本技術屬于膜片位置調節(jié)，尤其涉及下壓結構及陶瓷電容加工設備。

背景技術：

1、片式多層陶瓷電容器(multi-layer?ceramic?chip?capacitors，mlcc)的制造過程包括多個步驟。在進行切割之前，主要包括以下工序：配料、流延、印刷、疊層、制蓋和層壓。其中，疊層階段涉及將印刷了內電極的陶瓷膜片按照設計的錯位要求疊壓在一起，形成mlcc的巴塊(bar)。整個制作過程逐步進行，層層遞進，最終完成mlcc的制造。

2、疊層這工序中的一個步驟，其目的是將保護層和介質層進行疊層，而形成巴塊。在將介質膜疊層介質層的過程中，需要用到下壓結構。下壓結構將附著于膜帶上的多個矩形的介質膜單元，依次移動至上壓臺上，并將后一個介質膜單元層疊設置于上壓臺的前一個介質膜單元上，而兩個介質膜單元進行層疊設置時，沿豎直方向具有位置偏差，或長時間的使用后，下壓結構會產生磨損，而導致誤差的存在。從而降低了介質膜單元的疊加的準確性，最后降低了介質層的精度。

技術實現(xiàn)思路

1、本申請實施例的目的在于提供一種下壓結構，旨在解決如何提高介質膜單元的疊層精度的問題。

2、為實現(xiàn)上述目的，本申請采用的技術方案是：

3、第一方面，提供一種下壓結構，其包括：

4、下壓組件，包括平鋪設置的下壓臺以及連接所述下壓臺并用于驅動所述下壓臺上下移動的升降驅動機構；以及

5、調節(jié)組件，包括相對所述下壓臺布置的下壓固定板、轉動連接所述下壓固定板的下壓調節(jié)板以及角度驅動機構，所述升降驅動機構連接所述下壓調節(jié)板，且所述下壓固定板位于所述下壓調節(jié)板與所述下壓臺之間；

6、其中，所述角度驅動機構驅動所述下壓調節(jié)板相對所述下壓固定板轉動，以使所述升降驅動機構帶動所述下壓臺同步轉動。

7、在一些實施例中，所述角度驅動機構包括沿第一方向滑動連接所述下壓固定板的調節(jié)底座以及連接所述下壓固定板并用于驅動所述調節(jié)底座的角度驅動器，所述下壓調節(jié)板轉動連接所述調節(jié)底座。

8、在一些實施例中，所述調節(jié)底座開設有轉接槽，所述角度驅動機構還包括位于所述轉接槽的調節(jié)轉軸以及轉動連接所述調節(jié)轉軸一端的轉接板，所述調節(jié)轉軸的另一端轉動連接所述調節(jié)底座。

9、在一些實施例中，所述角度驅動機構還包括連接所述調節(jié)轉軸另一端的滑動板，所述滑動板沿第二方向滑動連接所述調節(jié)底座，所述第一方向與所述第二方向正交。

10、在一些實施例中，所述下壓固定板開設有第一避讓孔，所述下壓調節(jié)板對應所述第一避讓孔的位置開設有第二避讓孔，所述升降驅動機構包括導向柱、轉動連接所述下壓調節(jié)板的傳動軸以及連接所述導向柱的一端并用于驅動所述傳動軸的升降驅動器，所述導向柱的另一端穿設依次穿設所述第二避讓孔和所述第一避讓孔并連接所述下壓臺。

11、在一些實施例中，所述升降驅動機構還包括用于支撐所述升降驅動器的升降支撐板，所述導向柱設置多個，各所述導向柱均連接所述升降支撐板，所述第一避讓孔和所述第二避讓孔均間隔布置多個，任一所述第一避讓孔或所述第二避讓孔內均設置有所述導向柱。

12、在一些實施例中，所述升降驅動機構還包括位于所述第二避讓孔內并連接所述導向柱的直線軸承。

13、在一些實施例中，所述調節(jié)組件還包括直線驅動機構，所述下壓固定板沿預定方向線性滑動設置，所述直線驅動機構用于驅動所述下壓固定板沿所述預定方向滑動。

14、在一些實施例中，所述直線驅動機構包括固定設置的直線底座、連接所述直線底座的推動桿以及連接所述直線底座并用于驅動所述推動桿的直線驅動器，所述推動桿抵接所述下壓固定板。

15、第二方面，提供一種陶瓷電容加工設備，其包括所述下壓結構，所述陶瓷電容加工設備還包括視覺檢測結構和控制結構，所述視覺檢測結構用于拍攝和分析所述下壓臺的位置信息，所述控制結構根據(jù)所述位置信息而控制所述下壓結構。

16、本申請的有益效果在于：下壓結構通過角度驅動機構驅動下壓調節(jié)板進行水平轉動，從而可以通過連接下壓調節(jié)板的升降驅動機構進行轉動，升降驅動機構帶動下壓臺進行相同角度的轉動，調節(jié)下壓臺的角度位置，從而使下壓臺以帶動吸附在下壓臺上的介質膜單元進行轉動，以使介質膜單元能夠準確疊加至另一介質膜單元上，提高了介質膜單元的疊層精度。

技術特征：

1.一種下壓結構，其特征在于，包括：

2.如權利要求1所述的下壓結構，其特征在于：所述角度驅動機構包括沿第一方向滑動連接所述下壓固定板的調節(jié)底座以及連接所述下壓固定板并用于驅動所述調節(jié)底座的角度驅動器，所述下壓調節(jié)板轉動連接所述調節(jié)底座。

3.如權利要求2所述的下壓結構，其特征在于：所述調節(jié)底座開設有轉接槽，所述角度驅動機構還包括位于所述轉接槽的調節(jié)轉軸以及轉動連接所述調節(jié)轉軸一端的轉接板，所述調節(jié)轉軸的另一端轉動連接所述調節(jié)底座。

4.如權利要求3所述的下壓結構，其特征在于：所述角度驅動機構還包括連接所述調節(jié)轉軸另一端的滑動板，所述滑動板沿第二方向滑動連接所述調節(jié)底座，所述第一方向與所述第二方向正交。

5.如權利要求1-4任意一項所述的下壓結構，其特征在于：所述下壓固定板開設有第一避讓孔，所述下壓調節(jié)板對應所述第一避讓孔的位置開設有第二避讓孔，所述升降驅動機構包括導向柱、轉動連接所述下壓調節(jié)板的傳動軸以及連接所述導向柱的一端并用于驅動所述傳動軸的升降驅動器，所述導向柱的另一端穿設依次穿設所述第二避讓孔和所述第一避讓孔并連接所述下壓臺。

6.如權利要求5所述的下壓結構，其特征在于：所述升降驅動機構還包括用于支撐所述升降驅動器的升降支撐板，所述導向柱設置多個，各所述導向柱均連接所述升降支撐板，所述第一避讓孔和所述第二避讓孔均間隔布置多個，任一所述第一避讓孔或所述第二避讓孔內均設置有所述導向柱。

7.如權利要求5所述的下壓結構，其特征在于：所述升降驅動機構還包括位于所述第二避讓孔內并連接所述導向柱的直線軸承。

8.如權利要求1-4任一所述的下壓結構，其特征在于：所述調節(jié)組件還包括直線驅動機構，所述下壓固定板沿預定方向線性滑動設置，所述直線驅動機構用于驅動所述下壓固定板沿所述預定方向滑動。

9.如權利要求8所述的下壓結構，其特征在于：所述直線驅動機構包括固定設置的直線底座、連接所述直線底座的推動桿以及連接所述直線底座并用于驅動所述推動桿的直線驅動器，所述推動桿抵接所述下壓固定板。

10.一種陶瓷電容加工設備，其特征在于，包括如權利要求1-9任一所述的下壓結構，所述陶瓷電容加工設備還包括視覺檢測結構和控制結構，所述視覺檢測結構用于拍攝和分析所述下壓臺的位置信息，所述控制結構根據(jù)所述位置信息而控制所述下壓結構。

技術總結
本技術屬于膜片位置調節(jié)技術領域，尤其涉及下壓結構及陶瓷電容加工設備。下壓結構包括：下壓組件，包括平鋪設置的下壓臺以及連接下壓臺并用于驅動下壓臺上下移動的升降驅動機構；以及調節(jié)組件，包括相對下壓臺布置的下壓固定板、轉動連接下壓固定板的下壓調節(jié)板以及角度驅動機構，升降驅動機構連接下壓調節(jié)板，且下壓固定板位于下壓調節(jié)板與下壓臺之間；其中，角度驅動機構驅動下壓調節(jié)板相對下壓固定板轉動，以使升降驅動機構帶動下壓臺同步轉動。本技術可以使介質膜單元能夠準確疊加至另一介質膜單元上，提高了介質膜單元的疊層精度。

技術研發(fā)人員：羅征緒
受保護的技術使用者：深圳市金岷江智能裝備有限公司
技術研發(fā)日：20231229
技術公布日：2024/12/19