。
[0041]請繼續(xù)參閱圖2?，F(xiàn)有技術(shù)中的支撐腳本體在安裝后(通過緊固件)，位置即被固定不能移動。在調(diào)試中一旦發(fā)生機(jī)械手撞車的情況，極易損壞機(jī)械手。為了解決該問題，本實用新型將所述第二磁性體101 (至少是其伸入滑槽2001的下端部分)與所述滑槽2001之間在槽寬方向留有的間隙距離s設(shè)計成大于所述第二磁性體101下端伸入所述滑槽2001內(nèi)的高度距離t (即圖4中第一磁性體201與滑槽2001槽口之間的垂直高度距離t)。由于t < S，當(dāng)機(jī)械手因誤操作與支撐腳本體100撞車時，由于第一、第二磁性體201、101之間采用的是磁性軟連接方式，在受到機(jī)械手觸碰時，支撐腳本體100可發(fā)生沿滑槽2001滑動或倒伏的現(xiàn)象，將機(jī)械手的力加以卸除，從而可以避免對機(jī)械手造成的損壞。
[0042]如圖6所示，作為進(jìn)一步的優(yōu)選實施例，可在第二磁性體101的下端外周加工一定大小的倒角1011，以使得支撐腳本體100在受力時更加容易發(fā)生倒伏，進(jìn)一步提高對機(jī)械手的保護(hù)能力。
[0043]作為可選的實施例，上述的第一、第二磁性體201、101可以采用磁鐵進(jìn)行加工。當(dāng)然，也可以選用其他現(xiàn)有適用的各類磁性體。
[0044]從公告號為CN 102840425 B的中國實用新型專利公開的支撐腳裝置的說明書附圖可以看到，由于其晶片支撐面位于支撐腳本體的前端，而與支撐環(huán)的裝配位置位于支撐腳本體的后端，使得支撐環(huán)的內(nèi)徑大于晶片的外徑尺寸，這會增加設(shè)備的空間；并且，在機(jī)械手故障或調(diào)試中，當(dāng)發(fā)生機(jī)械手抓取晶片不牢或偏差時，還會導(dǎo)致晶片滑出支撐面而從支撐環(huán)的內(nèi)徑處落地破碎。而采用本實用新型的環(huán)形支撐面1001結(jié)構(gòu)，可使支撐面1001對晶片的實際承載位置相對后移，因而可縮小支撐環(huán)200的內(nèi)徑，且可小于晶片300的直徑，從而可避免晶片300從支撐環(huán)200的內(nèi)徑處跌落(請參考圖1加以理解)。設(shè)備的空間也因此得到了節(jié)省。
[0045]綜上所述，本實用新型通過磁性接觸方式形成支撐腳本體100與支撐環(huán)200之間的軟性連接，既可根據(jù)需要方便地沿支撐環(huán)200圓周任意調(diào)節(jié)安裝位置及對心距離，又可使支撐腳本體100在受到機(jī)械手觸碰時沿滑槽2001產(chǎn)生滑動或脫離滑槽2001，從而避免了機(jī)械手的損壞；采用環(huán)形支撐面1001結(jié)構(gòu)，使支撐面1001相對后移，可縮小支撐環(huán)200的直徑，避免晶片300從支撐環(huán)200的內(nèi)徑處跌落，并可實現(xiàn)360度自動對心。因此，本實用新型克服了現(xiàn)有技術(shù)中支撐腳單一性安裝方式的缺陷，具有結(jié)構(gòu)簡單、易實現(xiàn)、可不受設(shè)備結(jié)構(gòu)限制、節(jié)省設(shè)備空間的顯著優(yōu)點。
[0046]以上所述的僅為本實用新型的優(yōu)選實施例，所述實施例并非用以限制本實用新型的專利保護(hù)范圍，因此凡是運用本實用新型的說明書及附圖內(nèi)容所作的等同結(jié)構(gòu)變化，同理均應(yīng)包含在本實用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種位置可調(diào)的支撐腳裝置，其特征在于，包括: 支撐環(huán)，沿其圓周設(shè)有向上開口的環(huán)形滑槽，所述滑槽內(nèi)固設(shè)第一磁性體，所述第一磁性體低于所述滑槽槽口； 若干支撐腳本體，沿所述支撐環(huán)圓周設(shè)置，所述支撐腳本體為圓柱體，其上表面具有環(huán)形晶片支撐面，其下表面固接第二磁性體，所述第二磁性體下端伸入所述滑槽內(nèi)，并接觸所述第一磁性體形成磁性連接，所述支撐面的中心設(shè)有圓錐臺； 其中，所述第一、第二磁性體之間的極性相反，所述支撐腳本體可通過所述第二磁性體沿所述滑槽移動，所述第二磁性體與所述滑槽之間在槽寬方向留有間隙，以通過所述第二磁性體在所述滑槽的寬度方向內(nèi)調(diào)整其與所述第一磁性體之間的接觸位置，來調(diào)整所述支撐面與所述支撐環(huán)之間的中心距離。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的支撐腳裝置，其特征在于，所述第一磁性體在所述滑槽內(nèi)為連續(xù)的環(huán)形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的支撐腳裝置，其特征在于，所述第一磁性體在所述滑槽內(nèi)為間斷的環(huán)形。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的支撐腳裝置，其特征在于，所述第二磁性體為圓柱形或具有與所述滑槽相配合的弧形。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的支撐腳裝置，其特征在于，所述支撐腳本體的下表面設(shè)有槽孔，所述第二磁性體的上端通過鑲嵌方式或螺釘連接方式固定在所述槽孔內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的支撐腳裝置，其特征在于，所述第二磁性體與所述滑槽之間在槽寬方向留有的間隙距離大于所述第二磁性體下端伸入所述滑槽內(nèi)的高度距離。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的支撐腳裝置，其特征在于，所述第二磁性體的下端外周具有倒角。
8.根據(jù)權(quán)利要求1?7任意一項所述的支撐腳裝置，其特征在于，所述磁性體為磁鐵。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的支撐腳裝置，其特征在于，所述支撐面為平面或斜面。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的支撐腳裝置，其特征在于，所述支撐腳本體的數(shù)量為至少三個。
【專利摘要】本實用新型公開了一種位置可調(diào)的支撐腳裝置，包括支撐環(huán)及沿支撐環(huán)圓周上方滑槽安裝的若干支撐腳本體，支撐腳本體與支撐環(huán)之間通過磁性接觸方式形成軟性連接，可沿支撐環(huán)圓周任意調(diào)節(jié)安裝位置及對心距離，避免機(jī)械手在觸碰時造成損壞；采用環(huán)形支撐面結(jié)構(gòu)，使支撐面相對后移，可縮小支撐環(huán)直徑，避免晶片從支撐環(huán)的內(nèi)徑處跌落，并可實現(xiàn)360度自動對心。本實用新型具有結(jié)構(gòu)簡單、易實現(xiàn)、可不受設(shè)備結(jié)構(gòu)限制、節(jié)省設(shè)備空間的顯著優(yōu)點。
【IPC分類】F16M7-00, H01L21-683
【公開號】CN204481013
【申請?zhí)枴緾N201520181786
【發(fā)明人】李廣義
【申請人】北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司
【公開日】2015年7月15日
【申請日】2015年3月27日