1.一種薄膜晶體管,其特征在于,包括:柵極、有源層、源極和漏極;
其中,所述柵極形成于柵極金屬層,所述有源層形成于氧化物半導(dǎo)體層,所述源極和所述漏極形成于源漏金屬層,所述源漏金屬層位于所述氧化物半導(dǎo)體層遠(yuǎn)離所述柵極金屬層的一側(cè),且所述源極和所述漏極與所述有源層相接觸;
所述柵極與所述有源層之間設(shè)有柵極絕緣層;
所述柵極絕緣層對(duì)任意波長(zhǎng)為λ1的光的透過率低于對(duì)任意波長(zhǎng)為λ2的光的透過率;
其中400nm≤λ1≤480nm,480nm<λ2≤780nm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述柵極絕緣層的厚度為d,所述柵極絕緣層對(duì)波長(zhǎng)為λ1的光的折射率為n10,所述柵極絕緣層對(duì)波長(zhǎng)為λ2的光的折射率為n20;
對(duì)于任意的λ1,λ2,滿足:
其中,[a]表示不大于a的正整數(shù),或
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述柵極絕緣層的厚度為d,所述柵極絕緣層對(duì)波長(zhǎng)為λ1的光的折射率為n10,所述柵極絕緣層對(duì)波長(zhǎng)為λ2的光的折射率為n20;
對(duì)于任意的λ1,λ2,滿足:
其中,[b]表示不大于b的正整數(shù),或
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述柵極絕緣層的材料為二氧化硅。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述柵極絕緣層包括第一柵極絕緣層和第二柵極絕緣層;
所述第二柵極絕緣層位于所述第一柵極絕緣層遠(yuǎn)離所述柵極金屬層的一側(cè);
所述第一柵極絕緣層對(duì)于任意波長(zhǎng)為λ1的光的折射率大于所述第二柵極絕緣層對(duì)于任意波長(zhǎng)為λ1的光的折射率;
所述第一柵極絕緣層對(duì)于任意波長(zhǎng)為λ2的光的折射率大于所述第二柵極絕緣層對(duì)于任意波長(zhǎng)為λ2的光的折射率。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述第一柵極絕緣層對(duì)任意波長(zhǎng)為λ1的光的透過率高于對(duì)任意波長(zhǎng)為λ2的光的透過率;
所述第二柵極絕緣層對(duì)任意波長(zhǎng)為λ1的光的透過率高于對(duì)任意波長(zhǎng)為的λ2的光的透過率。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述第一柵極絕緣層對(duì)于任意波長(zhǎng)為λ3的光的折射率為n1,所述第二柵極絕緣層對(duì)于任意波長(zhǎng)為λ3的光的折射率為n2,1.88≤n1≤2.15,1.45≤n2≤1.60;
其中,400nm≤λ3≤780nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述第一柵極絕緣層的厚度為d1,所述第一柵極絕緣層對(duì)波長(zhǎng)為λ1的光的折射率為n11,所述第一柵極絕緣層對(duì)波長(zhǎng)為λ2的光的折射率為n12;
對(duì)于任意的λ1,λ2,滿足:
其中,[x]表示不大于x的正整數(shù),或
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述第一柵極絕緣層的厚度為d1,所述第一柵極絕緣層對(duì)波長(zhǎng)為λ1的光的折射率為n11,所述第一柵極絕緣層對(duì)波長(zhǎng)為λ2的光的折射率為n12;
對(duì)于任意的λ1,λ2,滿足:
其中,[x]表示不大于x的正整數(shù),或
10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述第二柵極絕緣層的厚度為d2,所述第二柵極絕緣層對(duì)波長(zhǎng)為λ1的光的折射率為n21,所述第二柵極絕緣層對(duì)波長(zhǎng)為λ2的光的折射率為n22;對(duì)于任意的λ1,λ2,滿足:
其中,[y]表示不大于y的正整數(shù),或
11.根據(jù)權(quán)利要求5所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述第二柵極絕緣層的厚度為d2,所述第二柵極絕緣層對(duì)波長(zhǎng)為λ1的光的折射率為n21,所述第二柵極絕緣層對(duì)波長(zhǎng)為λ2的光的折射率為n22;對(duì)于任意的λ1,λ2,滿足:
其中,[y]表示不大于y的正整數(shù),或
12.根據(jù)權(quán)利要求5所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述第一柵極絕緣層的厚度為d1,所述第一柵極絕緣層對(duì)波長(zhǎng)為λ1的光的折射率為n11,所述第一柵極絕緣層對(duì)波長(zhǎng)為λ2的光的折射率為n12;所述第二柵極絕緣層的厚度為d2,所述第二柵極絕緣層對(duì)波長(zhǎng)為λ1的光的折射率為n21,所述第二柵極絕緣層對(duì)波長(zhǎng)為λ2的光的折射率為n22;對(duì)于任意的λ1,λ2,滿足:
其中,[z]表示不大于z的正整數(shù),或
13.根據(jù)權(quán)利要求5所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述第一柵極絕緣層的厚度為d1,所述第一柵極絕緣層對(duì)波長(zhǎng)為λ1的光的折射率為n11,所述第一柵極絕緣層對(duì)波長(zhǎng)為λ2的光的折射率為n12;所述第二柵極絕緣層的厚度為d2,所述第二柵極絕緣層對(duì)波長(zhǎng)為λ1的光的折射率為n21,所述第二柵極絕緣層對(duì)波長(zhǎng)為λ2的光的折射率為n22;對(duì)于任意的λ1,λ2,滿足:
其中,[z]表示不大于z的正整數(shù),或
14.根據(jù)權(quán)利要求5所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述第一柵極絕緣層的厚度為d1,所述第二柵極絕緣層的厚度為d2;
當(dāng)70nm≤d1≤90nm時(shí),90nm≤d2≤110nm;
當(dāng)200nm≤d1≤220nm時(shí),100nm≤d2≤150nm,或270nm≤d2≤300nm;
當(dāng)75nm≤d1≤85nm時(shí),105nm≤d2≤115nm;
當(dāng)200nm≤d1≤210nm時(shí),105nm≤d2≤115nm,或270nm≤d2≤280nm。
15.根據(jù)權(quán)利要求5所述的薄膜晶體管,其特征在于,所述第一柵極絕緣層的材料為氮化硅,所述第二柵極絕緣層的材料為二氧化硅。
16.一種陣列基板,其特征在于,包括如權(quán)利要求1-15任一項(xiàng)所述的薄膜晶體管。
17.一種顯示面板,其特征在于,包括如權(quán)利要求16所述的陣列基板。