本發(fā)明涉及刻蝕終點檢測技術領域，具體涉及一種刻蝕終點檢測設備固定裝置。

背景技術：

隨著集成電路中器件集成密度及復雜度的不斷增加，對半導體工藝過程的嚴格控制顯得尤為重要。目前，半導體工業(yè)中的等離子體刻蝕機常用的等離子體源有電感耦合等離子體、變壓器耦合等離子體以及電子自旋共振等離子體等。這些等離子體源所產生的等離子體具有較高的刻蝕速率，如果工藝控制不合理的話，出現(xiàn)的過度刻蝕很容易造成下一層材料的損傷，進而造成器件失效。因此，必須對刻蝕過程中的一些參數，如刻蝕用的化學氣體、刻蝕時間、刻蝕速率，以及刻蝕選擇比等參數進行嚴格控制。此外，刻蝕機狀態(tài)的細微改變，如反應腔內氣體流量、溫度、氣體的回流狀態(tài)等，都會影響對刻蝕參數的控制。因此，必須經常監(jiān)控刻蝕過程中的各種參數變化，以確保刻蝕過程中刻蝕的一致性。終點檢測設備可以實現(xiàn)刻蝕過程的實時監(jiān)測。

終點檢測設備根據其原理需配合觀察窗進行使用，因此其固定方式是很重要的一個影響因素。目前的固定方式存在外在因素影響多，可調節(jié)范圍小等缺點，因此需要設計一種提高監(jiān)測準確性和效率的固定裝置。

技術實現(xiàn)要素：

為了解決上述問題，本發(fā)明公開一種刻蝕終點檢測設備固定裝置，包括：固定套筒，呈圓筒狀，一端設有平面固定端，以上下可調節(jié)的方式固定于反應腔的觀察窗蓋；探頭固定座，呈圓筒狀，一端封閉且中心開有圓孔，可沿所述固定套筒內壁滑動；以及終點檢測探頭，一端安裝在所述探頭固定座的圓孔處，另一端從所述探頭固定座座內伸出。

優(yōu)選為，所述反應腔的觀察窗蓋外周開設有螺紋孔，所述固定套筒的平面固定端對應開設有長孔。

優(yōu)選為，所述長孔的長度根據所述終點檢測探頭的上下調節(jié)的高度范圍設定。

優(yōu)選為，所述固定套筒設置有緊固件，當所述終點檢測探頭調節(jié)到合適的探測距離后，對所述探頭固定座進行固定。

優(yōu)選為，所述緊固件為開設在所述固定套筒外壁的螺紋通孔和螺栓，當所述終點檢測探頭調節(jié)到合適的探測距離后，使用螺栓對稱穿過所述螺紋通孔，將所述探頭固定座夾緊在該位置。

優(yōu)選為，所述螺紋通孔為兩個，當所述終點檢測探頭距離反應腔觀察窗較近時使用靠近所述反應腔觀察窗的螺紋通孔，當距離所述反應腔觀察窗較遠時使用遠離所述反應腔觀察窗的螺紋通孔。

優(yōu)選為，其材質為鋁或不銹鋼。

附圖說明

圖1是刻蝕終點檢測設備固定裝置的立體結構示意圖。

圖2是刻蝕終點檢測設備固定裝置的剖面結構示意圖。

圖3是反應腔觀察窗的立體結構示意圖。

圖4是固定套筒的立體結構示意圖。

圖5是探頭固定座的立體結構示意圖。

圖6是探測距離l＝0時探頭固定座與固定套筒相對位置的示意圖。

圖7是探測距離l＝l2時探頭固定座與固定套筒相對位置的示意圖。

圖8是刻蝕終點檢測設備固定裝置的使用效果圖。

附圖標記：

1～反應腔的觀察窗蓋；11～固定用螺紋孔；12～調節(jié)用螺紋孔；2～固定套筒；21～平面固定端；22～長孔；23～靠近反應腔觀察窗的螺紋通孔；24～遠離反應腔觀察窗的螺紋通孔；3～探頭固定座；31～圓孔；4～終點檢測探頭；5～反應腔觀察窗玻璃；6～晶圓；7～反應腔。

具體實施方式

為了使本發(fā)明的目的、技術方案及優(yōu)點更加清楚明白，下面將結合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，應當理解，此處所描述的具體實施例僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其它實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。

在本發(fā)明的描述中，需要理解的是，術語"上"、"下"、“左”、“右”、“內”、“外”等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作，因此不能理解為對本發(fā)明的限制。

圖1是刻蝕終點檢測設備固定裝置的立體示意圖。圖2是刻蝕終點檢測設備固定裝置的剖面結構示意圖。如圖1和圖2所示，刻蝕終點檢測設備固定裝置包括固定套筒2、探頭固定座3和終點檢測探頭4。材質為鋁、不銹鋼或其他不透光的材料。

固定套筒2安裝在反應腔的觀察窗蓋1上。反應腔的觀察窗蓋1與反應腔的觀察窗玻璃5配合安裝后固定在腔體上。在具體的一例中，如圖3所示，反應腔的觀察窗蓋1的外周開設有多個固定用螺紋孔11，通過螺栓與腔體表面的螺紋孔配合安裝。該多個固定用螺紋孔11優(yōu)選均勻分布在反應腔的觀察窗蓋的外周，以使反應腔的觀察窗蓋1與腔體緊密安裝。固定套筒2呈圓筒狀，一端設有平面固定端21，平面固定端21以上下可調節(jié)的方式固定于反應腔的觀察窗蓋1。在具體的一例中，如圖3所示，反應腔的觀察窗蓋1的外周對稱開設有兩個調節(jié)用螺紋孔12，在固定套筒2的平面固定端21的左右兩側設有長孔22，如圖4所示，兩者配合安裝，實現(xiàn)固定套筒2的上下調節(jié)。長孔22的長度決定固定套筒2的上下可調節(jié)的高度范圍。換句話說，長孔22的長度根據固定套筒2所需的上下調節(jié)范圍進行設定。但是本發(fā)明不限定于此，例如也可以通過在反應腔的觀察窗蓋1上對稱設置凸部，在固定套筒2的平面固定端21的左右兩側設置卡槽，使凸部能在卡槽中上下移動?？傊灰軌蚴构潭ㄌ淄惨陨舷驴烧{節(jié)的方式安裝于反應腔的觀察窗蓋即可。

探頭固定座3呈一端封閉式的圓筒狀，中心開有圓孔31，如圖5所示。終點檢測探頭4的一端安裝在探頭固定座3的封閉端的圓孔31處，另一端沿固定套筒2內部伸出。這種設計可保證終點檢測探頭主體位于探頭固定座的筒狀結構內，從而能夠有效擋住外部的光線，消除外部光線等的影響。在本發(fā)明的具體一例中，如圖2所示，使用螺栓將終點檢測探頭4固定在探頭固定座3上。但是本發(fā)明不限定于此，例如也可以將終點檢測探頭4和探頭固定座3設計為一體式結構。

探頭固定座3可沿固定套筒2的內壁滑動，帶動終點檢測探頭4接近或遠離反應腔的觀察窗，實現(xiàn)終點檢測探頭探測距離l的調節(jié)。在圖6中示出了探測距離l＝0時探頭固定座與固定套筒相對位置的示意圖。在圖7中示出了探測距離l＝l2時探頭固定座與固定套筒相對位置的示意圖。

固定套筒2設置有緊固件，當終點檢測探頭4調節(jié)到合適的探測距離后，對探頭固定座3進行固定。在具體的一例中，如圖1，緊固件為開設在固定套筒2外壁的螺紋通孔和螺栓，當終點檢測探頭4調節(jié)到合適的探測距離后，使用螺栓對稱穿過螺紋通孔，將探頭固定座3夾緊在該位置。進一步優(yōu)選地，如圖4所示，設置兩個螺紋通孔23、24，當所述終點檢測探頭4距離反應腔觀察窗較近時使用靠近反應腔觀察窗的螺紋通孔23，當距離所述反應腔觀察窗較遠時使用遠離反應腔觀察窗的螺紋通孔24。但是，本發(fā)明不限定于此，緊固件也可以采用其他任何合適的結構，只要能夠實現(xiàn)對探頭固定座的固定即可。

圖8是刻蝕終點檢測設備固定裝置的使用效果圖。如圖8所示，刻蝕終點檢測設備以上下可調節(jié)的方式安裝在反應腔的觀察窗蓋1上，反應腔的觀察窗蓋1與反應腔觀察窗玻璃5配合安裝后固定在反應腔7上，從而實現(xiàn)對刻蝕終點檢測設備的安裝固定，并且可根據具體參數調節(jié)刻蝕終點檢測設備的檢測范圍，對晶圓6的刻蝕工藝進行實時監(jiān)測。本發(fā)明可以有效的提高終點檢測設備的檢測準確性和效率，該設計極大程度的減少了外部光線等對檢測結果的影響，同時可調整范圍大，滿足諸多需求，且操作簡單。

本發(fā)明適用于任何需要對刻蝕終點檢測設備進行固定的場合，尤其是等離子體刻蝕機反應腔的終點檢測設備固定。

以上所述，僅為本發(fā)明的具體實施方式，但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術領域的技術人員在本發(fā)明揭露的技術范圍內，可輕易想到的變化或替換，都應涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內。