一種位置可調(diào)的支撐腳裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體晶片工藝設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種可調(diào)節(jié)位置及自動對心的支撐腳裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]支撐腳裝置用于擺放晶片，以方便機(jī)械手對晶片進(jìn)行取片。支撐腳裝置一般包括圓環(huán)形支撐環(huán)和沿支撐環(huán)圓周安裝的若干支撐腳。圓盤形晶片水平擺放在各支撐腳的支撐面上，機(jī)械手可從二個支撐腳之間拾取晶片。
[0003]現(xiàn)有的支撐腳裝置通常都是半開放式的，只能調(diào)節(jié)支撐腳到圓心的前后距離。這種支撐腳裝置只需在支撐環(huán)上開設(shè)相應(yīng)的對心槽即可實(shí)現(xiàn)支撐腳的對心及位置調(diào)整，但在實(shí)際應(yīng)用中尚存在一定的局限性。比如，在半導(dǎo)體行業(yè)，根據(jù)設(shè)備本身的結(jié)構(gòu)，機(jī)械手的活動空間會受到一定的限制，取片時(shí)可能會由于支撐腳的安裝位置不當(dāng)，或者由于調(diào)試中對機(jī)械手的誤操作，導(dǎo)致機(jī)械手出現(xiàn)撞車(即觸碰到支撐腳)的情況，嚴(yán)重時(shí)還將造成機(jī)械手的損壞。
[0004]公告號為CN 102840425 B的中國實(shí)用新型專利公開了一種支撐腳裝置，其通過可沿支撐環(huán)圓周調(diào)節(jié)安裝位置的若干支撐腳本體，來支撐放置在其上的晶片。該裝置的設(shè)計(jì)形式雖然可方便地通過調(diào)整支撐腳本體在支撐環(huán)圓周的位置，來滿足機(jī)械手的進(jìn)手空間，以便于機(jī)械手操作，但同時(shí)也存在明顯的問題:
[0005]I)支撐腳本體在安裝后(通過緊固件)，位置即被固定不能移動，在調(diào)試中一旦發(fā)生機(jī)械手撞車的情況，極易損壞機(jī)械手；
[0006]2)由于晶片支撐面位于支撐腳本體的前端，而與支撐環(huán)的裝配位置位于支撐腳本體的后端，使得支撐環(huán)的內(nèi)徑大于晶片的外徑尺寸，這會增加設(shè)備的空間。并且，在機(jī)械手故障或調(diào)試中，當(dāng)發(fā)生機(jī)械手抓取晶片不牢或偏差時(shí)，還會導(dǎo)致晶片滑出支撐面而從支撐環(huán)的內(nèi)徑處落地破碎；
[0007]3)此外，該裝置各部件的結(jié)構(gòu)也較復(fù)雜，造成加工難度大為提高，會帶來設(shè)備制造成本的增加。
[0008]在上述情況下，如果機(jī)械手一旦觸碰到支撐腳時(shí)，支撐腳能夠沿著所在的支撐環(huán)相對自由地滑動或移動，那么即使出現(xiàn)撞車的情況，也不會損壞機(jī)械手；同時(shí)，如果將支撐腳的支撐位置后移以及簡化各部件的結(jié)構(gòu)，也可以節(jié)省設(shè)備本身的空間及制造成本。
[0009]因此，針對現(xiàn)有技術(shù)存在的支撐腳單一性安裝方式的上述缺陷，有必要設(shè)計(jì)一種新型的支撐腳裝置。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0010]本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)存在的上述缺陷，提供一種新型的位置可調(diào)的支撐腳裝置，可克服現(xiàn)有技術(shù)中支撐腳單一性安裝方式的缺陷。
[0011]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下:
[0012]一種位置可調(diào)的支撐腳裝置，包括:
[0013]支撐環(huán)，沿其圓周設(shè)有向上開口的環(huán)形滑槽，所述滑槽內(nèi)固設(shè)第一磁性體，所述第一磁性體低于所述滑槽槽口 ；
[0014]若干支撐腳本體，沿所述支撐環(huán)圓周設(shè)置，所述支撐腳本體為圓柱體，其上表面具有環(huán)形晶片支撐面，其下表面固接第二磁性體，所述第二磁性體下端伸入所述滑槽內(nèi)，并接觸所述第一磁性體形成磁性連接，所述支撐面的中心設(shè)有圓錐臺；
[0015]其中，所述第一、第二磁性體之間的極性相反，所述支撐腳本體可通過所述第二磁性體沿所述滑槽移動，所述第二磁性體與所述滑槽之間在槽寬方向留有間隙，以通過所述第二磁性體在所述滑槽的寬度方向內(nèi)調(diào)整其與所述第一磁性體之間的接觸位置，來調(diào)整所述支撐面與所述支撐環(huán)之間的中心距離。
[0016]優(yōu)選地，所述第一磁性體在所述滑槽內(nèi)為連續(xù)的環(huán)形。
[0017]優(yōu)選地，所述第一磁性體在所述滑槽內(nèi)為間斷的環(huán)形。
[0018]優(yōu)選地，所述第二磁性體為圓柱形或具有與所述滑槽相配合的弧形。
[0019]優(yōu)選地，所述支撐腳本體的下表面設(shè)有槽孔，所述第二磁性體的上端通過鑲嵌方式或螺釘連接方式固定在所述槽孔內(nèi)。
[0020]優(yōu)選地，所述第二磁性體與所述滑槽之間在槽寬方向留有的間隙距離大于所述第二磁性體下端伸入所述滑槽內(nèi)的高度距離。
[0021]優(yōu)選地，所述第二磁性體的下端外周具有倒角。
[0022]優(yōu)選地，所述磁性體為磁鐵。
[0023]優(yōu)選地，所述支撐面為平面或斜面。
[0024]優(yōu)選地，所述支撐腳本體的數(shù)量為至少三個。
[0025]從上述技術(shù)方案可以看出，本實(shí)用新型通過磁性接觸方式形成支撐腳本體與支撐環(huán)之間的軟性連接，既可根據(jù)需要方便地沿支撐環(huán)圓周任意調(diào)節(jié)安裝位置及對心距離，又可使支撐腳本體在受到機(jī)械手觸碰時(shí)沿滑槽產(chǎn)生滑動或脫離滑槽，從而避免了機(jī)械手的損壞；采用環(huán)形支撐面結(jié)構(gòu)，使支撐面相對后移，可縮小支撐環(huán)的直徑，避免晶片從支撐環(huán)的內(nèi)徑處跌落，并可實(shí)現(xiàn)360度自動對心。因此，本實(shí)用新型克服了現(xiàn)有技術(shù)中支撐腳單一性安裝方式的缺陷，具有結(jié)構(gòu)簡單、易實(shí)現(xiàn)、可不受設(shè)備結(jié)構(gòu)限制、節(jié)省設(shè)備空間的顯著優(yōu)點(diǎn)。
【附圖說明】
[0026]圖1是本實(shí)用新型一實(shí)施例的一種位置可調(diào)的支撐腳裝置的裝配效果結(jié)構(gòu)示意圖；
[0027]圖2是本實(shí)用新型一實(shí)施例的一種位置可調(diào)的支撐腳裝置的裝配效果斷開剖面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0028]圖3是本實(shí)用新型一實(shí)施例的支撐環(huán)外形結(jié)構(gòu)示意圖；
[0029]圖4是本實(shí)用新型一實(shí)施例的支撐環(huán)斷開剖面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0030]圖5是本實(shí)用新型一實(shí)施例的支撐腳本體外形結(jié)構(gòu)示意圖；
[0031]圖6是本實(shí)用新型一實(shí)施例的支撐腳本體剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0032]下面結(jié)合附圖，對本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】作進(jìn)一步的詳細(xì)說明。
[0033]需要說明的是，在下述的【具體實(shí)施方式】中，在詳述本實(shí)用新型的實(shí)施方式時(shí)，為了清楚地表示本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)以便于說明，特對附圖中的結(jié)構(gòu)不依照一般比例繪圖，并進(jìn)行了局部放大、變形及簡化處理，因此，應(yīng)避免以此作為對本實(shí)用新型的限定來加以理解。
[0034]在以下本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】中，請參閱圖1，圖1是本實(shí)用新型一實(shí)施例的一種位置可調(diào)的支撐腳裝置的裝配效果結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1所示，本實(shí)用新型的支撐腳裝置包括支撐環(huán)200及沿支撐環(huán)200圓周上方安裝的若干支撐腳本體100。圓形晶片300的邊部放置在位于各個支撐腳本體100之間的支撐腳本體100上端的支撐面上。機(jī)械手將可從二個間距較大的支撐腳本體100之間的開檔位置進(jìn)行取片。為了保證承載晶片300時(shí)的平穩(wěn)，作為不同的可選實(shí)施方式，所述支撐腳本體100的數(shù)量至少為三個，并沿支撐環(huán)200的圓周上方間距安裝?？紤]到需要為機(jī)械手保留足夠的進(jìn)手空間，在本實(shí)施例中，優(yōu)選采用間距安裝的三個支撐腳本體100。各支撐腳本體100的具體安裝位置，可根據(jù)機(jī)械手的進(jìn)手空間要求，在設(shè)備調(diào)試過程中來確定。
[0035]請參閱圖3，圖3是本實(shí)用新型一實(shí)施例的支撐環(huán)外形結(jié)構(gòu)示意圖。如圖3所示，支撐環(huán)200為圓環(huán)形，沿支撐環(huán)200的圓周方向加工有向上開口的環(huán)形滑槽2001。所述滑槽2001的一個用途是在其內(nèi)部放置第一磁性體。并且，第一磁性體是沿著滑槽2001的環(huán)形圓周進(jìn)行放置的。作為可選的實(shí)施方式，所述第一磁性體在所述滑槽2001內(nèi)可以是連續(xù)或間斷的環(huán)形。也就是說，可以采用一個與滑槽2001相配合的圓環(huán)形第一磁性體，并將其放置在滑槽2001內(nèi)；也可以采用若干與滑槽2001相配合的弧形塊狀的第一磁性體，依次放入滑槽2001內(nèi)(相互間可接觸或不接觸)，形成間斷的環(huán)形第一磁性體。所述第一磁性體可采用鑲嵌、膠粘等方式固定安裝在滑槽2001內(nèi)。
[0036]請參閱圖4，圖4是本實(shí)用新型一實(shí)施例的支撐環(huán)斷開剖面結(jié)構(gòu)示意圖。如圖4所示，第一磁性體201被固定在支撐環(huán)200的滑槽2001底部，且第一磁性體201的上表面低于所述滑槽2001的槽口端面。即第一磁性體201與滑槽2001的槽口具有一個垂直高度距離t，這個高度t的空間用于與支撐腳本體100之間進(jìn)行配合安裝(詳見后續(xù)說明)。作為可選的實(shí)施方式，位于第一磁性體201上方部分滑槽2001的槽寬可以適當(dāng)加寬，例如圖示的滑槽2001在第一磁性體201的上方具有大于第一磁性體201寬度的較寬槽寬。這個加寬的槽寬位置，將用于調(diào)節(jié)支撐腳本體100與支撐環(huán)200之間的中心距離(詳見后續(xù)說明)。
[0037]請參閱圖5，圖5是本實(shí)用新型一實(shí)施例的支撐腳本體外形結(jié)構(gòu)示意圖。如圖5所示，支撐腳本體100為圓柱體，其上表面加工有環(huán)形的晶片支撐面1001，在支撐面1001的中心加工有突起的圓錐臺1002?，F(xiàn)有技術(shù)中的晶片支撐面通常設(shè)置在支撐腳本體的前端，因而在安裝支撐腳本體時(shí)，必須使晶片支撐面的中心線指向支撐環(huán)的中心(即對心)。為了方便對心，需要在支撐環(huán)上開設(shè)相應(yīng)的對心槽，或在支撐腳本體上設(shè)計(jì)對心結(jié)構(gòu)。如此不可避免地將帶來設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)的復(fù)雜性及加工制作的高難度。因此，本實(shí)用新型進(jìn)行了針對性優(yōu)化改進(jìn)，將晶片支撐面1001設(shè)計(jì)為環(huán)形結(jié)構(gòu)，可以支撐腳本體100的圓柱體軸線為豎直對稱中心，形成在360度全方位上都可承載晶片的支撐面1001。位于支撐面1001中心的圓錐臺1002具有