本發(fā)明涉及一種清洗架，尤其涉及一種緩慢提升清洗架。

背景技術(shù)：

在電子元件生產(chǎn)過程中，硅片的清洗至關(guān)重要，清洗的目的是要消除吸附在硅片表面的各類污染物，并制做能夠減少表面太陽光反射的絨面結(jié)構(gòu)，且清洗的潔凈程度直接影響著電池片的成品率和可靠率。制絨是制造晶硅電池的第一道工藝，又稱“表面織構(gòu)化”。有效的絨面結(jié)構(gòu)使得入射光在硅片表面多次反射和折射，增加了光的吸收，降低了反射率，有助于提高電池的性能?，F(xiàn)有技術(shù)中通過在鹽酸槽中同時引入鹽酸管道與氫氟酸管道，在氫氟酸槽中同時引入氫氟酸管道與鹽酸管道，從而可方便地獲得鹽酸與氫氟酸的混合溶液，方便進行上述單晶硅片制絨的清洗。但是在實際清洗的過程中硅片在鹽酸槽中液面擾動較大，從而對置于其中的硅片的細(xì)微元器件有可能造成一定的形變等。

現(xiàn)有的技術(shù)手段是通過機械手的抓取將產(chǎn)品片盒緩慢的放入清洗槽中，這種自上而下的放置方式容易對液面進行干擾，同時取出時也會對產(chǎn)品在溶液中的位置進行干擾，造成液面擾動很大，影響硅片的成品質(zhì)量。

如果通過慢轉(zhuǎn)電機可以實現(xiàn)緩慢提升的功效，但是電機配套的減速器占用空間很大，在清洗槽內(nèi)都是溶液的情況下，很難分布，對于有限空間內(nèi)如何利用電機運轉(zhuǎn)成為廠家在制造設(shè)備時的一大難題。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于：提供一種緩慢提升清洗架，將產(chǎn)品片盒置于清洗架中放入和取出溶液，在慢轉(zhuǎn)電機的作用下保證提升過程的緩慢和平穩(wěn)，減少對液面的擾動。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明的技術(shù)方案是：一種緩慢提升清洗架，包括提升架、位于提升架下方的電機組件和產(chǎn)品片盒；所述的提身架位于所述的產(chǎn)品片盒的下方，承載所述的產(chǎn)品片盒；所述的電機組件位于所述的提升架的下方，通過履帶與所述的提升架連接。

所述的提升架包括移動底板、升降滑軌、滑動護板、提升滑輪、限位頂板、限位底板、縱向底板和橫向底板；所述的移動底板位于所的提升架的底部，與所述的限位底板相抵觸；所述的升降滑軌豎直貫穿所述的移動底板，與所述的移動底板相配合，所述的移動底板在所述的升降滑軌上自由滑動；所述的滑動護板位于所述的升降滑軌上，與所述的升降滑軌相配合，同時與所述的限位底板固定連接；所述的限位頂板位于所述的升降滑軌的頂端，與所述的升降滑軌固定連接；所述的提升滑輪位于所述的限位頂板的兩側(cè)，與所述的限位頂板固定連接，同時通過履帶分別與所述的移動底板和電機組件連接；所述的限位底板位于所述的滑動護板的下方，一端與所述的升降滑軌配合連接，下方與所述的移動底板相抵觸，一端水平延伸，與所述的滑動護板固定連接；所述的縱向底板垂直于所述的限位底板，與所述的縱向底板固定連接；所述的橫向底板平行與所述的限位底板，與所述的縱向底板固定連接。

進一步的，所述的移動底板上設(shè)置有滑動轉(zhuǎn)軸；所述的滑動轉(zhuǎn)軸有兩個，對稱分布在所述的移動底板上，通過履帶與所述的提升滑輪連接。

進一步的，所述的升降滑軌、滑動護板、限位底板和提升滑輪的數(shù)量保持一致，均為兩個，對稱分布在所述的提升架的兩側(cè)。

進一步的，所述的滑動護板上設(shè)置有若干通孔。

進一步的，所述的縱向底板的數(shù)量不少于四個，外形與所述的產(chǎn)品片盒的底部相配合。

進一步的，所述的橫向底板的數(shù)量不少于四個，兩兩分布在兩個所述的縱向底板之間。

進一步的，所述的電機組件包括電機底板、傳動轉(zhuǎn)軸、驅(qū)動電機主軸、減速器、傳動滑輪、轉(zhuǎn)軸架和轉(zhuǎn)軸底板；所述的電機底板位于所述的電機組件的最下方，與所述的轉(zhuǎn)軸底板固定連接；電機位于所述的電機底板上，通過所述的驅(qū)動電機主軸與所述的減速器固定連接；所述的傳動轉(zhuǎn)軸貫穿所述的減速器，向所述的減速器的兩側(cè)延伸；所的轉(zhuǎn)軸架位于所述的傳動轉(zhuǎn)軸的一端，所述的傳動轉(zhuǎn)軸穿過所述的轉(zhuǎn)軸架；所述的轉(zhuǎn)軸底板位于所述的轉(zhuǎn)軸架的下方，與所述的轉(zhuǎn)軸架和電機底板固定連接；所述的傳動滑輪位于所述的傳動轉(zhuǎn)軸的一端外側(cè)，同時位于所述的轉(zhuǎn)軸架的外側(cè)，與所述的傳動轉(zhuǎn)軸固定連接，通過履帶與所述的提升架連接。

進一步的，所述的轉(zhuǎn)軸架和傳動滑輪的數(shù)量保持一致，均為兩個，對稱分布在所述的減速器的兩側(cè)。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的一種緩慢提升清洗架可以通過電機慢轉(zhuǎn)緩慢平穩(wěn)地提升或下降整個提升架，將產(chǎn)品穩(wěn)定地放入溶液中，通過電機組件降低轉(zhuǎn)速，同時保證提升架的空間可以限制在清洗槽內(nèi)，提高升降的平穩(wěn)性，提高產(chǎn)品的質(zhì)量。

附圖說明

圖1示出本發(fā)明的主視圖。

圖2示出本發(fā)明的左視圖。

圖3示出本發(fā)明的俯視圖。

圖4示出本發(fā)明的電機組件的主視圖。

其中：1.產(chǎn)品片盒、2.提升架、3.電機組件、4.移動底板、5.升降滑軌、6.滑動護板、7.提升滑輪、8.限位底板、9.限位頂板、10.縱向底板、11.橫向底板、12.通孔、13.傳動滑輪、14.轉(zhuǎn)軸架、15.傳動轉(zhuǎn)軸、16.減速器、17.驅(qū)動電機主軸、18.轉(zhuǎn)軸底板、19.電機底板、20.滑動轉(zhuǎn)軸。

具體實施方式

如圖所示，一種緩慢提升清洗架，包括提升架2、位于提升架下方的電機組件3和產(chǎn)品片盒1；所述的提身架2位于所述的產(chǎn)品片盒1的下方，承載所述的產(chǎn)品片盒1，作為移動的主體使用；所述的電機組件3位于所述的提升架2的下方，通過履帶與所述的提升架2連接，提供升降所需的動力。

所述的提升架2包括移動底板4、升降滑軌5、滑動護板6、提升滑輪7、限位頂板9、限位底板8、縱向底板10和橫向底板11；所述的移動底板4位于所的提升架2的底部，與所述的限位底板8相抵觸，通過履帶拉動做提升或下降動作，帶動整個所述的提升架2上升或下降；所述的升降滑軌5豎直貫穿所述的移動底板4，與所述的移動底板4相配合，所述的移動底板4在所述的升降滑軌5上自由滑動，作為升降運動的軌道使用；所述的滑動護板6位于所述的升降滑軌5上，與所述的升降滑軌5相配合，同時與所述的限位底板8固定連接，提供所述的提升架2移動時的橫向強度，保持所述的產(chǎn)品片盒1的穩(wěn)定性；所述的限位頂板9位于所述的升降滑軌5的頂端，與所述的升降滑軌5固定連接，限制所述的提升架2的上升高度；所述的提升滑輪7位于所述的限位頂板9的兩側(cè)，與所述的限位頂板9固定連接，同時通過履帶分別與所述的移動底板4和電機組件3連接，電機轉(zhuǎn)動時通過所述的電機組件3將動力傳遞給所述的移動底板4，所述的移動底板4進行移動帶動整個所述的提升架2進行移動；所述的限位底板8位于所述的滑動護板6的下方，一端與所述的升降滑軌5配合連接,，下方與所述的移動底板4相抵觸，一端水平延伸，與所述的滑動護板6固定連接，作為所述的產(chǎn)品片盒1的底板支撐使用；所述的縱向底板10垂直于所述的限位底板8，與所述的限位底板8固定連接，作為所述的產(chǎn)品片盒1的縱向底座使用；所述的橫向底板11平行與所述的限位底板8，與所述的縱向底板10固定連接，作為所述的產(chǎn)品片盒1的橫向底座使用。

進一步的，所述的移動底板4上設(shè)置有滑動轉(zhuǎn)軸20；所述的滑動轉(zhuǎn)軸20有兩個，對稱分布在所述的移動底板4上，通過履帶與所述的提升滑輪7連接，履帶固定在所述的滑動轉(zhuǎn)軸20上，通過所述的提升滑輪拉升或下降。

進一步的，所述的升降滑軌5、滑動護板6、限位底板8和提升滑輪7的數(shù)量保持一致，均為兩個，對稱分布在所述的提升架2的兩側(cè)，保持整個所述的提升架2的穩(wěn)定。

進一步的，所述的滑動護板6上設(shè)置有若干通孔12，用于滲入和排出清洗用的溶液。

進一步的，所述的縱向底板10的數(shù)量不少于四個，外形與所述的產(chǎn)品片盒1的底部相配合，固定所述的產(chǎn)品片盒1，可以保證一件所述的提升架2可以承載多個所述的產(chǎn)品片盒1。

進一步的，所述的橫向底板11的數(shù)量不少于四個，兩兩分布在兩個所述的縱向底板10之間，可以承載多個所述的產(chǎn)品片盒1。

進一步的，所述的電機組件3包括電機底板19、傳動轉(zhuǎn)軸15、驅(qū)動電機主軸17、減速器16、傳動滑輪13、轉(zhuǎn)軸架14和轉(zhuǎn)軸底板18；所述的電機底板19位于所述的電機組件3的最下方，與所述的轉(zhuǎn)軸底板18固定連接，作為電機的固定底板使用；電機位于所述的電機底板19上，通過所述的驅(qū)動電機主軸17與所述的減速器16固定連接，用于提供動力；所述的傳動轉(zhuǎn)軸15貫穿所述的減速器16，向所述的減速器16的兩側(cè)延伸，用于傳遞所述的驅(qū)動電機主軸17上傳遞的扭矩；所的轉(zhuǎn)軸架14位于所述的傳動轉(zhuǎn)軸15的一端，所述的傳動轉(zhuǎn)軸15穿過所述的轉(zhuǎn)軸架14，用于固定所述的傳動轉(zhuǎn)軸15；所述的轉(zhuǎn)軸底板18位于所述的轉(zhuǎn)軸架14的下方，與所述的轉(zhuǎn)軸架14和電機底板19固定連接，作為所述的轉(zhuǎn)軸架14的固定底板使用；所述的傳動滑輪13位于所述的傳動轉(zhuǎn)軸15的一端外側(cè)，同時位于所述的轉(zhuǎn)軸架14的外側(cè)，與所述的傳動轉(zhuǎn)軸15固定連接，通過履帶與所述的提升架2連接，用于傳遞移動動力。

進一步的，所述的轉(zhuǎn)軸架14和傳動滑輪13的數(shù)量保持一致，均為兩個，對稱分布在所述的減速器16的兩側(cè)，與所述的提升滑輪7相對應(yīng)，保證所述的提升架2的兩端移動速度一致。

使用時，所述的提升滑輪7、傳動滑輪13和滑動轉(zhuǎn)軸20通過履帶連接；所述的驅(qū)動電機主軸17開啟，通過所述的減速器16降低轉(zhuǎn)速，傳遞到所述的傳動轉(zhuǎn)軸15上，進過所述的傳動滑輪13的轉(zhuǎn)動帶動履帶，從而帶動所述的提升滑輪7轉(zhuǎn)動，履帶拉動所述的滑動轉(zhuǎn)軸20向上運動，帶動所述的移動底板4向上運動，帶動所述的限位底板8向上移動，而所述的滑動護板6與所述的限位底板8固定連接，通過所述的限位底板8向上運動，將向上的作用力分散到所述的滑動護板6上，從而將整個所述的提升架2平穩(wěn)的向上滑動，達(dá)到提升的目的，在下降時，通過所述的提升架2的自身重力和所述的限位底板8的限制，將其緩慢下降。

通過將電機和減速器置于清洗槽的底部，通過外側(cè)履帶傳動來節(jié)約空間，同時通過提升架的自身機構(gòu)設(shè)計保證運動的平穩(wěn)性從而達(dá)到目的。

最后需要說明的是，以上實施例僅用以說明本發(fā)明的技術(shù)方案而非限制性技術(shù)方案，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，那些對本發(fā)明的技術(shù)方案進行修改或者等同替換，而不脫離本技術(shù)方案的宗旨和范圍，均應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的權(quán)利要求范圍當(dāng)中。